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公开(公告)号：CN116136644A
公开(公告)日：2023-05-19
申请号：CN202211439298.7
申请日：2022-11-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/11 , C08G61/12 , C07D209/34 , C07D491/107
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法以及有机膜形成用化合物及聚合物。该课题的解决手段为一种有机膜形成用组成物，其特征为含有：下述通式(I)及/或通式(II)表示的有机膜形成材料、及有机溶剂。式中，R1、R4为氢原子、烯丙基、或炔丙基，R2、R5表示取代基，R6表示氢原子、C1～4的烷基、C2～4的炔基、或C2～4的烯基。m、i表示0或1，k、q表示0～2的整数，n、h、j表示0～2的整数且符合1≤h+j≤4的关系，l、r表示0或1。W为单键或下式(3)表示的2价基团中的任一者。V分别独立地表示氢原子或连接部。
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公开(公告)号：CN114942568A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202210135076.X
申请日：2022-02-14
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D319/24 , C07D493/10
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用材料、基板、有机膜的形成方法、图案形成方法、及有机膜形成用化合物。本发明的课题，目的是提供一种化合物，具有二氧芑(dioxin)结构，即使在钝性气体中的成膜条件中也能硬化，能形成耐热性、形成于基板上的图案的填埋或平坦化特性优良，且对于基板的成膜性、密接性良好的有机下层膜、及含有该化合物的有机膜形成用材料。本发明的解决手段，是一种有机膜形成用材料，其特征在于含有：(A)下述通式(1A)表示的有机膜形成用化合物、及(B)有机溶剂。[化1]式中，W1是4或6价的有机基团，n1表示1或2的整数，n2表示2或3，R1是各自独立地表示下式(1B)的任一者；此外，式中的苯环的氢原子也可被氟原子取代。[化2]
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公开(公告)号：CN114545733A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202111402884.X
申请日：2021-11-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法。本发明提供一种抗蚀剂下层膜材料，含有：(A)下列通式(1)表示的化合物中的一种或二种以上；及(B)有机溶剂。式中，W为碳数2～50的n价有机基团，X为下列通式(2)及(3)表示的末端基团结构，令下列通式(2)、(3)的结构的比例为a、b时，满足0.70≤a≤0.99、0.01≤b≤0.30的关系。n为1～10的整数。Z为碳数6～20的(k+1)价芳香族基团。A为单键、或‑O‑(CH2)p‑。k为1～5的整数。p为1至10的整数。L为单键或‑(CH2)r‑。l为2或3，r为1～5的整数。
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公开(公告)号：CN109283789B
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN201810796676.4
申请日：2018-07-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种成为具有高度的嵌入/平坦化特性、蚀刻耐性的有机膜形成用组合物的材料的树脂、该组合物、及使用该组合物的图案形成方法。所述有机膜形成用组合物含有：(I)树脂，其在重复单元的至少一部分包含下述通式(1)所示的、包含芳香环的环结构AR与同四个所述AR键合的螺结构SP交替重复的结构；以及(II)有机溶剂。[化学式1]
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公开(公告)号：CN113359390A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110240480.9
申请日：2021-03-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及涂布型有机膜形成用组成物、图案形成方法、聚合物、以及聚合物的制造方法。本发明的课题是提供一种组成物，是可形成图案弯曲耐性高、干蚀刻耐性高的有机膜的涂布型有机膜形成用组成物，且溶剂溶解性优异，缺陷的发生率低。本发明提供一种涂布型有机膜形成用组成物，其特征为含有：以下列通式(1)表示的结构作为部分结构的聚合物；及有机溶剂。式(1)中，环结构Ar1及Ar2表示亦可具有取代基的苯环或萘环，W1为亦可具有取代基的碳数6～30的芳基。
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公开(公告)号：CN113281964A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN202110190159.4
申请日：2021-02-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物。本发明的课题是提供可形成溶剂耐性、耐热性、填埋特性、平坦化特性及图案形成能力优异的有机膜的有机膜形成用材料。一种有机膜形成用材料，含有以下列通式(1A)表示的结构作为部分结构的聚合物及有机溶剂。上述通式(1A)中，W1表示4价有机基团，W2表示单键或下式(1B)表示的连接基团，R1表示氢原子或碳数1～10的1价有机基团，n1表示0或1的整数，n2及n3满足0≤n2≤6及0≤n3≤6且1≤n2+n3≤6的关系。R2及R3各自独立地为氢、碳数为1～30个的有机基团，有机基团R2与有机基团R3亦可通过在分子内键结而形成环状有机基团。
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公开(公告)号：CN112213919A
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN202010660845.9
申请日：2020-07-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组合物、图案形成方法、以及聚合物。本发明的课题为提供通过使用含有碳含量高的茚并芴结构且具有热固化性的聚合物，而可展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性的有机膜形成用组合物；并提供使用该有机膜形成用组合物的图案形成方法、以及提供这样的有机膜形成用组合物的聚合物。该课题的解决方法为一种有机膜形成用组合物，含有：具有下述通式(1A)表示的部分结构作为重复单元的聚合物及有机溶剂。[化1]该通式(1A)中，AR1、AR2为也可具有取代基的苯环或萘环，R为氢原子或碳数2～10的具有不饱和键的1价有机基团，R’为单键或W1，且W1为具有1个以上的芳香环的碳数6～80的2价有机基团。
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公开(公告)号：CN111913352A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN202010379131.0
申请日：2020-05-07
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物。本发明提供一种有机膜形成用组成物，其含有碳含量高而有热硬化性的聚合物，会展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性，并提供使用此有机膜形成用组成物的图案形成方法，及适合此有机膜形成用组成物的聚合物。有机膜形成用组成物包含具下列通式(1A)表示的部分结构的聚合物及有机溶剂。该聚合物，利用伴随位于芴环上的三苯甲基位的氢彼此的脱氢的偶联反应而交联。[化1]
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公开(公告)号：CN109956853A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201811592498.X
申请日：2018-12-25
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 群荣化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种二羟基萘的提纯方法，该方法能够抑制软颗粒的产生，得到作为过滤性良好的树脂、组合物的原料的二羟基萘。所述二羟基萘的提纯方法具有通过吸附剂去除所述二羟基萘中的硫成分的工序，并将中性氧化铝用作所述吸附剂。
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公开(公告)号：CN109283789A
公开(公告)日：2019-01-29
申请号：CN201810796676.4
申请日：2018-07-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种成为具有高度的嵌入/平坦化特性、蚀刻耐性的有机膜形成用组合物的材料的树脂、该组合物、及使用该组合物的图案形成方法。所述有机膜形成用组合物含有：(I)树脂，其在重复单元的至少一部分包含下述通式(1)所示的、包含芳香环的环结构AR与同四个所述AR键合的螺结构SP交替重复的结构；以及(II)有机溶剂。[化学式1]
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