微孔金属箔及其制造方法
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110112422A

    公开(公告)日:2019-08-09

    申请号:CN201910416918.7

    申请日:2019-05-17

    Abstract: 一种微孔金属箔的制造方法,包括如下步骤:S1、在金属箔的第一表面覆盖第一掩膜层,在金属箔的第二表面覆盖第二掩膜层,以形成覆膜金属箔;S2、使用荷能重离子对覆膜金属箔进行辐照,以在第一掩膜层和/或第二掩膜层内形成离子径迹;S3、对辐照后的覆膜金属箔进行蚀刻,以在覆膜金属箔上形成微孔;S4、去除经过蚀刻后的覆膜金属箔表面的第一掩膜层和第二掩膜层,得到微孔金属箔。本发明提供的上述制造方法具有成本低、工艺简单,生产效率高等特点;且按照本发明提供的方法制得的微孔金属箔的孔径较小,能够满足将其作为集流体制作电极的需求。

    一种带图案核孔膜的制造方法

    公开(公告)号:CN108864466A

    公开(公告)日:2018-11-23

    申请号:CN201810756578.8

    申请日:2018-07-11

    Abstract: 本发明属于核径迹蚀刻技术领域,涉及一种带图案核孔膜的制造方法。所述的制造方法依次包括如下步骤:(1)辐照:对高分子材料薄膜进行辐照;(2)热处理:将辐照后的高分子材料薄膜放在耐高温的底板上,其上再放置带有图案的热处理模板进行热处理;(3)蚀刻:将热处理后的高分子材料薄膜置于化学蚀刻液中进行蚀刻;(4)清洗和烘干:对蚀刻后的高分子材料薄膜进行清洗和烘干。利用本发明的带图案核孔膜的制造方法,能够简易、低成本、节约时间的制造带图案核孔膜。

    用于多通道扩展的单通道前置放大器组合

    公开(公告)号:CN102830416A

    公开(公告)日:2012-12-19

    申请号:CN201210317837.X

    申请日:2012-08-31

    Abstract: 本发明属于核辐射测量技术领域,具体涉及一种用于多通道扩展的单通道前置放大器组合。其结构包括由高压线和低压线贯穿的若干台单通道前置放大器,每一台单通道前置放大器包括两个高压插座、两个低压插座、一个探测器信号输入插座和一个信号输出插座;所述的两个高压插座用导线连接在一起,高压插座与探测器信号输入插座之间通过高压电阻连接,探测器信号输入插座通过耐高压电容接入前置放大器电路板;两个低压插座分别通过低压电源线与前置放大器电路板连接;相邻的两台单通道前置放大器之间通过电源转接线将高压插座和低压插座分别连接。本发明解决了多个分开排列的核辐射探测器高质量信号获取的问题。

    一种核孔膜微波化学蚀刻方法及其装置

    公开(公告)号:CN119019738A

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202411120853.9

    申请日:2024-08-15

    Abstract: 本发明中公开了一种核孔膜微波化学蚀刻方法,包括:对蚀刻液施加微波辐射,以提高蚀刻液的化学活性;将经过重离子辐照的聚合物薄膜浸泡于施加了微波辐射的蚀刻液中进行核孔膜蚀刻,蚀刻时间为1分钟‑2小时;对蚀刻后的薄膜进行清洗,然后烘干,即完成核孔膜微波化学蚀刻。本发明同时公开了一种核孔膜微波化学蚀刻装置,该装置可用于实施上述核孔膜微波化学蚀刻方法。本发明方法将核孔膜蚀刻液置于微波辐射场当中,微波辐射场与蚀刻液蚀刻药剂分子和溶剂分子相互作用,从而增加反应物分子(蚀刻药剂分子)的化学能,促进化学蚀刻反应快速进行,显著提高蚀刻速度和核孔膜的生产效率。

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