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公开(公告)号：CN102483574B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201080040708.X
申请日：2010-07-13
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C07D211/44 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: C07D211/44 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供满足曝光宽容度和MEEF性能的放射线敏感性树脂组合物及适合用于该放射线敏感性树脂组合物的化合物，该放射线敏感性树脂组合物含有(A)具有下式(1)表示的基团与氮原子结合的结构的化合物、(B)具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱可溶性增大的树脂和(C)放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN101921202B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201010198933.8
申请日：2010-06-04
Applicant: JSR株式会社
IPC: C07C217/84 , C07C213/08 , C07J41/00 , C07C219/34 , C07D207/404 , C07D303/23 , C07C215/80 , C07C213/02
Abstract: 本发明涉及一种1位取代的3，5-二氨基苯的制造方法。本发明的课题是提供简单且安全地制造1位取代的3，5-二氨基苯的方法。上述课题通过使用下式(1)所示的化合物制造1位取代的3，5-二氨基苯来实现，式(1)中，R是氢原子、碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为6～20的芳基或碳原子数为7～20的芳烷基，其中，基团-N(CH2CH＝CHR)2所具有的氢原子可以被碳原子数为1～20的烷基取代。
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公开(公告)号：CN103874940A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201280044439.3
申请日：2012-09-03
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 坪内孝史
CPC classification number: G02B1/04 , C08K5/3417 , C09B57/007 , G02B5/208 , H01L27/14618 , H01L27/14621 , H01L27/14625 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 一种近红外线截止滤波器，其特征为具有树脂制基板(I)，该树脂制基板(I)含有树脂及光吸收剂(A)，前述光吸收剂(A)具有源自以下述式(I)表示的化合物的构造的光吸收剂(A)，且前述光吸收剂(A)在前述树脂制基板(I)中，以相对于前述树脂100重量份为0.001～0.01重量份的量含有。
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公开(公告)号：CN103858028A
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201280049898.0
申请日：2012-10-12
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G02B5/208 , C09B23/0066 , C09B23/164 , C09B47/04 , C09B57/007 , C09B67/0033 , C09B67/0034 , C09K11/025 , C09K11/06 , C09K2211/1007 , G02B1/04 , G02B5/223 , G02B2207/113 , H04M1/0264 , H04N5/2254
Abstract: 本发明的课题为提供一种改良现有的近红外线截止滤光器等滤光器所具有的缺点，在光吸收时散射光少，透过率特性优良的滤光器(optical？filter)。本发明的滤光器是以含有方酸(squarylium)系化合物与吸收或猝灭该方酸系化合物的荧光的化合物为特征。优选为本发明的滤光器含有包含方酸系化合物(A)、与选自由酞菁系化合物(B-1)及花青系化合物(B-2)所组成的组群中的至少1种化合物(B)的近红外线吸收色素。
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公开(公告)号：CN103834049A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201310585965.7
申请日：2013-11-19
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种保护膜的形成方法、保护膜、硬化性组合物以及积层体。本发明提供一种晶片级封装用保护膜的形成方法，其通过将硬化性组合物涂布于具有半导体元件的晶片上，使所得的涂膜硬化而形成保护膜，所述硬化性组合物含有：含烯基的聚硅氧烷(A)、氢化聚硅氧烷(B)以及硅氢化反应用催化剂(C)，并且满足特定的条件。依据本发明的钝化膜的形成方法，即便是于晶片级封装技术中遍及宽广面积而形成保护膜的情况，也可以抑制晶片的翘曲以及保护膜的龟裂的产生。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101726999B
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN200910178797.3
申请日：2009-09-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明涉及着色组合物、滤色器及彩色液晶显示元件。本发明提供可以形成对比度比高的像素且保存稳定性也优异的着色组合物。着色组合物，含有(A)着色剂、(B)分散剂、(C)粘合剂用树脂和(D)多官能性单体，其特征在于，作为(B)分散剂，包含具有侧链上具有季铵盐基和氨基的A嵌段和侧链上不具有季铵盐基和氨基的B嵌段的嵌段共聚物。
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公开(公告)号：CN103732635A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201280038597.8
申请日：2012-08-10
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C08F267/06 , C08F8/06 , C08F8/34 , C08F22/02 , C08F24/00 , C08F28/02 , C08F212/08 , C08F220/38 , C08F290/068 , C08F293/005 , C08F2438/03 , C09D133/02 , C09D137/00 , C09D141/00 , C09D151/003 , C08F8/00 , C08F212/14 , C08F12/22 , C08F220/06 , C08F12/30 , C08F2220/325 , C08F2220/382
Abstract: 本发明提供具有优异的非特异性吸附抑制效果的新型聚合物、含有该聚合物的表面亲水化剂以及具有亲水性表面的基材的制造方法。上述聚合物含有侧链上具有亚磺酰基的亲水性重复单元。
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公开(公告)号：CN101354400B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN200810132091.9
申请日：2008-07-24
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G01N33/54313 , C08F220/26 , C08F220/56 , G01N33/531 , G01N33/54393
Abstract: 用于胶乳聚集反应的试剂，所述试剂含有具有下述式(1)所示重复单元的水溶性聚合物，其中，R1和R2彼此独立地为氢原子或具有1～8个碳原子的取代的或未取代的烷基。
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公开(公告)号：CN102272670B
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN200980154223.0
申请日：2009-09-04
IPC: G02F1/1337 , C08G73/10
CPC classification number: C08G73/1042 , G02F1/133711 , G02F1/133788
Abstract: 本发明提供一种液晶取向膜形成用组合物以及液晶显示装置，该液晶取向膜形成用组合物即使用于喷墨印刷，涂覆性也很优异，并且能够形成平坦性优异的液晶取向膜。本发明的液晶取向膜形成用组合物包含液晶取向膜形成用材料，用于形成液晶取向膜，上述液晶取向膜形成用组合物含有作为溶剂的γ-丁内酯和N-甲基-2-吡咯烷酮中的至少一种、以及4，6-二甲基-2-庚酮和二异丁酮。
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公开(公告)号：CN101805618B
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201010112251.0
申请日：2010-02-08
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1337
Abstract: 本发明涉及一种液晶取向剂、液晶取向膜的形成方法、液晶显示元件以及液晶显示元件的制造方法。本发明提供可以通过光取向法赋予预倾角，提供赋予的预倾角的随时间变化的稳定性优异的液晶取向膜的液晶取向剂。上述液晶取向剂包含具有下式(1)所示的结构的感放射线性聚有机硅氧烷。上述感放射线性聚有机硅氧烷优选为(a)具有环氧基的聚有机硅氧烷和(b)具有上式(1)表示的结构和羧基的化合物或具有下式(2)所示的基团的化合物的反应产物。-C≡C-COOH (2)。
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