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公开(公告)号：CN104046958B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201410247956.1
申请日：2014-06-06
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , B82Y40/00 , B82Y30/00
Abstract: 本发明公开了一种用于微纳米颗粒表面修饰的装置，包括：反应腔，其内部形成的空腔用于作为前驱体与微纳米颗粒的反应空间；多个前驱体供应装置，其分别通过管道与所述反应腔相通以提供不同的前驱体；载气输送系统，前驱体通过该载气输送系统输出的载气输送到反应腔中；以及粉体颗粒装载装置，用于承载待修饰的微纳米颗粒；通过多个前驱体供应装置分别向反应腔交替地输送前驱体，并进入旋转的粉体颗粒装载装置中以与微纳米颗粒表面接触进行原子层沉积反应，从而在微纳米颗粒的表面形成包覆薄膜，实现表面修饰。本发明还公开了利用上述装置进行微纳米颗粒的表面修饰的方法。本发明可以获得颗粒表面高均匀性的包覆层，并提高粉体颗粒的整体包覆率和前驱体的利用率。
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公开(公告)号：CN104046957B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201410247806.0
申请日：2014-06-06
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开了一种三氢化铝表面包覆改性方法，采用原子层沉积技术在三氢化铝粉末表面沉积纳米厚度的金属氧化物或金属物质将其包覆，以提高三氢化铝粉末热稳定性，包括，S1：将三氢化铝粉体放入腔体内并抽真空；S2：加热腔体到设定温度且温度均匀稳定后，通入流化气，使三氢化铝预分散；S3：原子层沉积反应，当腔体内的温度达到50～130℃时，开始原子层沉积反应；S4：重复多次原子层沉积反应，使粉体表面沉积厚度不断增长，通过控制沉积反应循环的次数从而控制在三氢化铝粉体表面沉积的金属氧化物或金属的厚度，实现三氢化铝粉体包面包覆厚度为1～1000nm包覆层，以实现粉体的稳定化。
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公开(公告)号：CN113774358A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202111067752.6
申请日：2021-09-13
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/20 , C23C16/44
Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置，包括：反应容器，反应容器的内部形成反应腔体；进气组件，进气组件包括进气件，进气件与反应容器连接，进气件上设置有能够与反应腔体连通的进气口；出料组件，出料组件包括出料塞与出料管，出料管与反应容器连接，出料塞设置于出料管的内部，出料塞位于与反应腔体连通的出料口的下方，出料塞与出料管之间形成供粉料流出的出料通道；驱动件，驱动件与出料塞连接，驱动件用于驱动出料塞沿竖直方向移动，以使出料塞与出料口接触或分离。该原子层沉积装置中通过出料组件实现出料口的打开与封堵，出料口处不易出现堵塞，出料较为顺畅。
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公开(公告)号：CN113737156A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202110814242.4
申请日：2021-07-19
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置与方法。原子层沉积装置包括：承载组件，承载组件包括用于容纳待包覆粉末的反应腔体；第一喷头，第一喷头位于反应腔体的下方，第一喷头包括多个沿第一方向排布的下喷入通道，以及设置于相邻的下喷入通道之间的下排出通道，下喷入通道用于朝反应腔体喷射气体，下排出通道用于排出反应腔体内的多余气体；气源组件，气源组件与第一喷头连接，气源组件用于向各个下喷入通道供应气体，沿第一方向，相邻的下喷入通道中，其中一个通入的气体为载气；驱动组件，驱动组件用于驱动待包覆粉末沿第一方向运动。该原子层沉积装置可以提高沉积效率，缩短沉积所需的时间。
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公开(公告)号：CN113564564A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110753358.1
申请日：2021-07-02
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458
Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置，反应室包括反应室主体与腔门，反应室主体的内部形成反应腔体，反应室主体上设有进气口与抽气口，腔门与反应室主体可拆卸连接；安装架与腔门固定连接，腔门与反应室主体连接时，安装架位于反应腔体的内部；第一承载件用于承载块状待包覆物，第一承载件与安装架可拆卸连接；第二承载件用于承载粉状待包覆物，第二承载件与安装架可拆卸连接；第一使用状态下，第一承载件与安装架固定连接；第二使用状态下，第二承载件与安装架连接，且驱动件与第二承载件连接，驱动件用于驱动第二承载件相对于安装架转动。该原子层沉积装置可以对不同类型的待包覆物进行沉积，适用范围更广。
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公开(公告)号：CN110931713A
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201911292224.3
申请日：2019-12-13
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01M4/1391 , H01M4/04 , H01M4/131
Abstract: 本发明属于锂离子电池领域，并具体公开了一种锂离子电池正极及其制备方法，包括如下步骤：S1将待修饰粉体装入反应腔体内，并使反应腔体处于真空状态，然后转动反应腔体并对其进行加热，使待修饰粉体均匀分布在反应腔体内；S2向反应腔体内交替通入前驱体和吹扫气体，前驱体与待修饰粉体反应，使待修饰粉体表面形成一层氧化物薄膜；S3重复S2若干次，使待修饰粉体表面形成若干层氧化物薄膜，完成粉体修饰；S4将修饰后的粉体调配成浆料涂覆在金属片上，并真空干燥，完成锂离子电池正极制备。本发明通过在锂离子电池正极材料粉末表面沉积氧化物膜，提高锂离子电池正极在充电和放电过程中的稳定性，增加锂离子电池的使用寿命。
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公开(公告)号：CN109576673A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811502555.0
申请日：2018-12-10
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , B82Y40/00
Abstract: 本发明属于真空镀膜相关技术领域，并公开了一种用于微纳米颗粒充分分散包覆的超声流化原子层沉积装置，其包括载气及反应前驱体供给组件、反应腔体和超声振动组件，其中载气及反应前驱体供给组件为原子层沉积反应提供全区体反应物、载气和吹扫过程中需要的惰性气体；反应腔体作为原子层沉积反应的发生区域，前驱体进入反应腔体部分在基底表面沉积成膜；超声振动组件用于产生超声振动并传递给反应腔体部分，破解微纳米颗粒之间的软团聚，使颗粒在原子层沉积反应过程中处于分散状态，实现薄膜在单个颗粒表面的生长。通过本发明，能够克服大批量粉体颗粒仅在气流作用下无法完全流化分散的缺点，使纳米颗粒在气流和超声振动作用下获得更充分的分散。
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公开(公告)号：CN104046958A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410247956.1
申请日：2014-06-06
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , B82Y40/00 , B82Y30/00
Abstract: 本发明公开了一种用于微纳米颗粒表面修饰的装置，包括：反应腔，其内部形成的空腔用于作为前驱体与微纳米颗粒的反应空间；多个前驱体供应装置，其分别通过管道与所述反应腔相通以提供不同的前驱体；载气输送系统，前驱体通过该载气输送系统输出的载气输送到反应腔中；以及粉体颗粒装载装置，用于承载待修饰的微纳米颗粒；通过多个前驱体供应装置分别向反应腔交替地输送前驱体，并进入旋转的粉体颗粒装载装置中以与微纳米颗粒表面接触进行原子层沉积反应，从而在微纳米颗粒的表面形成包覆薄膜，实现表面修饰。本发明还公开了利用上述装置进行微纳米颗粒的表面修饰的方法。本发明可以获得颗粒表面高均匀性的包覆层，并提高粉体颗粒的整体包覆率和前驱体的利用率。
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公开(公告)号：CN104046957A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410247806.0
申请日：2014-06-06
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开了一种三氢化铝表面包覆改性方法，采用原子层沉积技术在三氢化铝粉末表面沉积纳米厚度的金属氧化物或金属物质将其包覆，以提高三氢化铝粉末热稳定性，包括，S1：将三氢化铝粉体放入腔体内并抽真空；S2：加热腔体到设定温度且温度均匀稳定后，通入流化气，使三氢化铝预分散；S3：原子层沉积反应，当腔体内的温度达到50～130℃时，开始原子层沉积反应；S4：重复多次原子层沉积反应，使粉体表面沉积厚度不断增长，通过控制沉积反应循环的次数从而控制在三氢化铝粉体表面沉积的金属氧化物或金属的厚度，实现三氢化铝粉体包面包覆厚度为1～1000nm包覆层，以实现粉体的稳定化。
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