公开(公告)号：CN118439623A

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN202410521235.9

申请日：2020-02-19

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 京谷智裕 ,  出岛荣治 ,  住谷直子 ,  加藤友宽 ,  泽井毅

IPC: C01B33/18 ,  C01B33/14 ,  C01B33/141 ,  C01B33/145 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  B24B37/00 ,  G01N24/08 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明提供一种二氧化硅粒子及其制造方法、硅烷醇基的测定方法、研磨组合物、研磨方法、半导体晶片的制造方法和半导体器件的制造方法。本发明的二氧化硅粒子，当将表面硅烷醇基的含有率设为x质量％、将总体硅烷醇基的含有率设为y质量％时，表面硅烷醇基的含有率x为0.05质量％以上1.4质量％以下，由(x/y)×100％表示的存在于表面的硅烷醇基的比例为1％以上15％以下。

公开(公告)号：CN113454024A

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN202080014939.7

申请日：2020-02-19

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 京谷智裕 ,  出岛荣治 ,  住谷直子 ,  加藤友宽 ,  泽井毅

IPC: C01B33/18 ,  B24B37/00 ,  C01B33/14 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的目的在于提供一种研磨特性、保存稳定性优异的二氧化硅粒子。本发明涉及一种二氧化硅粒子，当将利用广角X射线散射测定的d值设为时，满足式(1)：y≥4.2。

公开(公告)号：CN109790284A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201780055902.7

申请日：2017-09-13

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 中村健史 ,  高见芳惠 ,  前田智子 ,  住谷直子 ,  柴田浩喜 ,  门田敏树

IPC: C08G64/04 ,  C07C37/20 ,  C07C37/84 ,  C07C39/16 ,  C08G59/06

CPC classification number: C07C39/16 ,  C07C37/20 ,  C07C37/68 ,  C07C37/84 ,  C07C37/88 ,  C08G59/06 ,  C08G64/06 ,  G03C7/413

Abstract: 提供一种多元酚化合物，其即使在用作树脂原料或显色剂的情况下也不会损害色调，耐碱性优异。一种多元酚化合物，相对于下述式(1)所示的双酚化合物(A)，含有以254nm吸收强度比计小于1.6面积％的下述式(2)所示的三酚化合物(B)。[R1是碳原子数为6～24的一价脂肪族烃基。R2、R3是碳原子数为1～15的一价烃基。a和b为0～4的整数。][R1与式(1)中的含义相同。R4、R5和R6是碳原子数为1～15的一价烃基。c、d和e为0～4的整数。]。

公开(公告)号：CN119503820A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202411697538.2

申请日：2020-02-19

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 京谷智裕 ,  出岛荣治 ,  住谷直子 ,  加藤友宽 ,  泽井毅

IPC: C01B33/18 ,  C01B33/14 ,  B82Y40/00 ,  H01L21/304 ,  B24B37/04 ,  B24B1/00

Abstract: 本发明提供一种二氧化硅粒子及其制造方法、硅溶胶、研磨组合物、研磨方法、半导体晶片的制造方法和半导体器件的制造方法。一种二氧化硅粒子，当将利用广角X射线散射测定的d值设为#imgabs0#时，满足下述式(1)，y≥4.2(1)，金属杂质含有率为5ppm以下，在pH6.0以上且7.8以下的条件下实施了加压加热处理。

公开(公告)号：CN115023408B

公开(公告)日：2024-08-20

申请号：CN202180011041.9

申请日：2021-01-25

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 住谷直子 ,  米盛勉 ,  出岛荣治 ,  河濑康弘

IPC: C01B33/18 ,  C01B33/141 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的课题在于提供一种抑制二次凝聚、分散稳定性优异、且适于研磨的二氧化硅粒子、含有该二氧化硅粒子的硅溶胶以及含有该硅溶胶的研磨组合物。本发明涉及一种二氧化硅粒子，通过场发射型扫描电子显微镜测定的圆形度系数的平均值为0.90以上，且上述圆形度系数的标准偏差为0.05以下。

公开(公告)号：CN115023408A

公开(公告)日：2022-09-06

申请号：CN202180011041.9

申请日：2021-01-25

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 住谷直子 ,  米盛勉 ,  出岛荣治 ,  河濑康弘

IPC: C01B33/18 ,  C01B33/141 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的课题在于提供一种抑制二次凝聚、分散稳定性优异、且适于研磨的二氧化硅粒子、含有该二氧化硅粒子的硅溶胶以及含有该硅溶胶的研磨组合物。本发明涉及一种二氧化硅粒子，通过场发射型扫描电子显微镜测定的圆形度系数的平均值为0.90以上，且上述圆形度系数的标准偏差为0.05以下。

公开(公告)号：CN107683427B

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN201680031589.9

申请日：2016-06-15

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 住谷直子 ,  矢部晃子 ,  藤森尚美 ,  西村政昭 ,  青叶充哉 ,  大泽辉恒

IPC: G02B5/30 ,  C08G59/18 ,  G02F1/1335

Abstract: 本申请的课题在于提供一种取向约束力高的取向膜以及一种能制作即使在低温下对各向异性色素膜用组合物等的取向约束力也高的取向膜的组合物。本发明涉及一种环氧树脂固化取向膜，其是含有部分结构(P1)以及部分结构(P2)中的至少一方的环氧树脂固化取向膜，环氧树脂固化取向膜中的部分结构(P1)以及部分结构(P2)中的至少一方的比例为0.5质量％以上。其中，部分结构(P1)是含有杂原子的具有芳香性的环，部分结构(P2)是下述式(1)所表示的物质(式(1)中，R1表示含有杂原子并具有不饱和键的2价基团，与R1键合的环为单环)。

公开(公告)号：CN101374854A

公开(公告)日：2009-02-25

申请号：CN200780003117.3

申请日：2007-01-12

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 竹原润 ,  藤原尚哉 ,  远藤恭子 ,  河井润也 ,  细川明美 ,  住谷直子

IPC: C07J9/00 ,  C07J1/00 ,  C07J17/00 ,  C07J41/00 ,  B01J21/08 ,  B01J23/44

Abstract: 本发明的目的在于提供甾类化合物的新型的制备方法。按照本发明，提供一种制造3，7－二氧代－5β－胆甾烷酸或其酯衍生物的方法，该方法以在5位和24位具有双键的甾醇类，即胆甾－5，7，24－三烯－3β－醇、麦角甾－5，7，24(28)－三烯－3β－醇、链甾醇、岩藻甾醇或麦角甾－5，24(28)－二烯－3β－醇为原料，并且经过下面的4个步骤，即：(I)进行3位羟基的氧化和5位双键向4位的异构化的步骤；(II)通过侧链的氧化切断将24位变成羧基或其酯衍生物的步骤；(III)在7位导入氧官能团的步骤；(IV)通过4位双键的还原饱和化进行5β立体构建的步骤。