用于制造半导体器件的烘烤系统

    公开(公告)号:CN1266547C

    公开(公告)日:2006-07-26

    申请号:CN200410032542.3

    申请日:2004-04-08

    CPC classification number: H01L21/67109 F28D15/0266 F28D15/046 F28D15/06

    Abstract: 本发明提供了一种烘烤系统,包括:热管,在其顶表面上装载了将被烘烤的晶片,其中填充了预定量的工作流体,在其侧面和顶面上形成提供工作流体的芯子;加热器,其用于通过加热工作流体来加热顶表面;辅助冷却系统,其包含液体冷却液,所述液体冷却液通过循环将与来自热管的工作流体交换;连接管,用于连接热管和辅助冷却系统以使工作流体和液体冷却液循环;和控制单元,其安装在连接管上控制经由连接管的流体流动。

    熔合装置及具有该熔合装置的成像设备

    公开(公告)号:CN101403884B

    公开(公告)日:2012-08-22

    申请号:CN200810133972.2

    申请日:2008-07-18

    CPC classification number: G03G15/2064 G03G2215/2035

    Abstract: 一种熔合装置及具有该熔合装置的成像设备。该熔合装置包括:可旋转的加压辊;熔合带,通过从可旋转的加压辊传递来的旋转力旋转;压印形成构件,与熔合带的内表面接触,以在可旋转的加压辊和熔合带之间的接触区域上形成压印;加热构件,近似地形成在熔合带的内部中间部分,以加热压印形成构件和熔合带;内部支撑构件,形成在熔合带内,朝着可旋转的加压辊压靠压印形成构件的压印部分;外支撑构件,形成在熔合带的外部,外支撑构件的两端与内支撑构件接合,从而加强内支撑构件的强度,并形成用于使辐射热消散的路径。

    加热在可记录材料上的图像的设备和方法

    公开(公告)号:CN101261481B

    公开(公告)日:2010-09-29

    申请号:CN200710140729.9

    申请日:2007-08-09

    CPC classification number: G03G15/2064 G03G2215/2035

    Abstract: 本发明公开了一种图像加热设备,包括:加压辊;带状薄膜,用来在与加压辊部分接触的同时循环运动;支撑构件,它设在带状薄膜中并且包括用来引导带状薄膜的循环运动的引导件;辊隙弹簧,它包括用来形成在带状薄膜和加压辊之间的辊隙的辊隙部分和用来相对于支撑构件支撑辊隙部分的支撑部分,所述辊隙弹簧包括用来形成辊隙的辊隙部分以及用来支撑辊隙部分的支撑部分,其中所述辊隙部分沿着加压辊的圆周面弹性变形以覆盖所述辊隙;以及加热器,它设在辊隙弹簧附近并且通过带状薄膜将热量传递给图像。

    熔合装置及具有该熔合装置的成像设备

    公开(公告)号:CN101403884A

    公开(公告)日:2009-04-08

    申请号:CN200810133972.2

    申请日:2008-07-18

    CPC classification number: G03G15/2064 G03G2215/2035

    Abstract: 一种熔合装置及具有该熔合装置的成像设备。该熔合装置包括:可旋转的加压辊;熔合带,通过从可旋转的加压辊传递来的旋转力旋转;压印形成构件,与熔合带的内表面接触,以在可旋转的加压辊和熔合带之间的接触区域上形成压印;加热构件,近似地形成在熔合带的内部中间部分,以加热压印形成构件和熔合带;内部支撑构件,形成在熔合带内,朝着可旋转的加压辊压靠压印形成构件的压印部分;外支撑构件,形成在熔合带的外部,外支撑构件的两端与内支撑构件接合,从而加强内支撑构件的强度,并形成用于使辐射热消散的路径。

    加热在可记录材料上的图像的设备和方法

    公开(公告)号:CN101261481A

    公开(公告)日:2008-09-10

    申请号:CN200710140729.9

    申请日:2007-08-09

    CPC classification number: G03G15/2064 G03G2215/2035

    Abstract: 本发明公开了一种图像加热设备,包括:加压辊;带状薄膜,用来在与加压辊部分接触的同时循环运动;支撑构件,它设在带状薄膜中并且包括用来引导带状薄膜的循环运动的引导件;辊隙弹簧,它包括用来形成在带状薄膜和加压辊之间的辊隙的辊隙部分和用来相对于支撑构件支撑辊隙部分的支撑部分;以及加热器,它设在辊隙弹簧附近并且通过带状薄膜将热量传递给图像。

    包括采用热管制造的冷却装置的烘干系统

    公开(公告)号:CN1287423C

    公开(公告)日:2006-11-29

    申请号:CN200410032662.3

    申请日:2004-03-15

    CPC classification number: H01L21/67109

    Abstract: 提供一种包括使用热管制造的冷却装置的烘干系统。在包括其上放置有一个将要进行烘干的晶片的板和对板进行加热的加热器的烘干系统中,冷却装置包括:冷却元件,设置成与板相对,同时加热器在板和冷却元件之间,并且使用内部冷却剂的汽化对板进行冷却;冷却剂存放箱,当对板进行冷却时给冷却元件供应冷却剂,当板被加热时存放冷却剂;冷却水存放箱,当对板进行冷却时使冷却水循环通过冷却元件,以将供应给冷却元件内的冷却剂的温度保持恒定;冷却水供应管线,其是冷却元件内的冷却水的流径,并且使冷却元件与冷却水存放箱相互连接。整个烘干板能均匀地加热和冷却,并且冷却所需要的时间显著地由几分钟减少到几十秒。

    用于晶片烘焙盘的冷却装置

    公开(公告)号:CN1574197A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN200410028294.5

    申请日:2004-03-09

    CPC classification number: H01L21/67109 F28D15/02 F28F3/12

    Abstract: 本发明公开了一种用于晶片烘焙盘的冷却装置。晶片烘焙盘具有用于支撑晶片的支撑盘、在支撑盘下的加热器、以及用于传递热并置于支撑盘和加热器之间的热传递板。在冷却装置中,空腔形成在晶片烘焙盘的热传递板中并被部分地填充液态工作流体。为循环冷却介质,在热传递板中设置冷却管道。通过工作流体冷却晶片烘焙盘,稳定其温度分布。由此,提高晶片的产量。

    烘烤系统
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1536446A

    公开(公告)日:2004-10-13

    申请号:CN200410032542.3

    申请日:2004-04-08

    CPC classification number: H01L21/67109 F28D15/0266 F28D15/046 F28D15/06

    Abstract: 本发明提供了一种烘烤系统,包括:加热管,在其顶表面上装载了将被烘烤的晶片,其中填充了预定量的工作流体,在其侧面和顶面上形成提供工作流体的芯子;加热器,其用于通过加热工作流体来加热顶表面;辅助冷却系统,其包含液体冷却液,所述液体冷却液通过循环将与来自热管的工作流体交换;连接管,用于连接加热管和辅助冷却系统以使工作流体和液体冷却液循环;和控制单元,其安装在连接管上控制经由连接管的流体流动。

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