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公开(公告)号：CN117233878A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202311151009.8
申请日：2023-09-07
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明属于光学技术领域，公开了一种弯曲叉形光栅结构，所述的弯曲叉形光栅中，所有处于各自周期相同相对位置的点所构成的曲线呈弯曲叉形分布，以使照射在弯曲叉形光栅的入射光转变为贝塞尔高斯光。本发明提供的弯曲叉形光栅相比于现有技术中获得贝塞尔高斯光的方法，光路更为简单，适用于宽波段。这种弯曲叉形可通过各种光栅实现，如金属光栅、介质光栅、或金属介质混合光栅，同时不影响它们的本征特性，如衍射效率、使用波段、衍射角度、偏振特性等，仅使衍射光场携带高阶贝塞尔相位。
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公开(公告)号：CN117192914A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311186275.4
申请日：2023-09-14
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种反射式双光束干涉曝光系统的像差调控方法，包括：构建反射式双光束干涉曝光系统，将激光器输出的光束分为两束强度相同的双光束，并形成干涉曝光场；构建像差调控系统，利用球面干涉仪分别对双光束光路的像差进行测试和记录，并利用可变形反射镜对双光束中任一路光束的波前进行调控，使其与另一路光束的像差相匹配，完成干涉曝光场像差的调控。本发明解决了基于大口径离轴抛物面反射镜的反射式双光束干涉曝光系统精密装调、波前像差控制等难题，为米量级大口径、低像差衍射光栅的制备提供了新的解决方案。
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公开(公告)号：CN116299810A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202211103662.2
申请日：2022-09-09
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种反射式弯曲叉形面光栅的制备方法，该方法制备出的光栅为纯相位光栅，可用于产生完美涡旋光(POV)。通过一束高阶贝塞尔高斯光束与高斯光干涉曝光，其中高阶贝塞尔高斯光束由反射式纯相位液晶空间光调制器(SLM)产生，将干涉条纹记录在基底上的光敏材料中，经显影、镀金属膜后，即可制备出反射式弯曲叉形面光栅。使用基模高斯光照射，可在1级衍射方向的远场或透镜焦平面上获得POV。这种利用反射式弯曲叉形面光栅获得POV的方法，相对于使用空间光调制器的传统方法，优势在于具有更高的损伤阈值、更宽的工作波长范围、以及更高的转换效率，且结构简单、成本低、可大批量生产，在产生高功率POV方面具有重要的前景，可用于光学操控、光学加工等领域。
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公开(公告)号：CN115332926A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202210975142.4
申请日：2022-08-15
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种集成嵌入式非均匀微通道的反射式光栅结构，其特征在于整个结构由上而下依次是光栅层、嵌入式非均匀微通道层、带有冷却液进出口的密封层。其中，非均匀微通道冷却层直接嵌入在光栅层下方的光栅基板上，其结构是依据入射在光栅表面的激光强度空间分布、光栅基板材料/几何尺寸等参数设计，微通道的空间间隔、通道宽度均成线性分布，而刻蚀深度为线性或高斯分布。本发明面向高能激光光谱合束、超强超短激光脉冲压缩等领域中使用的反射式光栅均匀热控制需求，提出了一种集成嵌入式非均匀微通道的反射式光栅结构，解决了因入射激光强度空间分布不均匀、光栅基板表面热传导不均等因素引起的光栅表面局部温升过高，进而导致光栅衍射波前畸变大的难题，为强激光作用下光栅表面温升及由此引起的波前畸变调控提供了一种新思路。
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公开(公告)号：CN112394436B
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202011336817.8
申请日：2020-11-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于1064纳米波段的非对称结构全介质反射式合束光栅，其特征在于该光栅由下而上依次分别是光栅基底、周期膜系、位相匹配层和倾斜矩形槽型剖面的顶部光栅。本发明适用于中心波长1064纳米波段，具有偏振不敏感、超宽带、高效率的特点，能满足小型化光谱合束系统对高线密度、宽带不敏感合束光栅的需求。特别适合于结构紧凑、对光源线宽要求较低的双光栅高能激光光谱合束系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115332926B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202210975142.4
申请日：2022-08-15
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: H01S3/08018 , H01S3/10
Abstract: 一种集成嵌入式非均匀微通道的反射式光栅结构，其特征在于整个结构由上而下依次是光栅层、嵌入式非均匀微通道层、带有冷却液进出口的密封层。其中，非均匀微通道冷却层直接嵌入在光栅层下方的光栅基板上，其结构是依据入射在光栅表面的激光强度空间分布、光栅基板材料/几何尺寸等参数设计，微通道的空间间隔、通道宽度均成线性分布，而刻蚀深度为线性或高斯分布。本发明面向高能激光光谱合束、超强超短激光脉冲压缩等领域中使用的反射式光栅均匀热控制需求，提出了一种集成嵌入式非均匀微通道的反射式光栅结构，解决了因入射激光强度空间分布不均匀、光栅基板表面热传导不均等因素引起的光栅表面局部温升过高，进而导致光栅衍射波前畸变大的难题，为强激光作用下光栅表面温升及由此引起的波前畸变调控提供了一种新思路。
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公开(公告)号：CN115437053B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202211198640.9
申请日：2022-09-29
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种脉冲压缩琥珀金光栅及其制备方法，所述的琥珀金光栅金属层选用合适配比的金基含银、铂系元素的二元或多元混合物，或者金顶银底薄膜。所述的制备工艺包括琥珀金光栅特征轮廓参数和琥珀金膜材料配比优选。本发明的琥珀金光栅在不退化传统金光栅光学性能的前提下，拓宽光栅高衍射效率波段，改善或解决纯银光栅的易氧化问题，进一步提升金光栅抗激光损伤阈值，工艺参数可以支持米级口径的光栅制备。本发明的光栅及相关工艺参数可支撑从光谱仪、商用超快激光器到大型高峰值功率激光器的建设，对脉冲压缩光栅发展有重大意义。
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公开(公告)号：CN114879293B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202210388807.1
申请日：2022-04-12
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 兼容大方位角、超400nm带宽大底宽小尖角金属脉冲压缩光栅，包括光栅参数优化设计和制备工艺。所述的光栅其底宽占比需大于0.6，形状因子为0.5～2.5，槽深为160～250nm，线密度为1300～1650g/mm。所述的制备工艺包括基底清洗、涂胶、烘烤、曝光、显影和金属膜镀制。本发明的宽带高效率光栅具有大底宽小尖角结构，在正负15或20°的大方位角内，TM偏振光以‑1级Littrow角入射时，光栅在超400nm带宽内效率超过90％。本发明的光栅及相关工艺参数可支撑数百拍瓦单周期脉冲压缩光栅储备。
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公开(公告)号：CN115437053A
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202211198640.9
申请日：2022-09-29
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种脉冲压缩琥珀金光栅及其制备方法，所述的琥珀金光栅金属层选用合适配比的金基含银、铂系元素的二元或多元混合物，或者金顶银底薄膜。所述的制备工艺包括琥珀金光栅特征轮廓参数和琥珀金膜材料配比优选。本发明的琥珀金光栅在不退化传统金光栅光学性能的前提下，拓宽光栅高衍射效率波段，改善或解决纯银光栅的易氧化问题，进一步提升金光栅抗激光损伤阈值，工艺参数可以支持米级口径的光栅制备。本发明的光栅及相关工艺参数可支撑从光谱仪、商用超快激光器到大型高峰值功率激光器的建设，对脉冲压缩光栅发展有重大意义。
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公开(公告)号：CN112764327B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110184852.0
申请日：2021-02-10
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种双光束干涉曝光系统中光栅基板表面光刻胶涂层在线扫描曝光预处理装置，包括：连续紫外激光光源，用于对光栅基板表面光刻胶涂层进行曝光；双光束干涉曝光系统；干涉场扫描测量系统，用于对干涉曝光场的强度分布进行二维扫描测量；扫描曝光预处理系统，将来自连续紫外激光光源的激光光束调制为具有一定空间强度分布和一定宽度的线激光束，并辐照在待处理光栅基板涂覆光刻胶的光刻胶面上。通过控制空间光调制器输出强度分布和一维位移台扫描速度实现光刻胶纳米涂层不同位置、不同曝光剂量的预处理。本发明解决了双光束干涉曝光技术制备衍射光栅中因干涉光束强度分布不均匀导致的光栅掩膜不均匀性的技术难关。
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