公开(公告)号：CN102011191A

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN201010243313.1

申请日：2010-07-30

Applicant: 住友电气工业株式会社

Inventor： 藤原伸介 ,  上松康二 ,  长田英树 ,  中畑成二

IPC: C30B29/40 ,  H01L21/20

CPC classification number: H01L29/2003 ,  C30B25/20 ,  C30B29/406 ,  H01L21/02389 ,  H01L21/02433 ,  H01L21/0254 ,  H01L29/36 ,  H01L33/0075 ,  H01L33/16

Abstract: 本发明提供GaN单晶衬底、基于GaN的半导体器件及它们的制造方法。所述GaN单晶衬底具有面积为10cm2以上的主面，所述主面具有相对于(0001)面和(000-1)面中的一个面以65°～85°倾斜的面取向，所述衬底具有在所述主面中载流子浓度基本均匀分布、在所述主面中位错密度基本均匀分布和光弹性变形值不超过5×10-5中的至少一种特性，所述光弹性变形值通过在25℃环境温度下在垂直于所述主面施加光时在所述主面中任意点处的光弹性测得。因此，能够获得GaN单晶衬底，所述GaN单晶衬底适用于制造具有小的特性偏差的基于GaN的半导体器件。

公开(公告)号：CN101826581A

公开(公告)日：2010-09-08

申请号：CN201010123875.2

申请日：2010-03-02

Applicant: 住友电气工业株式会社

Inventor： 盐谷阳平 ,  善积祐介 ,  长田英树 ,  石桥惠二 ,  秋田胜史 ,  上野昌纪

IPC: H01L33/18 ,  H01L33/30 ,  H01S5/343 ,  H01S5/02 ,  H01S5/10

CPC classification number: H01L33/18 ,  B82Y20/00 ,  H01L21/02389 ,  H01L21/02433 ,  H01L21/02458 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/02573 ,  H01L21/0262 ,  H01L33/32 ,  H01S5/20 ,  H01S5/2009 ,  H01S5/3202 ,  H01S5/34333

Abstract: 一种氮化镓类半导体光元件及其制造方法、外延晶片。所述氮化镓类半导体光元件包括显示较低的压电效应和良好的结晶质量的含铟氮化镓类半导体层。氮化镓类半导体光元件具有GaN支撑体、GaN类半导体区域和阱层。主面从与沿着GaN的m轴和a轴中一个晶轴的方向延伸的基准轴正交的面起，向另一个晶轴的方向倾斜。倾斜的角度(AOFF)在0.05度以上且小于15度的范围内。角度(AOFF)与矢量(VM)和矢量(VN)形成的角度相等。主面的倾斜由具有代表性的m面和m轴矢量(VM)表示。GaN类半导体区域设置于主面上。活性层的阱层的m面和a面均向主面的法线轴倾斜。阱层的铟组分大于0.1。