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公开(公告)号:CN115605425A
公开(公告)日:2023-01-13
申请号:CN202180034465.7
申请日:2021-05-24
Applicant: 日本瑞翁株式会社(JP)
Inventor: 西冈宽哉
Abstract: 本发明的目的在于提供一种微通道芯片及其制造方法,上述微通道芯片即使进行高温高压灭菌处理,通道也不会变形,可维持基板彼此的强有力的接合性。本发明的微通道芯片包含在至少一个表面形成有微细通道的通道基板、盖基板、以及将它们接合的接合层,通道基板、盖基板以及接合层由环状烯烃聚合物构成,构成通道基板的环状烯烃聚合物的玻璃化转变温度Tgs1、构成盖基板的环状烯烃聚合物的玻璃化转变温度Tgs2、构成接合层的环状烯烃聚合物的玻璃化转变温度Tg2的关系为:Tgs1>Tg2、且Tgs2>Tg2,接合层的厚度在规定的范围。
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公开(公告)号:CN115605353A
公开(公告)日:2023-01-13
申请号:CN202180035568.5
申请日:2021-05-12
Applicant: 日本瑞翁株式会社(JP)
Inventor: 原井谦一
IPC: B42D25/364 , B41M3/14 , G02B5/30 , G07D7/12
Abstract: 本发明提供一种真伪判断构件,其包含:基材层,其为反射型圆起偏器;第一印刷层,其包含作为具有胆甾型规整性的树脂层(A1)的碎片的树脂颜料,设置在上述基材层上;以及第二印刷层,其包含不具有圆偏振光分离功能的金属颜料,设置在上述基材层上。一种真伪判断构件的真实性判断方法,其包括:工序(1),使非偏振光从真伪判断构件的一个主面侧入射并观察,得到反射图像(1);工序(2),使非偏振光从上述真伪判断构件的另一个主面侧入射并观察,得到反射图像(2);以及工序(3),判断上述反射图像(1)与上述反射图像(2)不同。
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公开(公告)号:CN108473740B
公开(公告)日:2022-12-16
申请号:CN201680073468.0
申请日:2016-12-07
Applicant: 日本瑞翁株式会社
Inventor: 藤原崇伦
IPC: C08L27/06 , B29C41/18 , B32B5/18 , B32B27/30 , B32B27/40 , C08K5/103 , C08K5/12 , B29K27/06 , B29L31/58
Abstract: 本发明的氯乙烯树脂组合物包含(a)氯乙烯树脂、(b)由规定的下述式(1)所示的化合物构成的二酯增塑剂、以及(c)由下述式(2)[式(2)中,R4、R5及R6为烷基,彼此能够相同也能够相异,R4、R5及R6的直链率分别小于90摩尔%。]所示的化合物构成的偏苯三酸酯增塑剂。
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公开(公告)号:CN111656564B
公开(公告)日:2022-12-06
申请号:CN201980009518.2
申请日:2019-02-05
Applicant: 日本瑞翁株式会社
Inventor: 增田爱
IPC: H01M50/449 , H01M50/417 , H01M50/414 , H01G11/38 , H01G11/52 , H01M4/02 , H01M4/04 , H01M4/62 , H01M4/13 , H01M4/139
Abstract: 本发明提供一种电化学元件用粘结剂组合物,其包含聚合物A和水。而且,聚合物A中的含酰胺基单体单元的含量为10质量%以上且90质量%以下,聚合物A中的含环氧基单体单元的含量为0.1质量%以上且50质量%以下。
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公开(公告)号:CN115368603A
公开(公告)日:2022-11-22
申请号:CN202210994462.4
申请日:2015-10-09
Applicant: 日本瑞翁株式会社
Abstract: 本发明提供一种高温环境下的尺寸稳定性优异的树脂膜。一种树脂膜,由包含具有结晶性的含有脂环式结构的聚合物的树脂形成,在150℃加热了1小时的情况下的热尺寸变化率的绝对值在膜面内的任意的方向上为1%以下。含有脂环式结构的聚合物优选为双环戊二烯的开环聚合物的氢化物。本发明还提供一种树脂膜的制造方法,其包含一边维持结晶膜平坦、一边缓和结晶膜的张紧的工序。
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公开(公告)号:CN110366536B
公开(公告)日:2022-11-08
申请号:CN201880014646.1
申请日:2018-02-19
Applicant: 日本瑞翁株式会社
Inventor: 川上修
IPC: C01B32/174 , C01B32/159
Abstract: 本发明提供一种碳纳米结构体,其能够制备分散稳定性优异的碳纳米结构体分散液。本发明的表面处理了的碳纳米结构体的制造方法包含下述工序:减压处理工序,将包含碳纳米结构体和分散介质的含有碳纳米结构体的液体进行减压;表面处理工序,在减压处理工序后或减压处理工序中向含有碳纳米结构体的液体中添加氧化剂,使碳纳米结构体的表面氧原子浓度为7.0at%以上。在此,碳纳米结构体优选包含碳纳米管。
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公开(公告)号:CN108780749B
公开(公告)日:2022-10-14
申请号:CN201780015415.8
申请日:2017-03-08
Applicant: 日本瑞翁株式会社
Inventor: 松浦豪
IPC: H01L21/3065 , H01L21/3213 , H01L21/768 , H05H1/46
Abstract: 本发明的等离子体蚀刻方法是使用至少一种氟碳气体与由化学式(I)表示的至少一种氢氟醚气体的混合气体来作为处理气体的等离子体蚀刻方法。
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公开(公告)号:CN115151752A
公开(公告)日:2022-10-04
申请号:CN202180011078.1
申请日:2021-03-23
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 国立大学法人九州大学
Abstract: 本发明提供一种耐久性优异、能够充分抑制产生起泡破损的高压氢设备用气体密封构件。本发明的高压氢设备用气体密封构件由含有弹性体和平均长度为100μm以上且1000μm以下的纤维状碳纳米结构体的弹性体组合物的交联物构成,纤维状碳纳米结构体的表面分形维数为2.3以上且3.0以下、或者旋转半径为50nm以上且500nm以下,进而纤维状碳纳米结构体的内径为4.0nm以下。
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