公开(公告)号：CN119472166A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202411061876.7

申请日：2024-08-05

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 青山洋平 ,  昆野健理 ,  森莉纱子

IPC: G03F7/004 ,  G02B1/04 ,  G03F7/027

Abstract: 本发明涉及低折射率膜形成用固化性组合物、低折射率膜、光学器件及低折射率膜的制造方法。本发明的课题是提供能够形成耐热性优异的固化膜的低折射率膜形成用固化性组合物。本发明的解决手段为低折射率膜形成用固化性组合物，其含有中空填料(A)、聚合性化合物(B)和聚合引发剂(C)而不含有碱溶性树脂，前述聚合性化合物(B)包含具有5个以上的聚合性官能团的化合物(B1)、和具有1个以上3个以下的聚合性官能团的化合物(B2)，前述化合物(B1)的质量与前述化合物(B2)的质量之比(B1/B2)为0.25以上3以下。

公开(公告)号：CN115248529A

公开(公告)日：2022-10-28

申请号：CN202210465188.1

申请日：2022-04-25

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 昆野健理 ,  森莉纱子

IPC: G03F7/00

Abstract: 本发明涉及图案形成方法。图案形成方法，其包括：将具有凹凸图案的模具按压于由纳米压印用组合物形成的固化性膜，从而在前述固化性膜上转印前述凹凸图案的工序(i)；在将前述模具按压于前述固化性膜的同时，使转印有前述凹凸图案的固化性膜固化，从而形成固化膜的工序(ii)；将前述模具从前述固化膜剥离的工序(iii)；和将剥离了前述模具的固化膜于160℃以上进行加热，从而形成后烘烤固化膜的工序(iv)。

公开(公告)号：CN115220302A

公开(公告)日：2022-10-21

申请号：CN202210399970.8

申请日：2022-04-15

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 昆野健理 ,  森莉纱子

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及光固化性组合物及图案形成方法。一种光固化性组合物，其含有：金属氧化物纳米粒子；(R)成分：不饱和酸金属盐；光聚合性化合物(其中，不包括属于(R)成分的化合物)；和光自由基聚合引发剂。