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公开(公告)号：CN102214554A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN201110161250.X
申请日：2011-06-15
Applicant: 清华大学
CPC classification number: H01L21/67046
Abstract: 本发明公开了一种用于晶圆的刷洗装置，所述用于晶圆的刷洗装置包括：机架；支撑件，支撑件设在机架上以用于使晶圆可旋转地支撑于支撑件上；以及第一和第二毛刷组件，第一和第二毛刷组件相对地且间隔开地安装在机架上以分别用于刷洗晶圆的两侧表面，其中第一毛刷组件和第二毛刷组件各自包括：主动旋转盘，主动旋转盘可旋转地安装在机架上；毛刷，毛刷可旋转地安装在主动旋转盘上且主动旋转盘的旋转轴线平行于毛刷的旋转轴线；和驱动组件，驱动组件分别与主动旋转盘和毛刷相连以分别驱动主动旋转盘和毛刷绕各自的旋转轴线旋转。根据本发明实施例的用于晶圆的刷洗装置可以保持毛刷的表面润湿，从而提高晶圆的清洗效果。
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公开(公告)号：CN102129959A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN201110001269.8
申请日：2011-01-05
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种晶圆清洗装置及利用所述晶圆清洗装置清洗晶圆的方法，晶圆清洗装置设置在抛光设备的抛光工位与缓冲工位之间，晶圆清洗装置包括：多个扇形喷头，扇形喷头的喷口朝向上以将清洗液以扇形形状向上喷射到由抛光头带动从抛光工位朝向缓冲工位移动的晶圆上；和清洗液输送管，清洗液输送管与多个扇形喷头相连用于将清洗液输送到多个扇形喷头，且清洗液输送管为环形以使多个扇形喷头成环形分布。根据本发明实施例的晶圆清洗装置能够从晶圆表面的下方将清洗液喷射到晶圆的表面，从而对晶圆的表面进行全面的清洗。而且，扇形喷头可以喷射出扇形形状的清洗液，从而使清洗液均匀地分布到晶圆的表面，避免因清洗液对晶圆的表面产生冲击。
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公开(公告)号：CN118308685A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410413677.1
申请日：2024-04-08
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明涉及表面处理技术领域，特别涉及一种射频磁场辅助离子渗氮装置及方法，其中，该装置设置在目标离子渗氮炉中，具体包括：绝缘屏蔽部件，绝缘屏蔽部件用于放置目标工件，并使目标工件处于悬浮状态；射频电源，射频电源用于发射预设功率的电信号；匹配器，匹配器与射频电源连接，用于匹配射频电源与电磁线圈之间的阻抗；电磁线圈，电磁线圈穿过绝缘屏蔽部件与匹配器连接，用于根据电信号激发电磁感应等离子体，以对目标工件进行离子渗氮。由此，解决了传统阴极辉光放电离子渗氮技术中等离子体密度低、渗氮效率低等问题。
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公开(公告)号：CN115305436B
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202210938796.X
申请日：2022-08-05
Applicant: 清华大学
Abstract: 本申请涉及工业生产技术领域，特别涉及一种双等离子激发源的离子扩渗设备及其设计方法，其中，包括：设备本体；空心阴极装置，用于根据直流辉光放电效应在所述空心阴极装置内部产生第一等离子体；至少一个射频放电线圈，用于在线圈通以频率大于预设频率的高频交流电时，通过电感耦合等离子体方式在所述空心阴极装置内部产生第二等离子体，并与所述第一等离子体耦合得到第三等离子体，利用所述第三等离子体在所述设备本体内进行渗氮生成渗氮层，以实现离子扩渗。由此，解决了相关技术中等离子激发设备由于等离子体密度不足，无法有效制备渗层厚度大且整体变形小的渗氮层，无法有效提高扩散速率等问题。
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公开(公告)号：CN116572728A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310612085.8
申请日：2023-05-26
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种轮毂电机驱动装置及汽车，包括轮辋、电机、以及多级减速机构，其中，轮辋可转动地连接在轮毂电机驱动装置的支架构件上，支架构件将轮辋的容纳空间分隔为驱动腔和减速腔；电机位于驱动腔中，具有第一输出轴；多级减速机构位于减速腔中，且与电机的第一输出轴传动连接，其包括切换减速单元和至少两级减速单元，切换减速单元与至少两级减速单元传动连接，至少两级减速单元能与轮辋驱动相连；其中，切换减速单元能在切换机构离合机构的作用下与至少两级减速单元二级减速单元接合或分离。解决目对现有轮毂电机采用的单级减速机构无法满足一些高功率密度重载且有较高转速和增扭需求的问题，提升电动轮的功率密度，同时提高制动效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115305436A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210938796.X
申请日：2022-08-05
Applicant: 清华大学
Abstract: 本申请涉及工业生产技术领域，特别涉及一种双等离子激发源的离子扩渗设备及其设计方法，其中，包括：设备本体；空心阴极装置，用于根据直流辉光放电效应在所述空心阴极装置内部产生第一等离子体；至少一个射频放电线圈，用于在线圈通以频率大于预设频率的高频交流电时，通过电感耦合等离子体方式在所述空心阴极装置内部产生第二等离子体，并与所述第一等离子体耦合得到第三等离子体，利用所述第三等离子体在所述设备本体内进行渗氮生成渗氮层，以实现离子扩渗。由此，解决了相关技术中等离子激发设备由于等离子体密度不足，无法有效制备渗层厚度大且整体变形小的渗氮层，无法有效提高扩散速率等问题。
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公开(公告)号：CN114481008B
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202210066178.0
申请日：2022-01-20
Abstract: 本公开提供的离子氮碳硫多元共渗辅助设备、处理系统及方法，辅助设备包括：放置在离子扩渗炉的炉体顶部的空心阴极离子源，放置于炉体侧壁上的绝缘壳体，和多个同轴且由内至外依次间隔排布于绝缘壳体内的电磁铁，相邻两个电磁铁的绕线方式相反，多个电磁铁用于在离子扩渗炉内形成可控的磁场，以改变金属工件表面电子的运动轨迹和金属工件的磁畴。处理系统包括：离子扩渗炉、离子氮碳硫多元共渗辅助设备、变压器、真空泵、供气瓶和电气控制柜。处理方法包括向炉体内通入含有氮元素、碳元素、氢元素和硫元素的气体，并向金属工件提供可控的磁场。本公开可减少工件表面硫化物的间隙，使硬度呈现缓慢下降的趋势，提高工件表面硬度和使用寿命。
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公开(公告)号：CN115044866A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210530248.3
申请日：2022-05-16
Abstract: 本发明公开了一种多层梯度结构涂层及其制备方法。所述多层梯度结构涂层包括：基底；依次沉积在所述基底表面的Cr打底层、CrN过渡层、CrWN过渡层、WCrZrCN和CrWZrCN的交替复合层。本发明在多层梯度结构涂层中引入了W、Zr、Cr、N和C元素，进一步提高了涂层的硬度、耐磨性、塑韧性和耐高温性能，且使涂层的微观组织更加致密，并使得基体和涂层间保持合理的多层硬度梯度，在合理控制内应力的同时还提升了基体和涂层的结合强度。
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公开(公告)号：CN113202862B
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202110499641.6
申请日：2021-05-08
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明属于智能轴承技术领域，涉及一种关节轴承。包括轴承内圈、轴承外圈、轴承端盖、自润滑层、柔性电路板、微型传感器集成系统、无线信息传输系统和无线供电系统；柔性电路板安装在轴承端盖的内侧，柔性电路板与轴承端盖热熔为一体；微型传感器集成系统和无线信息传输系统设置在柔性电路板上；无线供电系统利用轴承端盖和轴承外圈上的微孔，通过线路与微型传感器集成系统和无线信息传输系统相连；无线供电系统的接收端线圈和发射端线圈置于轴承外圈外环的环形凹槽内。本关节轴承中采用基于谐振耦合方式进行无线供电，简化了轴承结构，又增加了轴承的功能而且关节轴承的检测更加实时、高效，轴承的运行更加安全可靠。
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公开(公告)号：CN113999953A
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN202111170513.3
申请日：2021-10-08
Applicant: 清华大学
IPC: C21D1/25 , C21D6/00 , C22C38/02 , C22C38/04 , C22C38/06 , C22C38/20 , C22C38/22 , C22C38/42 , C22C38/44 , C23C8/02 , C23C8/38 , C23C8/80
Abstract: 本申请属于金属材料表面处理技术领域，具体而言，涉及一种高硬度38CrMoAl氮化钢的化学热处理方法。本方法对38CrMoAl材料没有尺寸和几何形状的限制。化学成分包括：Fe、C、N、Mn、Si、Cr、Mo、Al、S、P和其他残留元素，其中碳含量0.35％～0.42％。经过调质、表面处理、离子氮碳共渗和后处理；其中调质处理提高了材料的综合力学性能；空心阴极筒的使用提高了气体的电离几率，使得工件表面附近的电离密度增加；特定参数下的离子氮碳共渗使38CrMoAl表层组织发生调幅分解，转变为高氮马氏体。三个效果共同作用，不仅缩短了扩渗处理的时间，而且将38CrMoAl表面硬度提高到1200Hv以上。
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