一种碳化硅表面改性方法
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110551979B

    公开(公告)日:2021-04-13

    申请号:CN201910896598.X

    申请日:2019-09-23

    Abstract: 本发明一种碳化硅表面改性方法,采用PVD(物理气相沉积)改性,先将基片清洗干净,检测改性前粗糙度,后放入整洁的镀膜机内,同时,在镀膜机相应位置放入膜料镍(Ni)、硅(Si);提高镀膜机真空室内的真空度,达到改性标准后,先镀制膜料镍(Ni)、在镀制膜料硅(Si),改性完成后检测粗糙度。相比较于传统PVD(物理气相沉积)改性方法,本方法可以直接降低基片表面粗糙度,省去改性后光学研抛过程,节省了光学研抛过程中耗费的人力、物力、财力,规避了相应的风险。

    一种大口径无孔光学元件的镀膜装置及方法

    公开(公告)号:CN115852324A

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202211338463.X

    申请日:2022-10-28

    Abstract: 本发明公开了一种大口径无孔光学元件的镀膜装置,包括主动轴、从动轴、齿轮组、磁控溅射源和修正板;主动轴的自转带动从动轴的自转及绕主动轴轴线的公转;光学元件固定安装于第二齿轮上方,光学元件与从动轴同步运动;磁控溅射源设于光学元件上方且位置固定,修正板上设有开口,磁控溅射源通过修正板对光学元件上表面进行镀膜。本发明还公开了一种大口径无孔光学元件的镀膜方法,通过设置修正系数向量确定修正板中各区域中开口的尺寸,再根据镀膜面上膜层各点的厚度值绘制膜厚分布曲线,根据膜厚分布曲线不断调整修正系数向量后,利用修正板对光学元件进行镀膜。本发明实现了对中心无孔光学元件的镀膜及膜厚均匀性的调整。

    一种光学遥感器双路调焦控制系统及控制方法

    公开(公告)号:CN103676710A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310577141.5

    申请日:2013-11-18

    Abstract: 一种光学遥感器双路调焦控制系统及控制方法,涉及空间光学遥感器技术领域。它包括两个电机驱动单元、两个焦面位置遥测单元、焦面调焦控制单元。两个电机驱动单元共同驱动外部的焦面结构组件轴向移动;两个焦面位置遥测单元用于检测直线步进电机驱动焦面结构组件轴向移动的实际距离并发送数字信号至焦面调焦控制单元;焦面调焦控制单元分别向两个电机驱动单元发送脉冲驱动信号,判断两个电机驱动单元驱动焦面结构组件轴向移动的同步性,当比较结果为不同步时,进行修正,实现两个电机驱动单元驱动焦面结构组件在轴向同步移动。本发明调焦驱动力大、占用空间及结构重量只有传统形式的1/2,特别适合大宽幅光学遥感器的需求。

    一种无偏振宽截止带窄带滤光片

    公开(公告)号:CN204575884U

    公开(公告)日:2015-08-19

    申请号:CN201520138375.4

    申请日:2015-03-11

    Abstract: 本实用新型一种无偏振宽截止带窄带滤光片。本实用新型书提供了一种采用金属、介质组合结构从可见到红外波段具有在倾斜入射时无偏振效应、宽截止带和窄带高透过的滤光片设计,包括K9基底和一定厚度的二氧化硅、二氧化钛、银交替叠加构成的50层薄膜材料,第1层与K9基底相连,第50层与入射空气接触。它不同于传统的窄带滤光片,倾斜入射时,它可以同时得到无偏振效应、高的峰值透过率、峰值两端宽的截止带。该专利介绍了该滤光片的设计思路和具体的结构设计,以及在此设计思想下所计算出的窄带滤光片的光学性能及应用等。

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