光记录介质及其制造方法
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1881438A

    公开(公告)日:2006-12-20

    申请号:CN200610092649.6

    申请日:2006-06-13

    Inventor: 小山理

    CPC classification number: G11B7/24038

    Abstract: 本发明提供一种从保护层侧入射光束的类型的光记录介质,其在高轨道密度和优良批量生产率之间达成平衡并且包括:支持衬底;保护层,在光束入射侧提供,具有小于支持衬底的厚度;以及记录层,在支持衬底和保护层之间形成,其中记录层包括凹部分作为记录轨道之间的间隙,并且包括凸部分作为记录轨道,该凸部分具有大于凹部分的厚度,并且被形成为朝向保护层凸起。

Patent Agency Ranking