定向耦合器
    112.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102790253A

    公开(公告)日:2012-11-21

    申请号:CN201110128183.1

    申请日:2011-05-18

    Abstract: 一种定向耦合器,利用二维长方晶格柱状光子晶体的自准直效应实现,属于半导体光学技术领域。该定向耦合器通过在相邻两排硅柱的长边中间引入一定数量、相同尺寸的耦合柱体,这样,在一排柱体中传播的自准直光束被引入的中间柱体耦合到另一排柱体中继续自准直传播,通过控制中间柱体的数量可以控制两排柱体中自准直光束传输功率的比例,从而实现相邻两排硅柱间的光耦合。相对于传统定向耦合器,本发明提供的光子晶体定向耦合器能够将器件耦合长度控制在10μm以内甚至更短,这使总体器件的长度极大缩短,结构更为紧凑。同时,通过控制中间柱体的数量可以控制两排柱体中自准直光束传输功率的比例,能够灵活控制耦合效率。

    锗悬臂梁式二维光子晶体微腔及制备方法

    公开(公告)号:CN102590935A

    公开(公告)日:2012-07-18

    申请号:CN201110003997.2

    申请日:2011-01-10

    Abstract: 本发明提供一种锗悬臂梁式二维光子晶体微腔,包括:具有埋氧层、且表层为悬臂梁式锗材料层的半导体基底,其中,在锗材料层包含光子晶体微腔,所述光子晶体微腔由周期性排列的孔体所构成、但部分区域缺失孔体。此外,本发明还提供了该锗悬臂梁式二维光子晶体微腔的制备方法,即先在具有埋氧层、且表层为锗材料层的半导体基底的锗材料层中掺杂以形成n型重掺杂层,然后对锗材料层进行微机械加工形成光子晶体微腔,随后在部分区域进行光刻和刻蚀暴露出部分埋氧层,然后再进行湿法腐蚀,用以去除光子晶体微腔下的埋氧层,同时实现锗悬臂梁的释放。本发明的优点在于:能够通过外力调节悬臂梁上的应变从而实现锗向直接带隙的转变,并利用光子晶体微腔提高发光效率。

    一种对特定方向激光光束敏感的微纳结构

    公开(公告)号:CN213659006U

    公开(公告)日:2021-07-09

    申请号:CN202022656133.8

    申请日:2020-11-17

    Abstract: 本实用新型涉及一种对特定方向激光光束敏感的微纳结构,包括衬底,所述衬底上固设有一层绝缘层,所述绝缘层上设置有两根相互平行且形状尺寸相同的硅导线,每根硅导线两端均引出导线与电位测量计相连,当激光照射到硅导线时硅导线与衬底之间发生近场耦效应,且距离激光光源较近的一根硅导线完全抑制,距离激光光源较远的另一根硅导线保持亮度。本实用新型能够对某个特定角度的激光信号进行精确探测以及沿特定方向上进行非接触信号传输。

    一种扫描近场光学检测台
    115.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203551595U

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201320724059.6

    申请日:2013-11-15

    Abstract: 本实用新型提供一种扫描近场光学检测台,包括:本体(22);所述本体包括相互垂直的XOY面、YOZ面以及ZOX面;所述XOY面、YOZ面以及ZOX面围成一个收容空间;收容于所述收容空间内用于放置工件(17)的矩形工作台(18);所述矩形工作台包括底面以及相互垂直相邻的四个侧面;所述矩形工作台的底面四角设有与所述本体XOY面固定的四个液压驱动单元(21);所述矩形工作台相邻的两个侧面分别设有与所述本体YOZ面以及ZOX面固定的两个液压驱动单元(11);所述本体YOZ面上设有位于所述工件上方的用于实现所述工件在Z轴方向上的定位的喷嘴单元。本实用新型支柱伸长量可调、可测,因此工作台的位移精度较高且控制较为简单;工作台运动的有效行程较大。

    一种硅基耗尽型电光调制器

    公开(公告)号:CN217467402U

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202123001387.7

    申请日:2021-12-01

    Abstract: 本实用新型涉及一种硅基耗尽型电光调制器,包括硅层(1‑9),其特征在于:所述硅层(1‑9)上依次包括P型重掺杂区(1‑5)、P型中等掺杂区(1‑3)、P型轻掺杂区(1‑1)、N型轻掺杂区(1‑2)、N型中等掺杂区(1‑4)和N型重掺杂区(1‑6);所述P型轻掺杂区(1‑1)与N型轻掺杂区(1‑2)形成至少两个纵向PN结,至少三个横向PN结。本实用新型在低压下具有高带宽的优势,可实现低功耗大规模数据传输。

    弯曲波导结构及偏振分束旋转器

    公开(公告)号:CN208110093U

    公开(公告)日:2018-11-16

    申请号:CN201820361533.6

    申请日:2018-03-16

    Abstract: 本实用新型提供一种弯曲波导结构及基于所述弯曲波导结构的偏振分束旋转器,弯曲波导结构包括:衬底;第一波导,弯曲设置于衬底上,包括第一耦合区;第二波导,弯曲设置于衬底上,第二波导包括与第一耦合区耦合的第二耦合区,第二波导与第一波导之间具有预设间距,第二耦合区包括下部波导及位于下部波导上方的上部波导,下部波导与上部波导的截面宽度不同。通过上述方案,本实用新型提供的弯曲波导结构,通过改进外部波导的结构,在整体波导结构中引入了非对称结构的设计,使得外部波导的耦合区的两端以及上下均具有不同的尺寸,该非对称性设计具有增大带宽的作用,解决了现有波导结构的对波长敏感问题,进一步拓宽了弯曲波导结构的实际应用。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    硅基光调制器
    118.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204155033U

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201420660354.4

    申请日:2014-11-06

    Abstract: 本实用新型提供一种硅基光调制器,至少包括:脊型波导,包括平板部和位于所述平板部中间,且高于所述平板部的凸条;所述脊型波导中包括第一轻掺杂区和第二轻掺杂区,第一轻掺杂区包括形成在凸条中间,且沿着所述凸条的延伸方向的纵向第一轻掺杂区和至少一个形成在所述凸条和所述平板部上,且与所述凸条相交的横向第一轻掺杂区;第二轻掺杂区和第一轻掺杂区的掺杂类型相反,且形成于第一轻掺杂区外侧的凸条和平板部中,以与第一轻掺杂区构成横向和纵向的PN结。本实用新型的技术方案中提供的硅基光调制器利用多个横向第一轻掺杂区与第二轻掺杂区、纵向第一轻掺杂区与第二轻掺杂区形成PN结,可以增加模场中耗尽区的面积,从而提高硅基光调制器的调制效率。

    一种片外光发射器件
    119.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219641961U

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN202320539592.9

    申请日:2023-03-20

    Abstract: 本实用新型涉及一种片外光发射器件,包括:衬底;下包层,位于所述衬底的上表面,且内部埋设有金属镜;波导层,位于所述下包层的上表面,包括波导和M级同心半圆光栅;上包层,位于所述波导层的上表面;所述波导用于引导光进入所述M级同心半圆光栅;所述金属镜用于将泄露到所述衬底的光反射至所述M级同心半圆光栅;所述M级同心半圆光栅用于将接收到的光向垂直方向发射;所述M级同心半圆光栅的前N级的狭缝的刻蚀深度小于后K级的狭缝的刻蚀深度,其中,M=N+K,且N≤M/2。本实用新型能够提高器件的发射效率。

    一种基于TM0模吸收的超导纳米线单光子探测器

    公开(公告)号:CN214750921U

    公开(公告)日:2021-11-16

    申请号:CN202120910659.6

    申请日:2021-04-29

    Abstract: 本实用新型提供一种基于TM0模吸收的超导纳米线单光子探测器,包括:定向耦合器,用于实现TE0模式至TE1模式的转换;偏振旋转器,与所述定向耦合器连接,用于实现TE1模式至TM0模式的转换;纳米线单光子探测器,与所述偏振旋转器连接,用于实现对TM0模式的吸收及探测。本实用新型的基于TM0模吸收的超导纳米线单光子探测器结构简单,是在SOI结构的基础上实现TE0模至TM0模的高效转换,并由纳米线单光子探测器快速吸收并探测,不仅极大地缩短了纳米线所需长度,从而降低了纳米线制作所要求的工艺条件,还保护器件避免被刻蚀剂破坏,使得器件工作性能稳定。

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