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公开(公告)号：CN114295081B
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202111660055.1
申请日：2021-12-30
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G01B15/00
Abstract: 本发明提供了一种关于线的关键尺寸的测量方法及带电粒子束设备，所述方法包括：提供模板图、实测图、待测量区域信息和矩形的测量框；在实测图中获取具有待测线的感兴趣区域，获取待测线的离散边缘点和边缘直线；计算旋转角、第一矢量距离和第二矢量距离，获取第二矢量距离对应的第一期望和第一方差；在所述模板图中获取参考的第二期望和第二方差；根据第一期望和第二期望的比较结果在实测图上进行测量框的移动，比较所述第一方差和第二方差以在当满足预设的迭代停止阈值时，停止移动并记录测量框在实测图中的目标位置，根据目标位置计算待测线的关键尺寸。本发明可降低定位漂移对关键尺寸测量的干扰，提高测量的可重复性和测量结果的准确性。
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公开(公告)号：CN117392360A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311434083.0
申请日：2023-10-31
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明公开了一种CD‑SEM设备的定位方法和测量方法，用于定位晶圆上的测量点，包括：在创建工作菜单时，使用工作图像确定预设的所有测量点的位置，并确定对应的定位点的位置，在定位点的位置以第一放大倍率采集第一模板图像并选取第一模板，还以第二放大倍率采集第二模板图像；在执行工作菜单时，遍历各测量点，在对应的定位点的位置以第一放大倍率采集目标图像，基于第一模板与目标图像模板匹配，当匹配成功时，确定测量点的位置，当匹配失败时，降采样目标图像得到具有第二放大倍率的降采样图像，基于降采样图像与第二模板图像模板匹配，以确定测量点的位置。该定位方法和测量方法的可靠性高，能够节省时间，且能提升设备的吞吐量。
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公开(公告)号：CN114240850A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202111412501.7
申请日：2021-11-25
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明公开了一种带电粒子束扫描成像设备实际像素尺寸的获取方法，包括:在晶圆上采集模板图像，在所述模板图像中提取模板；按预设方向移动晶圆并采集目标图像，根据所述模板在所述目标图像中进行模板匹配以获得匹配位置，获取所述模板和匹配位置之间的目标位移，将所述目标图像作为所述模板图像，进行下一次的所述提取模板和模板匹配以获得另一所述目标位移，当满足预设停止条件时停止采集图像和提取模板；根据累积的所述目标位移和晶圆实际位移获取所述实际像素尺寸。本发明提供了一种带电粒子束扫描成像设备实际像素尺寸的获取方法，进行多次匹配，可以提高获取实际像素尺寸的速度、精度和可靠性。
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