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公开(公告)号：CN119668024A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202411301375.1
申请日：2024-09-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法。本发明的课题是提供基板上的成膜性及填埋特性优良，且EBR步骤时的隆起抑制性优良的有机膜形成用组成物。本发明的解决手段是一种有机膜形成用组成物，其特征在于包含：(A)具有下述通式(1)表示的重复单元的聚合物、(B)有机膜形成用树脂、及(C)溶剂，#imgabs0#通式(1)中，R1为含碳数2～30的脂肪族部分或芳香族部分的2价有机基团，R2各自独立地为氢原子、碳数1～6的烷基、羟基、碳数1～6的烷氧基、氟原子以外的卤素原子、氰基、氨基或硝基，a为0或1，a为0时，b为1～4、c为0～3，a为1时，b为1～6、c为0～5。
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公开(公告)号：CN118818898A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410472528.2
申请日：2024-04-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 提供有机膜形成用组合物、有机膜形成方法和图案形成方法。[课题]提供基板(晶圆)上的成膜性(面内均匀性)和填埋特性优异且抑制了EBR工序时的隆起的有机膜形成用组合物、使用了该组合物的有机膜形成方法和图案形成方法。[解决手段]一种有机膜形成用组合物，其特征在于，其包含有机膜形成用树脂、聚合物和溶剂，所述聚合物包含下述通式(I)所示的结构单元，且包含下述通式(II)所示的结构单元和下述通式(III)所示的结构单元之中的至少一者，前述下述通式(I)所示的结构单元与下述通式(II)所示的结构单元和下述通式(III)所示的结构单元之中的至少一者形成无规共聚物，前述聚合物的氟含有率为5质量％～16质量％。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN115877657A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211182821.2
申请日：2022-09-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供一种有机膜形成用组成物、图案形成方法以及有机膜形成用化合物及聚合物。本发明的解决手段是一种有机膜形成用组成物，其特征在于含有下述通式表示的有机膜形成材料及有机溶剂。该通式中，R1为氢原子、烯丙基、或炔丙基，R2表示硝基、卤素原子、羟基、碳数1～4的烷基氧基、碳数2～4的炔基氧基、碳数2～4的烯基氧基、碳数1～6的直链状、分支状、或环状的烷基、三氟甲基、或三氟甲基氧基；m＝0、1，n＝1、2，l＝0、1，k表示0～2的整数，W是碳数1～40的2价有机基团；V各自独立地表示氢原子或连接部分。
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公开(公告)号：CN113359390B
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202110240480.9
申请日：2021-03-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及涂布型有机膜形成用组成物、图案形成方法、聚合物、以及聚合物的制造方法。本发明的课题是提供一种组成物，是可形成图案弯曲耐性高、干蚀刻耐性高的有机膜的涂布型有机膜形成用组成物，且溶剂溶解性优异，缺陷的发生率低。本发明提供一种涂布型有机膜形成用组成物，其特征为含有：以下列通式(1)表示的结构作为部分结构的聚合物；及有机溶剂。#imgabs0#式(1)中，环结构Ar1及Ar2表示亦可具有取代基的苯环或萘环，W1为亦可具有取代基的碳数6～30的芳基。
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公开(公告)号：CN118930452A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410567598.6
申请日：2024-05-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C237/06 , C07C235/06 , C07C237/04 , C07C235/16 , C07C231/12 , G03F1/56 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及有机膜形成材料、图案形成方法、及有机膜用化合物。本发明提供一种有机膜用化合物，能形成不仅耐热性、于基板形成的图案的填埋、平坦化特性优异且对于基板的成膜性、密合性良好的有机膜，并提供含有前述化合物的有机膜形成材料、及使用了前述材料的图案形成方法。一种有机膜形成材料，其特征为含有下列通式(1)表示的有机膜用化合物及有机溶剂。#imgabs0#
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116661242A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310160844.1
申请日：2023-02-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用平坦化剂、有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法。本发明关于提供具有高程度平坦化特性的有机膜形成用组成物的有机膜形成用平坦化剂、含有此平坦化剂的有机膜形成用组成物、使用此组成物的有机膜形成方法、及图案形成方法。一种有机膜形成用平坦化剂，由以分子式表示的分子量为200～500的含芳香族的化合物构成，其特征为通过将该有机膜形成用平坦化剂掺合在复数粘度(complex viscosity)于175℃以上的温度范围为1.0Pa·s以上的含有有机膜形成用树脂及溶剂的组成物，以具有该组成物的复数粘度于175℃以上的温度范围成为未达1.0Pa·s的温度范围。
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公开(公告)号：CN116162369A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202211477433.7
申请日：2022-11-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C09D4/00 , G03F7/09 , G03F7/11 , H01L21/027 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及有机膜形成材料、半导体装置制造用基板、有机膜的形成方法、及图案形成方法。本发明提供一种有机膜形成材料，其在半导体装置制造步骤中的利用多层抗蚀剂法所为的微细图案化处理中，不仅是在即使具有宽广沟渠结构(wid trench)等特别难以平坦化的部分的被加工基板上仍能形成平坦性、成膜性优异的有机膜，而且对于在以CVD法形成无机硬掩膜中间膜时的高温的加热亦能够耐受。一种有机膜形成材料，其特征为含有：(A)下列通式(1A)表示的有机膜形成用化合物、及(B)有机溶剂。
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公开(公告)号：CN113359390A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110240480.9
申请日：2021-03-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及涂布型有机膜形成用组成物、图案形成方法、聚合物、以及聚合物的制造方法。本发明的课题是提供一种组成物，是可形成图案弯曲耐性高、干蚀刻耐性高的有机膜的涂布型有机膜形成用组成物，且溶剂溶解性优异，缺陷的发生率低。本发明提供一种涂布型有机膜形成用组成物，其特征为含有：以下列通式(1)表示的结构作为部分结构的聚合物；及有机溶剂。式(1)中，环结构Ar1及Ar2表示亦可具有取代基的苯环或萘环，W1为亦可具有取代基的碳数6～30的芳基。
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公开(公告)号：CN112213919A
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN202010660845.9
申请日：2020-07-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组合物、图案形成方法、以及聚合物。本发明的课题为提供通过使用含有碳含量高的茚并芴结构且具有热固化性的聚合物，而可展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性的有机膜形成用组合物；并提供使用该有机膜形成用组合物的图案形成方法、以及提供这样的有机膜形成用组合物的聚合物。该课题的解决方法为一种有机膜形成用组合物，含有：具有下述通式(1A)表示的部分结构作为重复单元的聚合物及有机溶剂。[化1]该通式(1A)中，AR1、AR2为也可具有取代基的苯环或萘环，R为氢原子或碳数2～10的具有不饱和键的1价有机基团，R’为单键或W1，且W1为具有1个以上的芳香环的碳数6～80的2价有机基团。
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公开(公告)号：CN111913352A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN202010379131.0
申请日：2020-05-07
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物。本发明提供一种有机膜形成用组成物，其含有碳含量高而有热硬化性的聚合物，会展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性，并提供使用此有机膜形成用组成物的图案形成方法，及适合此有机膜形成用组成物的聚合物。有机膜形成用组成物包含具下列通式(1A)表示的部分结构的聚合物及有机溶剂。该聚合物，利用伴随位于芴环上的三苯甲基位的氢彼此的脱氢的偶联反应而交联。[化1]
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