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公开(公告)号：CN114019766B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202111266973.6
申请日：2021-10-28
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种利用千束独立可控PPI点阵进行高通量直写的装置，该装置主要包含激发光和抑制光两路光，激发光路包含核心元件数字微镜阵列DMD、微透镜阵列MLA和连续变形镜DM，抑制光路包括核心元件空间光调制器SLM。本发明利用微透镜阵列MLA产生千束激发光点阵，利用高速连续变形镜DM矫正系统波前像差，实现点阵分布均匀性和光斑质量的优化，利用数字微镜阵列DMD对点阵的开关、强度进行独立调控，抑制光路通过空间光调制器SLM产生四束光，四束光在物镜焦平面干涉产生的点阵暗斑用于涡旋抑制光，与激发光点阵在物镜焦平面重合后形成千束PPI点阵，可实现大面积复杂三维结构的超分辨高通量灵活刻写。
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公开(公告)号：CN116642882B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202310423940.0
申请日：2023-04-20
Abstract: 一种基于脉冲调制的干涉散射泵浦探测成像系统，包括飞秒激光器、分束镜、非共轴光参量放大器、全反镜、超连续谱产生装置、电控位移台、二向色镜、反射式物镜、凸透镜、单色仪、光电探测器、锁相放大器、窄带滤光片、空间滤波器、互补金属氧化物半导体和计算机等部件。本发明还包括一种基于脉冲调制的干涉散射泵浦探测成像系统。本发明将超快光谱技术与干涉散射成像方法相结合，实现对单颗粒样品的检测，可视化能量载体的传输，分布和弛豫过程。再利用非共轴光参量放大技术调制泵浦/探测脉冲，抑制激子漂白，最大化激发态吸收过程，实现飞秒时间分辨率下的激子共振干涉信号增强，可以提升泵浦探测成像系统的灵敏度。
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公开(公告)号：CN113189848B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110428517.0
申请日：2021-04-21
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤阵列的多通道并行式超分辨直写式光刻系统，通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合，以及引入抑制光束阻止激发光焦斑边缘位置的光刻胶进行光聚合，使直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制；并通过光纤阵列和普通空间光学器件实现多通道并行直写，极大地提升直写式光刻系统的运行效率。本发明使用普通市售的光纤及空间光学器件构建系统，可行性高、实现成本低。
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公开(公告)号：CN111999981B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202010909760.X
申请日：2020-09-02
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种智能飞秒激光光刻胶组合物及图案化方法，该智能飞秒激光光刻胶由智能活性单体、活性稀释剂、双光子引发剂及溶剂组成；其中，智能活性单体为特殊可光聚合的N‑取代丙烯酰胺类化合物；活性稀释剂为可光聚合的(甲基)丙烯酸酯类化合物；双光子引发剂为对飞秒激光具有非线性双光子吸收和引发能力的化合物。本发明智能飞秒激光光刻胶组合物可以被飞秒激光引发聚合，并对温度产生智能响应；当升高温度时，智能飞秒激光光刻胶发生均匀、稳定、可控的体积收缩，从而获得更高的分辨率和更小的特征尺寸，可以提高光刻胶的分辨率；通过控制智能活性单体的添加量可以控制光刻胶的收缩率，具有稳定可控的图案化制造能力。
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公开(公告)号：CN113515016B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202110388077.0
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于DMD数字掩膜的双光束激光直写方法和装置，该装置包括两路光，每路光各含一个DMD加载相应的数字图形，其中一路光中的DMD加载待刻写的实心图形，用于引发光刻胶的聚合反应；另一路光中的DMD加载所述实心图形对应边缘的空心图形，用于抑制光刻胶的聚合反应；将两路光进行合束后使两个图形投影到样品面上并实现严格对准。本发明通过DMD产生数字掩膜在实现快速面直写的基础上，通过双路激光分别进行引发和抑制光刻胶聚合可提高直写分辨率。利用本发明，有望实现高速高分辨激光直写，为纳米加工技术实现大批量生产提供新思路。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117269133A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311207609.1
申请日：2023-09-19
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开一种三维即时荧光寿命成像方法与装置，该方法通过对激发光进行相位调制或者全息调制，实现一种非典型聚焦光斑，该光斑具有轴向非对称特征，利用该聚焦光斑实现对样品不同层面同时分区扫描，同时对激发的荧光进行离焦矫正相位调制，实现对不同焦面荧光聚焦在同一面阵探测器的探测面上，结合寿命探测仪器，创新性地实现低像差的三维即时扫描荧光寿命成像，即实现对样品单次二维扫描获得三维荧光寿命信息。相比于传统的层切式扫描荧光寿命成像方法，本发明通过单次二维扫描即可实现三维荧光寿命成像的方法和装置可以明显提高三维荧光寿命成像速度，提高三维荧光寿命成像的可适用范围。
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公开(公告)号：CN117269001A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311029089.X
申请日：2023-08-16
Applicant: 之江实验室
Abstract: 基于周期孔洞超表面的反射式高灵敏度干涉散射显微成像装置和方法，其装置包括连续光激光器、多个光学透镜、光学四分之一波片、光学分束器、物镜、超表面载玻片、样品台、光学反射镜和成像相机。连续光激光器发射的线偏振光首先经透镜组扩束，随后通过四分之一波片转变为圆偏振光，并经光学透镜聚焦于物镜后焦面上，通过物镜的光束以宽场形式照射到超表面载玻片上，与纳米颗粒发生相互作用。利用成像相机对纳米颗粒的散射光和超表面载玻片的直接反射光进行收集，经图像处理去除背景后即可实现对纳米颗粒的干涉散射成像。本发明基于周期孔洞超表面载玻片的电场局域增强能力，可以显著增强纳米颗粒的散射光信号，提高成像对比度，解决传统干涉散射显微镜小颗粒检测能力有限的问题，提升了系统的检测灵敏度。
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公开(公告)号：CN116430687B
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202310698595.1
申请日：2023-06-14
Abstract: 本发明涉及一种超分辨激光纳米直写光刻技术，具体涉及一种基于双光束的高通量超分辨三维刻写方法与系统，该方法为，合束光平行入射数字微镜器件并经数字微镜器件反射后入射微透镜阵列，于微透镜阵列焦平面处形成聚焦点阵，使该聚焦点阵成像于双光束光刻胶表面形成激发光束与抑制光束重合的刻写点阵，对双光束光刻胶进行曝光；合束光由激发光束与抑制光束合束得到；通过调节数字微镜器件区域微镜的开关状态，调控刻写点阵中各点处的能量；通过调节抑制光束的能量，使刻写点阵中各点于中心区域形成光刻胶聚合促进，于外围区域形成光刻胶聚合抑制。与现有技术相比，本发明实现了高通量、超分辨、三维纳米结构的刻写，大幅提升刻写精度与效率。
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公开(公告)号：CN117170116A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202311053404.2
申请日：2023-08-21
IPC: G02B27/28
Abstract: 本发明公开了一种基于空间光调制器屏分复用的柱矢量光束产生系统，包括：所述激光器，用于提供初始的激发光；所述偏振控制模块，用于调节入射激发光的偏振方向，以获得对应的线偏振激光，其包括垂直偏振分量和水平偏振分量；所述准直扩束模块，用于调节线偏振激光的光束直径，并入射至空间光调制器的液晶面元；所述空间光调制模块，根据预加载在空间调制器两屏上的相位图，并调节入射线偏振激光的偏振角度，以生成目标柱矢量光束；所述观测模块，用于观测所述目标柱矢量光束的能量分布和偏振分布形式。本发明还提供一种柱矢量光束产生装置。本发明提供的系统可以有效提高柱矢量光束的能量利用率以及降低系统误差。
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公开(公告)号：CN116183568B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202310020503.4
申请日：2023-01-06
Abstract: 一种三维结构光照明超分辨显微成像的高保真重构的方法，包括：将一束平行光分为强度相等、偏振方向一致的三束平行光束，在样品上进行干涉形成三维非均匀照明光场，样品受到非均匀照明光场调制后频谱产生频移；由物镜接收样品发出的荧光信号后，经过场镜汇聚到成像像面，用探测器接收该荧光信号，得到一张混有样品高低频信息的低分辨率图像；多次改变照明光场的空间位移和方向，再次拍摄受光场调制的荧光信号，得到一系列混有样品高低频信息的低分辨率图像，作为原始图像。再将原始图像进行后续图像处理，首先进行照明光场的初始相位和空间频率的参数估计，然后再对样品各个频带进行分离，最后将各频谱进行组合重构出样品的高保真超分辨图像。
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