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公开(公告)号：CN106977718A
公开(公告)日：2017-07-25
申请号：CN201610945919.7
申请日：2016-11-02
IPC: C08G73/14
Abstract: 公开了聚(酰亚胺‑酰胺)共聚物、其制备方法和包括其的制品。所述聚(酰亚胺‑酰胺)共聚物为包括由化学式1表示的包含酰胺结构单元的低聚物的二胺和由化学式3表示的二酐之间的反应产物，其中，化学式1和3中的基团和变量与说明书中描述的相同。化学式1化学式3
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公开(公告)号：CN109467699B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN201811049916.0
申请日：2018-09-10
Abstract: 公开聚(酰胺‑酰亚胺)共聚物、组合物、制品、和显示设备。所述聚(酰胺‑酰亚胺)共聚物为在可见光区域中在500纳米(nm)至700nm的范围内具有最大吸收波长的取代或未取代的芳族二胺、由化学式1表示的二胺、由化学式2表示的二羰基化合物、和由化学式3表示的四羧酸二酐的反应产物，其中，在化学式1至3中，A、R3、R10、R12、R13、X、n7和n8与在说明书中定义的相同。化学式1NH2‑A‑NH2化学式2化学式3
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公开(公告)号：CN109467702B
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN201811042395.6
申请日：2018-09-07
Abstract: 公开聚(酰胺‑酰亚胺)共聚物、组合物、制品和显示设备。所述聚(酰胺‑酰亚胺)共聚物为取代或未取代的线型脂族二胺、由化学式1表示的二胺、由化学式2表示的二羰基化合物、和由化学式3表示的四羧酸二酐的反应产物，其中，在化学式1至3中，A、R3、R10、R12、R13、X、n7和n8与说明书中定义的相同。化学式1NH2‑A‑NH2；化学式2；化学式3。
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公开(公告)号：CN107976830B
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN201710997049.2
申请日：2017-10-20
IPC: G02F1/1333 , C09D183/06
Abstract: 公开塑料基板和包括其的显示装置。所述塑料基板包括：包括聚(酰胺‑酰亚胺)共聚物的膜和设置在所述包括聚(酰胺‑酰亚胺)的膜的一个表面上的硬涂层，其中所述硬涂层包括通过其能交联的官能团交联的硅氧烷共聚物，并且所述塑料基板具有根据ASTM D3363在约1kg的竖直负荷下测量的大于或等于2H的铅笔划痕硬度、在约350nm‑约750nm波长区域中大于或等于约89％的透射率、和挠曲特性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108727588A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201810359556.8
申请日：2018-04-20
CPC classification number: C08L79/08 , C08G73/1007 , C08G73/1039 , C08G73/1042 , C08G73/1078 , C08G73/14 , C08J5/18 , C08J2379/08 , C08L2203/16 , C08L2203/20
Abstract: 本发明涉及聚(酰胺-酰亚胺)共聚物、包括聚(酰胺-酰亚胺)共聚物的制品、和包括其的显示设备。根据实施方式，提供聚(酰胺-酰亚胺)共聚物，包括至少一种四羧酸二酐、至少一种二胺、和至少一种二羧酸或其衍生物的反应产物，其中所述至少一种四羧酸二酐包括由化学式1表示的四羧酸二酐，所述至少一种二胺包括由化学式2表示的二胺，和所述至少一种二羧酸或其衍生物包括由化学式3表示的二羧酸或其衍生物，其中，R1-R3、X1和X2与说明书中定义的相同。化学式1 化学式2NH2-R2-NH2化学式3
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公开(公告)号：CN105754127A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201511021223.7
申请日：2015-12-30
CPC classification number: C08G73/1067 , C08G73/1039 , C08G73/1042 , C08G73/14 , C08J7/047 , C08J2379/04 , G06F1/1652 , C08J5/18 , C08J2379/08
Abstract: 公开用于显示器件的窗和包括其的显示器件。所述用于显示器件的窗包括：包括聚(酰亚胺?酰胺)共聚物的塑料基底和设置在所述塑料基底的至少一侧上的硬涂层，其中所述塑料基底具有根据ASTM D3363在约1千克的垂直负荷下大于或等于约3H的铅笔划痕硬度、和根据ASTM E313小于或等于3的黄度指数(YI)。
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公开(公告)号：CN119431638A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202410962622.6
申请日：2024-07-18
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C08F120/20 , C08F220/20 , C08F220/06 , C08F220/18 , G03F7/004
Abstract: 提供聚合物、包括所述聚合物的含聚合物的组合物、以及通过使用所述含聚合物的组合物形成图案的方法，所述聚合物包括由式1表示的第一重复单元且具有50℃或更低的玻璃化转变温度，其中，在式1中，L11至L13、a11至a13、A11、R11、R12、b12和p1的描述在本说明书中提供。式1#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118625595A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410229613.6
申请日：2024-02-29
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明涉及包括光敏性聚合物的非离子型非化学放大光致抗蚀剂组合物和制造集成电路器件的方法。光致抗蚀剂组合物包括包含光敏性聚合物的非离子型非化学放大光致抗蚀剂组合物，光敏性聚合物包括具有极性反转基团的第一重复单元和具有敏化基团的第二重复单元。制造集成电路器件的方法包括：通过使用光致抗蚀剂组合物在特征层上形成光致抗蚀剂膜，将作为光致抗蚀剂膜的一部分的第一区域曝光以在第一区域中由第二重复单元产生二次电子并且通过使用第一区域中的二次电子改变第一重复单元的极性以反转第一区域的极性，通过使用显影剂除去光致抗蚀剂膜的未经曝光的区域以形成包括第一区域的光致抗蚀剂图案，和通过使用光致抗蚀剂图案处理特征层。
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公开(公告)号：CN119219812A
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202410841016.9
申请日：2024-06-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C08F112/14 , C08F212/14 , C08F220/18 , C08F8/00 , G03F7/004
Abstract: 提供聚合物、包括所述聚合物的抗蚀剂组合物、以及使用所述抗蚀剂组合物形成图案的方法，所述聚合物包括由式1表示的第一重复单元，其中式1中的L11至L14、a11至a13、A11、X11、R11、R12、b12和p的描述提供在说明书中。式1#imgabs0#
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