谐振器和滤波器
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110868182B

    公开(公告)日:2023-06-16

    申请号:CN201910329118.1

    申请日:2019-04-23

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,公开了一种谐振器和滤波器。该谐振器包括衬底;多层结构,形成于所述衬底上,所述多层结构由下至上依次包括下电极层、压电层和上电极层;空气翼及空气桥,形成于所述压电层和上电极层之间,所述空气翼具有界定所述谐振器的作用区域的外边界的内边缘;及温度补偿特征,具有正温度系数以用于抵消所述压电层的负温度系数的至少一部分;其中,在所述衬底和所述多层结构之间形成有腔体,所述腔体包括位于所述衬底上表面之下的下半腔体和超出所述衬底上表面并向所述多层结构突出的上半腔体;所述温度补偿特征在所述作用区域外侧延伸达预定长度。上述谐振器具有较好的性能。

    谐振器和滤波器
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110868182A

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201910329118.1

    申请日:2019-04-23

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,公开了一种谐振器和滤波器。该谐振器包括衬底;多层结构,形成于所述衬底上,所述多层结构由下至上依次包括下电极层、压电层和上电极层;空气翼及空气桥,形成于所述压电层和上电极层之间,所述空气翼具有界定所述谐振器的作用区域的外边界的内边缘;及温度补偿特征,具有正温度系数以用于抵消所述压电层的负温度系数的至少一部分;其中,在所述衬底和所述多层结构之间形成有腔体,所述腔体包括位于所述衬底上表面之下的下半腔体和超出所述衬底上表面并向所述多层结构突出的上半腔体;所述温度补偿特征在所述作用区域外侧延伸达预定长度。上述谐振器具有较好的性能。

    薄膜体声谐振器和半导体器件

    公开(公告)号:CN110868172A

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201910328542.4

    申请日:2019-04-23

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,公开了一种薄膜体声谐振器和半导体器件。该薄膜体声谐振器包括衬底;多层结构,形成于所述衬底上,所述多层结构由下至上依次包括下电极层、压电层、上电极层和多个横向特征,所述多个横向特征包括多个台阶结构,所述多个台阶结构具有不同的宽度且连续地堆叠在所述上电极层上;其中,在所述衬底和所述多层结构之间形成有腔体,所述腔体包括位于所述衬底上表面之下的下半腔体和超出所述衬底上表面并向所述多层结构突出的上半腔体。上述薄膜体声谐振器通过设置具有下半腔体和上半腔体的腔体,且下半腔体整体位于衬底上表面之下,上半腔体整体位于衬底上表面之上,从而形成一种新型的谐振器结构,且具有较好的性能。

    一种声谐振器
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110868170A

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201910328539.2

    申请日:2019-04-23

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,具体公开一种声谐振器,所述声谐振器包括:衬底;多层结构,形成于所述衬底上,所述多层结构由下至上依次包括下电极层、压电层和上电极层;在所述衬底和所述多层结构之间形成有腔体,所述腔体包括位于所述衬底上表面之下的下半腔体和超出所述衬底上表面并向所述多层结构突出的上半腔体;所述下电极层的边缘邻接平坦化层;所述多层结构中设置有桥部。本发明的声谐振器通过特殊结构的腔体与桥部的结合,具有良好的性能,且结构坚固,不易损坏。

    体声波谐振器和半导体器件

    公开(公告)号:CN110868185B

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN201910329117.7

    申请日:2019-04-23

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,公开了一种体声波谐振器和半导体器件。该体声波谐振器包括衬底;多层结构,形成于所述衬底上,所述多层结构由下至上依次包括下电极层、掺杂压电层和上电极层;其中,在所述衬底和所述多层结构之间形成有腔体,所述腔体包括位于所述衬底上表面之下的下半腔体和超出所述衬底上表面并向所述多层结构突出的上半腔体;所述掺杂压电层包括掺杂有至少一种稀土元素的压电材料。上述谐振器通过设置具有下半腔体和上半腔体的腔体,以及在压电层掺杂至少一种稀土元素,形成了一种新型的体声波谐振器结构,且具有较好的性能。

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