集成肖特基二极管的氮化镓晶体管的制造方法

    公开(公告)号:CN107104048A

    公开(公告)日:2017-08-29

    申请号:CN201610099350.7

    申请日:2016-02-23

    CPC classification number: H01L29/66462 H01L29/778 H01L29/872

    Abstract: 本发明提供了一种集成肖特基二极管的氮化镓晶体管的制造方法,该方法包括:在硅衬底上表面依次生长氮化镓缓冲层和铝镓氮势垒层;在铝镓氮势垒层上淀积氧化层;对左侧部分区域的氧化层进行刻蚀,形成源极接触孔;对右侧部分区域的氧化层进行刻蚀,形成氧化层开孔,在氧化层开孔内刻蚀铝镓氮势垒层、氮化镓缓冲层及部分硅衬底,形成漏极接触孔;制造集成肖特基二极管的氮化镓晶体管的源极及漏极;制造集成肖特基二极管的氮化镓晶体管的栅极;在硅衬底下表面形成肖特基电极,以使在漏极中的源漏极金属层、硅衬底及肖特基电极形成肖特基二极管。降低了导通电压,减少了开关损耗,减少了无用功耗,进而提高了器件的转换效率及性能。

    氮化镓肖特基二极管的制备方法

    公开(公告)号:CN107104046A

    公开(公告)日:2017-08-29

    申请号:CN201610099349.4

    申请日:2016-02-23

    CPC classification number: H01L29/66143 H01L29/872 H01L2229/00

    Abstract: 本发明提供的一种氮化镓肖特基二极管的制备方法,通过在氮化镓外延片的表面沉积钝化层;制备氮化镓肖特基二极管的阴极;在该钝化层的中心进行干法刻蚀,形成肖特基接触孔;在该肖特基接触孔内,该钝化层的表面和该阴极的表面沉积金属钛,形成欧姆金属层;对该欧姆金属层进行光刻,刻蚀和退火处理,形成呈栅状结构的欧姆金属结构;制备氮化镓肖特基二极管的阳极;其中,欧姆金属结构呈栅状结构,且被阳极包裹。从而实现在不影响氮化镓肖特基二极管输出性能的情况下,减小肖特基结面积,从而减小肖特基接触电阻,提高氮化镓肖特基二极管的器件性能和寿命。

    高电子迁移率晶体管和存储器芯片

    公开(公告)号:CN106935641A

    公开(公告)日:2017-07-07

    申请号:CN201511029476.9

    申请日:2015-12-31

    CPC classification number: H01L29/778 H01L29/0657 H01L2229/00

    Abstract: 本发明提供了一种高电子迁移率晶体管和存储器芯片,其中所述高电子迁移率晶体管包括:基底;氮化镓层和氮化镓铝层,所述氮化镓层的一侧复合于所述基底的表层,所述氮化镓层的另一侧复合于所述氮化镓铝层的底部;介质层,复合于所述氮化镓铝层的顶层,所述介质层设置有至少两个贯通的接触孔;电极,所述电极包括漏极电极、栅极电极和源极电极,所述漏极电极和所述上述源极电极分别设置于对应的所述至少两个贯通的接触孔中对应的接触孔中,其中,介质层包括金属氧化层和/或无机氧化层,无机氧化层包括第一氧化硅层。通过本发明的技术方案,改善了高电子迁移率晶体管的界面态,有效地降低了上述晶体管的反向漏电流,同时提升了上述晶体管的可靠性。

    压电驱动器及其制作方法
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102664233A

    公开(公告)日:2012-09-12

    申请号:CN201210139024.6

    申请日:2012-05-07

    Applicant: 北京大学

    Inventor: 董蜀湘 陈建国

    Abstract: 本发明提供一种压电驱动器及其制作方法。该压电驱动器包括圆环形结构的压电板,所述压电板的上表面设置有上电极,所述压电板的下表面设置有下电极,且所述压电板沿径向方向极化。本发明实施例提供的压电驱动器采用单个圆环形结构的压电板,结构简单,制作方便,可适用于高低温等苛刻环境下的工作需要。

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