-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118833827A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202411065909.5
申请日：2021-01-25
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C01B33/18 , C01B33/141 , C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供二氧化硅粒子、硅溶胶、研磨组合物、研磨方法、半导体晶片的制造方法和半导体装置的制造方法。所述二氧化硅粒子，通过场发射型扫描电子显微镜测定的圆形度系数的平均值为0.90以上，且所述圆形度系数的标准偏差为0.05以下。
-
公开(公告)号：CN1092626C
公开(公告)日：2002-10-16
申请号：CN95105683.2
申请日：1995-06-20
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 一种制造环己醇的方法，该方法使用泡沸石作催化剂，藉环己烯的水合反应连续地制造环己醇。在反应系内，使2-环己烯-1-酮对原料环己烯的含量为200ppm以下，进行水合反应。根据本发明，在环己烯的水合反应中，催化剂的寿命大大改善。另外，可长时期地维持催化剂的分离性能。因此，可长期、稳定地制造环己醇，工业上的贡献很大。
-
公开(公告)号：CN115023408B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202180011041.9
申请日：2021-01-25
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C01B33/18 , C01B33/141 , C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 本发明的课题在于提供一种抑制二次凝聚、分散稳定性优异、且适于研磨的二氧化硅粒子、含有该二氧化硅粒子的硅溶胶以及含有该硅溶胶的研磨组合物。本发明涉及一种二氧化硅粒子，通过场发射型扫描电子显微镜测定的圆形度系数的平均值为0.90以上，且上述圆形度系数的标准偏差为0.05以下。
-
公开(公告)号：CN115023408A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202180011041.9
申请日：2021-01-25
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C01B33/18 , C01B33/141 , C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 本发明的课题在于提供一种抑制二次凝聚、分散稳定性优异、且适于研磨的二氧化硅粒子、含有该二氧化硅粒子的硅溶胶以及含有该硅溶胶的研磨组合物。本发明涉及一种二氧化硅粒子，通过场发射型扫描电子显微镜测定的圆形度系数的平均值为0.90以上，且上述圆形度系数的标准偏差为0.05以下。
-
公开(公告)号：CN1139662A
公开(公告)日：1997-01-08
申请号：CN95105683.2
申请日：1995-06-20
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 一种制造环己醇的方法，该方法使用泡沸石作催化剂，藉环己烯的水合反应连续地制造环己醇。在反应系内，使2-环己烯-1-酮对原料环己烯的含量为200ppm以下，进行水合反应。根据本发明，在环己烯的水合反应中，催化剂的寿命大大改善。另外，可长时期地维持催化剂的分离性能。因此，可长期、稳定地制造环己醇，工业上的贡献很大。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.018 seconds)
