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公开(公告)号：CN101943859A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN201010224532.5
申请日：2010-07-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 一种卷对卷紫外纳米压印装置及方法，该装置包括传输装置、涂布装置、预固化装置、压印装置和强固化装置，该涂布装置将紫外光胶均匀的涂布于由传输装置传输的待压印材料上，经预固化装置流平和半固化之后，送至压印装置进行压印，最后通过强固化装置硬化成型。相对于现有的纳米压印技术，本发明的压印装置具有更高的生产效率和良率。本发明还揭示了一种利用上述装置实现卷对卷紫外纳米压印的方法。
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公开(公告)号：CN101016634B
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200610155974.2
申请日：2006-12-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法，包括下列步骤：(1)在金属滚筒上涂布光刻胶，在光刻胶上制作微结构掩膜，通过显影去除感光部分至露出金属表层；(2)将上述处理后的金属滚筒置于电铸溶液中，连接至电源阴极，进行金属电沉积，沉积厚度为150～500纳米；(3)从电铸溶液中取出金属滚筒，去除剩余的光刻胶即得到具有表面浮雕微结构的金属滚筒。本发明通过光刻与电铸的结合实现了具有表面浮雕结构的金属滚筒的制作，不需要进行平版卷绕拼接，不会产生拼缝，且可以获得高硬度的浮雕微结构，因而特别适用于高速连续滚动式模压复制；同时，金属光栅深度可以得到控制。
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公开(公告)号：CN100578289C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200710153957.X
申请日：2007-09-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种衍射变色激光打标方法及其装置，采用大功率半导体泵浦固体激光器作为光源，激光束满足干涉要求，由分束元件产生分束光，通过光学透镜组将光点会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在材料表面位置激光功率密度超过材料损伤阈值，以形成干涉条纹刻蚀，通过扫描控制，实现衍射光变色图形的打标。所述的装置，采用由光源、光束整形器和干涉光学系统构成的干涉型光学头，形成的干涉条纹光场位于放置在所述运动平台的待打标材料表面。本发明可以避免陨石坑效应，提高图像的分辨率；获得衍射变色的激光打标图样。
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公开(公告)号：CN100552538C
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200710039275.6
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种具有全息柱面透镜结构的投影屏，包括屏幕主体，设置于屏幕主体一侧表面的菲涅尔透镜层，设置于屏幕主体另一侧表面的全息柱面透镜阵列层，其特征在于：所述全息柱面透镜阵列上附带有散斑信息结构，所述散斑信息结构是以经过全息柱面透镜和散斑屏的出射光为物光，与参考光干涉成像获得的，全息柱面透镜阵列及附带于其上的散斑信息结构由其制备光路条件限定。本发明采用全息柱面透镜与散斑屏相结合，控制出射光线竖直和水平方向的视场，从而压缩竖直方向视场、增大水平方向视场，获得了高亮度、大视场的全息投影屏，且可方便地实现三维投影。
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公开(公告)号：CN101546004A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910031267.6
申请日：2009-04-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：所述彩色滤光层为级联亚微米光栅，由二维亚微米级介质光栅和金属光栅级联构成，所述介质光栅位于近基板侧，介质材料的折射率大于1.65，所述金属光栅位于远离基板侧，同一位置的上、下两种光栅除光栅深度外的结构参数相同；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明的彩色滤光片TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，提高输出光的纯度，能进行超大幅面的制造，便于批量化生产，且便于设计为柔性可控的彩色滤光片。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105629678A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610047977.8
申请日：2016-01-25
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种直写系统运动平台的正交性测定方法，包括以下步骤：步骤一，设计光刻文件，使其四个角具有定位标记点；步骤二，将基板固定于运动平台上；步骤三，根据光刻文件对基板进行直写曝光；步骤四，记录下基板各个侧边对应运动平台的XY方向，然后进行显影、清洗、烘干；步骤五，将基板旋转90°后固定于直写系统的运动平台上；步骤六，移动运动平台，分别使得四个定位标记点位于CCD的中心位置，并记录下相应的位置坐标；步骤七，将位置坐标连线形成平行四边形，计算运动平台的正交性。本发明相较于现有技术，无需借助第三方设备与工具，周期快，简单便捷，成本低，而且适用于大幅面平台的校正。
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公开(公告)号：CN103246195B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201310166341.1
申请日：2013-05-08
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种三维激光打印方法与系统，采用四参量连续调制激光打印输出方法制备由按位置坐标排列的具有特定光栅空频和取向角的衍射像素构成的三维图像。衍射像素中光栅条纹参数的调制方法基于4F成像系统与衍射光栅实现，4F成像系统包括第一傅立叶变换透镜或透镜组与第二傅立叶变换透镜或透镜组，衍射光栅置于第一傅立叶变换透镜或透镜组与第二傅立叶变换透镜或透镜组之间，通过改变衍射光栅与第一傅立叶变换透镜或透镜组之间的距离，实现光栅条纹的空频的连续调制，通过旋转衍射光栅，实现光栅条纹的光栅取向角的连续调制。本发明实现了光栅空频和取向的连续可调，基于光栅空频和取向连续可变的四参量的微纳结构来编码形成三维彩色图像。
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公开(公告)号：CN104298080B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201410621284.6
申请日：2014-11-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种无掩膜激光直写叠加曝光方法，在精密运动平台X方向走位的同时，曝光图形在SLM空间光调制器高度方向上做等像素平移显示，当平台移动距离等于SLM空间光调制器件像素成像平移量时发出曝光信号实现图形与位置的同步曝光。一行曝光完毕后SLM空间光调制器件宽度方向上图像做设定像素的平移显示，同时精密运动平台Y向偏移对应设定像素成像距离，实现高度与宽度方向上两维叠加曝光。本发明叠加曝光方法手段灵活，要获得不同的曝光叠加次数只需更改X方向显示平移量与Y方向叠加次数即可；可方便的实现对曝光计量进行精确控制；图形数据量小，任意次搭接叠加曝光数据量相同。
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公开(公告)号：CN101850680A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN201010180251.4
申请日：2010-05-24
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有动态立体效果的安全薄膜，具有微透镜阵列层、基材层、微图文层；微图文层内包括至少6个微图文；在使用状态下，所述微图文层位于微透镜阵列的焦面附近，其特征在于：微透镜阵列层内的各微透镜的中心坐标在微透镜阵列层内随机分布，微透镜阵列层内的微透镜与微图文层内的微图文一一对应设置。本发明利用莫尔放大和微透镜技术，实现了许多独特的视觉效果，减少了工艺流程，除了紫外压印以外，还可在PET、PMMA、PC等有机薄膜材料上直接制作，具有很高的性能。
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