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公开(公告)号：CN105229776A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201480028625.7
申请日：2014-05-20
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F1/24 , G03F1/62
CPC classification number: G03F1/62 , G03F1/24 , G03F7/2004 , G03F7/7015
Abstract: 本发明的课题在于提供一种EUV透过性高且不易受到由热引起的损伤，进一步强度高的防护膜组件。为了达成所述课题而提供如下防护膜组件，其包括：波长550nm的光的折射率n为1.9～5.0的防护膜，以及贴附了所述防护膜的防护膜组件框。所述防护膜在组成中包含30摩尔％～100摩尔％的碳及0摩尔％～30摩尔％的氢。所述防护膜的拉曼光谱中的2D带与G带的强度比(2D带的强度/G带的强度)为1以下，或者2D带与G带的强度分别为0。
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公开(公告)号：CN103842399B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201280048389.6
申请日：2012-10-05
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C09K3/10 , C08G18/2081 , C08G18/3876 , C08G18/757 , C08G18/7621 , C08G18/7671 , C08G2190/00 , C09D175/04 , G02B1/04 , H01L51/5253 , C08L75/04 , C08L81/00
Abstract: 本发明的聚合性组合物含有（A）异氰酸酯化合物、（B）选自4，8或4，7或5，7－二巯基甲基－1，11－二巯基－3，6，9－三硫杂十一烷、4－巯基甲基－1，8－二巯基－3，6－二硫杂辛烷、季戊四醇四巯基乙酸酯、季戊四醇四巯基丙酸酯、2，5－双（巯基甲基）－1，4－二噻烷、双（巯基乙基）硫醚、1，1，3，3－四（巯基甲基硫基）丙烷、4，6－双（巯基甲基硫基）－1，3－二噻烷、2－（2，2－双（巯基甲基硫基）乙基）－1，3－二硫杂环丁烷中的至少一种的硫醇化合物、和（C）有机强碱盐。
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公开(公告)号：CN118891583A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202380027893.6
申请日：2023-03-16
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , C09J7/38 , C09J201/00
Abstract: 本发明提供一种能够抑制将防护膜组件贴附于光掩模时的滞留气泡数量的带粘着层的防护膜组件框的制造方法。本公开的带粘着层的防护膜组件框的制造方法具备如下工序：准备框前体的工序，上述框前体具备防护膜组件框(11)和形成于上述防护膜组件框(12)的作为粘着层(12)的前体的前体层；在上述前体层的表面配置玻璃化转变温度高于下述工程的加热温度的保护膜(21)，以形成带保护膜的框前体；以及，对上述带保护膜的框前体进行加热，由上述前体层形成表面得到平坦化的上述粘着层(12)。
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公开(公告)号：CN117377909B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202280032208.4
申请日：2022-08-25
Applicant: 三井化学株式会社
Inventor： 小野阳介
IPC: G03F1/62 , C01B32/168 , G03F7/20 , B82Y40/00 , B82Y30/00
Abstract: 一种防护膜，其包含多个碳纳米管，上述多个碳纳米管的下述式(1)所表示的直线性参数的平均值为0.10以下。式(1)：直线性参数＝单管的宽度的标准偏差Sa/上述宽度的平均值Aa。上述式(1)中，上述单管表示上述多个碳纳米管所含的1根碳纳米管，上述标准偏差Sa和上述平均值Aa各自基于沿上述单管的长边方向每隔2nm间隔测定上述单管的宽度而得的11处的测定值来算出。
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公开(公告)号：CN117270314A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311217958.1
申请日：2021-04-02
Applicant: 三井化学株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所
IPC: G03F1/62 , G03F7/20 , C01B32/168 , C01B32/17 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供曝光用防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置及曝光用防护膜的制造方法。一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，碳纳米管膜含有碳纳米管，碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下。＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116609996A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202310651908.8
申请日：2017-07-03
Applicant: 三井化学株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所
Abstract: 本发明提供EUV透射性进一步高的防护膜及其组件和组件框体、以及组件制造方法。此外，提供能够以此进行高精度的EUV光刻的、曝光原版、曝光装置和半导体装置的制造方法。本发明的防护膜是铺设在支撑框的开口部的曝光用防护膜，上述防护膜的厚度为200nm以下，上述防护膜包含碳纳米管片，上述碳纳米管片具备由多个碳纳米管形成的捆，上述捆的直径为100nm以下，上述捆在上述碳纳米管片中进行面内取向，上述防护膜的碳纳米管片的膜厚方向的峰强度与碳纳米管片的面内方向的峰强度之比RB为0.40以上。
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公开(公告)号：CN115735160A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202180046004.1
申请日：2021-08-03
Applicant: 三井化学株式会社
Inventor： 小野阳介
IPC: G03F1/64
Abstract: 本发明提供一种防护膜组件(10)，其包含防护膜(12)和支撑防护膜的支撑框(14)，防护膜(12)包含碳含有率为40质量％以上的碳系膜，防护膜与支撑框接触，满足下述条件1和条件2中的至少一者。〔条件1〕支撑框的与防护膜接触的面的粗糙度Ra为1.0μm以下。〔条件2〕支撑框的位于与防护膜接触的一面侧且位于防护膜组件的内部侧的边缘部中的凹凸的宽度为10μm以下。
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公开(公告)号：CN115398334A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202180027875.9
申请日：2021-04-02
Applicant: 三井化学株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所
Abstract: 一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，碳纳米管膜含有碳纳米管，碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下。＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。
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公开(公告)号：CN111919171A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN201980022551.9
申请日：2019-03-15
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种支撑框，其能够设置能够装卸地设置了过滤器的通气孔，粘贴极端紫外光光刻用的防护膜。本发明的一实施方式的支撑框是用于配置防护膜的支撑框，具备：贯通孔，其具有在与上述防护膜的面方向大致平行的第一方向上延伸的孔以及在与上述第一方向相交的第二方向上延伸的孔；以及过滤器，其设于上述贯通孔的内部或上述贯通孔的端部，并且从上述防护膜离开地配置。
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公开(公告)号：CN107924117A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680047788.9
申请日：2016-08-15
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64
CPC classification number: G03F1/64 , B32B15/08 , B32B2311/24 , B32B2379/08 , C25D11/22
Abstract: 本发明的目的在于提供一种即便照射准分子光等短波长光也难以劣化，进而难以产生逸气或异物的防护膜组件框、使用其的防护膜组件。为了实现上述目的，设为如下的防护膜组件框，其为支撑防护膜的外周的防护膜组件框，包括框架和形成于所述框架的表面的含有聚酰亚胺树脂的膜。
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