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公开(公告)号：CN114894224B
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202210815098.0
申请日：2022-07-12
Abstract: 本发明公开了一种灵敏度可调长工作距离差分共焦系统，包括激光器、准直镜、半波片、偏振分束器、λ/4波片、扩束镜/缩束镜、物镜、共焦透镜、分束器、小孔、光强探测器。通过调节激光出射直径改变系统灵敏度和探测范围，解决了差分共焦灵敏度高但探测范围小的问题。从而可先通过低分辨大探测范围模式进行初步测量或对焦，再通过高分辨小探测范围模式进行测量或对焦，最后实现大探测范围和高灵敏度的测量或对焦。另外，当物镜离共焦系统较远时，长焦距差分共焦系统的焦点和物镜焦点可以构成4f关系的问题，对于显微镜和激光直写设备有重要应用价值。本发明可广泛应用于激光直写系统、显微镜、测量系统。
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公开(公告)号：CN114779591B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202210717492.0
申请日：2022-06-23
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双色双步吸收效应的超分辨光刻方法，该方法基于苯偶酰光引发剂基态与三重态的光谱吸收特性，利用一束材料基态吸收范围波长的激光束与另一束材料三重态吸收范围波长的激光束共同作用于材料中，通过控制两者的能量实现双色双步吸收效应，并且结合两者的相对位移控制，从而获得小于衍射极限的刻写线宽。本发明将提供一种亚百纳米精度刻写精度与快速刻写能力的超分辨纳米激光直写方法，使三维光刻直写技术具有高速、超分辨、复杂结构刻写能力的优点。
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公开(公告)号：CN112505915B
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202011296003.6
申请日：2020-11-18
Abstract: 本发明公开了一种激光束漂移实时探测与快速校正装置及方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、压电调节镜架、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件；通过纳米位移台与直角棱镜反射镜的组合，实现光束位置漂移的独立调控，通过压电调节镜架实现光束指向角度的独立调控。本发明通过光束指向位置漂移与角度漂移的独立调控，避免了常规光束指向系统中的解耦操作，实现小型化、高精度、快速度的光束稳定控制。利用本发明装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN114895536A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210823416.8
申请日：2022-07-14
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于激光直写的图案化Zn‑MOF膜的制备方法，属于图案化材料的技术领域，该制备方法包括以下步骤：（1）利用飞秒激光直写技术，对锌基光刻胶进行图案化光刻，显影后得到聚合后的光刻图案；（2）将得到的光刻图案进行高温退火，得到图案化的ZnO薄膜；（3）以ZnO为金属源，将其置于含有配体溶液的反应釜中，通过水热反应得到图案化的Zn‑MOF膜，本发明利用激光直写的方法能快速制备图案化的MOF膜、操作简单，更能在微米尺寸对MOF膜的图案进行控制。
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公开(公告)号：CN114895535A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210817874.0
申请日：2022-07-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双步吸收效应与STED原理的超分辨光刻方法，对于含有特殊光引发剂的光刻胶，使用两束不同波长的光源照射光刻胶，第一束激光以聚焦实心斑照射到光刻胶，利用聚焦实心斑与该光刻胶发生双步吸收作用使得光刻胶聚合固化；第二束激光为聚焦空心斑，且与第一束激光的三维中心对准，使得两束光边缘重合区域的光刻胶不发生聚合固化，通过控制两束光的相对能量，从而实现亚衍射极限2D及3D结构刻写，刻写最小精度可达亚50nm。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114894224A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210815098.0
申请日：2022-07-12
Abstract: 本发明公开了一种灵敏度可调长工作距离差分共焦系统，包括激光器、准直镜、半波片、偏振分束器、λ/4波片、扩束镜/缩束镜、物镜、共焦透镜、分束器、小孔、光强探测器。通过调节激光出射直径改变系统灵敏度和探测范围，解决了差分共焦灵敏度高但探测范围小的问题。从而可先通过低分辨大探测范围模式进行初步测量或对焦，再通过高分辨小探测范围模式进行测量或对焦，最后实现大探测范围和高灵敏度的测量或对焦。另外，当物镜离共焦系统较远时，长焦距差分共焦系统的焦点和物镜焦点可以构成4f关系的问题，对于显微镜和激光直写设备有重要应用价值。本发明可广泛应用于激光直写系统、显微镜、测量系统。
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公开(公告)号：CN113156737B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202110046973.9
申请日：2021-01-14
Abstract: 一种基于宽带倍频和DMD的紫外飞秒涡旋光产生装置及方法，该装置包含三个功能模块：第一模块为衍射光栅，用于控制宽带基频飞秒激光角谱，输出具有角色散的脉冲；第二模块为频率变换模块，该模块为非线性晶体或晶体级联，实现宽带相位匹配，输出高频谐波脉冲；第三模块为DMD数字微镜阵列，用于谐波的角色散补偿和光场调制。发明装置首先通过光栅和非线性晶体的宽带倍频模块，产生宽带高次谐波脉冲，并通过DMD数字微镜阵列对宽带高次谐波进行角色散补偿和涡旋光调制，最终输出无角色散的紫外飞秒涡旋光束。
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公开(公告)号：CN114527630B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210417731.0
申请日：2022-04-21
Abstract: 本发明公开了一种二氧化锆微纳图案的飞秒激光直写方法，将异丙醇锆与有机酸反应得到光刻胶单体，将光刻胶单体与光引发剂按比例溶解，旋涂在基板上之后，可在飞秒激光的诱导下在选定的位置发生聚合，显影后形成光刻图案，将所得的图案在空气气氛中高温退火，得到二氧化锆微纳图案，该方法无需掩模版，可以快速简便地制造任意的二氧化锆微纳图案，可用于电路电容和半导体微器件等产品的制造加工。
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公开(公告)号：CN110632045B
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN201910855174.9
申请日：2019-09-10
Abstract: 本发明公开了一种产生并行超分辨焦斑的方法，具体为：使用空间光调制器将激光器发出的激发光调制为多焦点的高斯光斑；激光器发出的耗尽光经过偏振分束器和方向垂直的两个光栅分成四束耗尽光，并在物镜后焦面干涉生成多焦点的空心光斑；多焦点空心耗尽光抑制多焦点高斯激发光外圈激发的荧光分子发出荧光，从而并行地获得远小于衍射极限的有效荧光信号进行显微成像和激光直写光刻。本发明还公开一种产生并行超分辨焦斑的装置。本发明能够实现超高速和超高分辨率的受激发射损耗显微成像和激光直写光刻加工。
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公开(公告)号：CN114442257A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202210087665.5
申请日：2022-01-25
Abstract: 本发明公开了一种大范围高精度光束焦面跟踪装置，入射光束首先依次经过所述二分之一波片、偏振分束镜和四分之一波片，形成第一光束；第一光束经过所述物镜聚焦在样品表面，而聚焦在样品表面的激光被样品表面反射，依次经过物镜与四分之一波片后，被偏振分束镜反射到另一侧，形成第二光束；第二光束经过非偏振分束镜分解为第三光束与第四光束；第三光束经过所述第一柱面镜和第二柱面镜后，入射到所述四象限探测器的探测面上；第四光束经过所述透镜和针孔后，入射到所述光电倍增管探测器的探测面上。本发明与现有焦面跟踪装置相比，既可以保证高精度，又极大的扩展了焦面跟踪的范围。
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