研磨粒的制造方法、化学机械研磨用组合物及研磨方法

    公开(公告)号:CN118804963A

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202380024395.6

    申请日:2023-03-10

    Abstract: 本发明提供一种可通过增大相对于氧化硅膜而言的钨膜的研磨速度来有选择性地研磨钨膜,且贮存稳定性也优异的化学机械研磨用组合物及使用其的研磨方法、以及可用于这些中的研磨粒的制造方法。另外,本发明提供一种可高速研磨氧化硅膜,且贮存稳定性也优异的化学机械研磨用组合物及使用其的研磨方法、以及可用于这些中的研磨粒的制造方法。本发明的研磨粒的制造方法包括将羟基(‑OH)经由共价键而固定于表面的粒子、具有环氧基的烷氧基硅烷、及碱性化合物混合并进行加热的工序。

    着色组合物、滤色器及显示元件

    公开(公告)号:CN103374240A

    公开(公告)日:2013-10-30

    申请号:CN201310116401.9

    申请日:2013-04-03

    Abstract: 本发明提供一种含有特定的芴聚合物且保存稳定性优异的着色组合物。所述着色组合物的特征在于,含有以下成分(A)、(B1)及(C):(A)着色剂、(B1)具有下述式(1)表示的结构单元的聚合物及(C)含有选自醇类及酮类中的至少一种的溶剂;前述醇类及酮类的含有比例为溶剂总量的3~50质量%〔式(1)中,环Z1及环Z2表示单环式或稠环式烃环,Y表示从具有4个羧基的有机化合物中除去4个羧基后的残基,R1a及R1b表示氢原子或烷基,R2a及R2b表示烃基、烷氧基等,R3a及R3b表示氢原子或甲基,Ra表示具有(甲基)丙烯酰氧基的基团,Rb表示具有氢原子或(甲基)丙烯酰氧基的基团,k1及k2表示0~4的整数,m1及m2表示0~3的整数,n1及n2表示0~10的整数,t及u表示0~3的整数〕。

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