一种单相铜钡锡硫薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN111253080A

    公开(公告)日:2020-06-09

    申请号:CN202010082744.8

    申请日:2020-02-07

    Abstract: 本发明涉及材料制备技术领域,提供了一种单相Cu2BaSnS4薄膜的制备方法。本发明通过将铜盐、锡盐、硫脲和钡盐溶解于乙二醇甲醚中制备前驱溶液,然后再将此前驱溶液旋涂成膜,再采用退火和硫化处理,最终得到单相Cu2BaSnS4薄膜。本发明提供的方法无需使用磁控溅射设备,工艺简单,使用设备易得,而且制备得到的单相Cu2BaSnS4薄膜纯度较高,对于Cu2BaSnS4薄膜大规模廉价制备提供坚实基础。

    一种单层石墨烯的制备方法

    公开(公告)号:CN109095461B

    公开(公告)日:2020-04-07

    申请号:CN201811346246.9

    申请日:2018-11-13

    Abstract: 本发明提供了一种单层石墨烯的制备方法,该单层石墨烯是由SiC衬底在充满惰性气体的气压动态平衡环境下加热热解制得,具体包括如下步骤:取SiC衬底预处理后放入坩埚;将坩埚置于真空室,抽真空后充入惰性气体,将坩埚感应加热促使SiC衬底升温至热解温度并保温;调整气压,控制真空室中的惰性气体保持气压动态平衡,使SiC衬底进行热解;热解完成后降至室温,恢复常压,取出单层石墨烯。本发明提供的制备方法简单可控,提高了生产效率,有望进行批量化生产,该方法能够制备2~4英寸的大尺寸单层石墨烯,所得单层石墨烯的层数可控,面积较大,且晶格缺陷极少,可以满足高质量单层石墨烯的市场需求。

    一种双结叠层太阳电池及其制备方法

    公开(公告)号:CN110071193A

    公开(公告)日:2019-07-30

    申请号:CN201910392637.2

    申请日:2019-05-13

    Abstract: 本发明公开了一种双结叠层太阳电池及其制备方法。本发明采用宽带隙的CBTS薄膜太阳电池作为顶电池,窄带隙的CIGS薄膜太阳电池作为底电池,以金属电极以及CIGS薄膜太阳电池中的CIGS钼层作为双节叠层的两端,形成双结叠层太阳电池。本发明所提供的双结叠层太阳电池制备方法工艺简单,制备的双结叠层太阳电池能突破单结SQ理论效率限制,实现宽光谱吸收优势。

    一种钇钡铜氧超导厚膜的制备方法

    公开(公告)号:CN105541317B

    公开(公告)日:2018-02-02

    申请号:CN201510882555.8

    申请日:2015-12-03

    CPC classification number: Y02E40/642

    Abstract: 一种钇钡铜氧超导厚膜的制备方法。首先配制前驱液,把乙酸钇、三氟乙酸钡、和乙酸铜按照Y:Ba:Cu=1:2:3的摩尔比混合,溶于乙酸和丙酸的混合溶液中;搅拌均匀后真空蒸干溶剂得到凝胶;再加入甲醇搅拌均匀后蒸干溶剂得到凝胶;随后加入适量甲醇、聚乙二醇和松油醇,制成Y、Ba和Cu三种金属离子总浓度为3.0‑6.0mol/L的前驱液;然后将前驱液涂覆在基片上;涂覆好的薄膜先经历300℃‑500℃的低温热处理过程,分解金属有机盐;然后进行750℃‑850℃高温热处理获得具有四方相的钇钡铜氧(YBCO)膜;最后在500℃‑600℃进行吸氧处理得到单层厚度大于6微米的YBCO超导厚膜。

    金属合金靶材制备含氢氧化锌铝透明导电薄膜的方法

    公开(公告)号:CN104480441B

    公开(公告)日:2017-12-29

    申请号:CN201410740436.4

    申请日:2014-12-05

    Abstract: 一种金属合金靶材制备含氢氧化锌铝透明导电保膜的方法。本发明采用磁控溅射方法,靶材为铝重量百分比2%的锌铝合金,衬底为普通钠玻璃,以氩气和水蒸气作为溅射气氛,其中水蒸气作为反应气体,密封水罐为水蒸气源,采用针阀和恒温装置控制水蒸气流量。首先将溅射真空腔体背底真空抽至8.0×10‑4pa,样品台温度为室温至250℃,打开贮水罐管道上的针阀,向真空腔体中通入水蒸气。通过针阀调整水蒸气压力范围为5×10‑3pa~5.0×10‑2pa,再向真空腔体中通入氩气,通过调整质量流量计,调整真空腔体的真空度至0.2Pa~1Pa。开始溅射,将溅射功率调节至50W~100W。待辉光稳定后,移开挡板,开始沉积氧化锌铝膜。沉积时间为20min~40min。待样品台温度低于100℃时打开真空腔体,取出氧化锌铝膜样品。

    一种控制碳化硅单晶生长装置

    公开(公告)号:CN107142520A

    公开(公告)日:2017-09-08

    申请号:CN201710346415.8

    申请日:2017-05-17

    CPC classification number: C30B29/36 C30B23/002

    Abstract: 一种控制碳化硅单晶生长装置,其感应线圈(1)、坩埚(2)、气路系统和升降旋转控制系统均位于真空腔室内。坩埚(2)位于升降旋转控制系统的上托盘(8)和下托盘(10)之间,放置在感应线圈(1)内的中央位置。坩埚(2)外包覆有保温层(4)。感应线圈(1)位于真空腔室中心位置,用以加热坩埚(2)。坩埚(2)内装有碳化硅粉料和籽晶,用于碳化硅晶体生长。气路系统连接在真空腔室侧壁上。通过上、下托盘的移动,控制坩埚与线圈的相对位置;调整坩埚下部和坩埚锅盖的旋转速度和方向,控制碳化硅晶体生长时原料区和晶体生长区的距离;通过原料区和晶体生长区距离的控制,实现晶体生长温度的精确控制。

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