公开(公告)号：CN119219812A

公开(公告)日：2024-12-31

申请号：CN202410841016.9

申请日：2024-06-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金范锡 ,  金旻相 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  安赞在 ,  李昶宪 ,  林圭铉 ,  崔诚原

IPC: C08F112/14 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C08F8/00 ,  G03F7/004

Abstract: 提供聚合物、包括所述聚合物的抗蚀剂组合物、以及使用所述抗蚀剂组合物形成图案的方法，所述聚合物包括由式1表示的第一重复单元，其中式1中的L11至L14、a11至a13、A11、X11、R11、R12、b12和p的描述提供在说明书中。式1#imgabs0#

公开(公告)号：CN118684603A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202410343961.6

申请日：2024-03-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： H·金 ,  高行德 ,  金惠兰 ,  南煐敏 ,  宋智永 ,  李昶宪 ,  A·田 ,  蔡贞厦 ,  李松世 ,  洪锡九

IPC: C07C311/20 ,  C07C311/07 ,  C07C311/29 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004

Abstract: 提供有机盐、包括其的光致抗蚀剂组合物和通过使用该光致抗蚀剂组合物形成图案的方法，所述有机盐由下面的式1表示。式1的描述提供在本文中。式1#imgabs0#

公开(公告)号：CN118259546A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202311459037.6

申请日：2023-11-03

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 高行德 ,  郭允铉 ,  金美静 ,  金旻相 ,  李善英 ,  李昶宪 ,  林圭铉 ,  蔡贞厦 ,  韩盛现

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供抗蚀剂组合物和通过使用其形成图案的方法，所述抗蚀剂组合物包括：由式1表示的有机金属化合物；和包括含有产生自由基的基团的重复单元、含有接受自由基的基团的重复单元、或其任意组合的聚合物。式1中的R11、R12和n的描述提供于说明书中。式1Sn(R11)n(OR12)(4‑n)。

公开(公告)号：CN118259545A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202311456231.9

申请日：2023-11-03

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 高行德 ,  郭允铉 ,  金美静 ,  南煐敏 ,  安赞在 ,  李昶宪 ,  林圭铉 ,  崔诚原 ,  韩盛现

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027

Abstract: 提供抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法。所述抗蚀剂组合物可包括由下式1表示的有机金属化合物和由下式2表示的重复单元的聚合物。在式1和2中，M11、R11、R12、n、A21、L21‑L24、a21‑a24、R21、R22、b22、p、和X21的描述参考说明书。 M11(R11)n(OR12)(4‑n) #imgabs0#。

公开(公告)号：CN117430743A

公开(公告)日：2024-01-23

申请号：CN202310286918.6

申请日：2023-03-22

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金旻相 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  安赞在 ,  蔡贞厦 ,  崔诚原 ,  河旻永

IPC: C08F220/18 ,  C08F8/34 ,  C08F8/00 ,  C08F220/38 ,  C08F212/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 提供聚合物、包括其的光致抗蚀剂组合物、和使用光致抗蚀剂组合物形成图案的方法，所述聚合物包括由式1表示的重复单元，其中式A111‑和中的B11R+11的细节提供、L11、a11、在本说明书中。式1