公开(公告)号：CN100474185C

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN200610001489.X

申请日：2006-01-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小尾章 ,  中村博

IPC: G05B19/02 ,  G05B15/02 ,  H01L21/02

CPC classification number: Y02P90/02

Abstract: 本发明提供一种能减少操作员的工时的基板处理装置的检查方法。在基板处理装置的清扫时期，主计算机对基板处理装置指示禁止向该基板处理装置内输送制品用基板，基板处理装置将在规定的检查项目的检查中所使用的检查用基板的种类以及个数，通知给主计算机，主计算机将检查用基板的准备结束，通知给基板处理装置。

公开(公告)号：CN1842242A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200610066499.1

申请日：2006-03-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本直树 ,  田中秀朗 ,  藤原尚 ,  舆水地盐 ,  小岩史明 ,  小林俊之 ,  仲山阳一 ,  中村博

IPC: H05H1/46 ,  H01J37/32 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32091 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32174

Abstract: 本发明提供除高频电力之外，以施加直流电压的电容结合型等离子体处理装置为前提，可以得到良好的等离子体的等离子体处理装置和等离子体处理方法。在腔室(10)内相对配置的上部电极(34)和下部电极(16)之间形成处理气体的等离子体，在晶片(W)上进行等离子体蚀刻的等离子体蚀刻装置中，具有将高频电力供给到上部电极(34)，用于形成等离子体的高频电源(48)；将直流电压施加到上部电极(34)的直流电源(50)和控制高频电源(48)与可变直流电源(50)的控制部(95)。控制部(95)进行控制，使得在开始从高频电源(18)供电的时刻或其后，使从可变直流电源(50)施加的电压成设定值。

公开(公告)号：CN1811622A

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN200610001489.X

申请日：2006-01-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小尾章 ,  中村博

IPC: G05B19/02 ,  G05B15/02 ,  H01L21/02

CPC classification number: Y02P90/02

Abstract: 本发明提供一种能减少操作员的工时的基板处理装置的检查方法。在基板处理装置的清扫时期，主计算机对基板处理装置指示禁止向该基板处理装置内输送制品用基板，基板处理装置将在规定的检查项目的检查中所使用的检查用基板的种类以及个数，通知给主计算机，主计算机将检查用基板的准备结束，通知给基板处理装置。