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公开(公告)号:CN1641878A
公开(公告)日:2005-07-20
申请号:CN200510003952.X
申请日:2005-01-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L27/04 , H01L27/11 , H01L21/822 , H01L21/8244
CPC classification number: H01L27/1214 , H01L27/0688 , H01L27/11 , H01L27/1108
Abstract: 提供了一种包括薄膜晶体管(TFT)的半导体集成电路及制造这种半导体集成电路的方法。该半导体集成电路可以包括在半导体衬底形成的体晶体管和体晶体管上的第一层间绝缘层。下TFT可以在第一层间绝缘层上,以及第二层间绝缘层可以在下TFT上。上TFT可以在第二层间绝缘层上,以及第三层间绝缘层可以在上TFT上。体晶体管的第一杂质区、下TFT的第一杂质区以及上TFT的第一杂质区可以通过穿透第一、第二和第三层间绝缘层的节点栓塞相互电连接。