一种适用于洁净环境的物料接驳转运装置

    公开(公告)号:CN109399228A

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:CN201811315186.4

    申请日:2018-11-06

    Abstract: 本发明公开了一种适用于洁净环境的物料接驳转运装置,包括洁净型多自由度机械手,在该洁净型多自由度机械手旁配置有AGV小车导航定位机构,该AGV小车导航定位机构包括设置在洁净型多自由度机械手旁的导航机构安装架,在该导航机构安装架上设置用于反射AGV小车发出的激光导航信号的AGV激光导航反射板、用于检测AGV小车是否搭载物料的AGV有料检测传感器以及用于定位AGV小车上搭载的物料的机械定位结构。采用本发明提供的一种适用于洁净环境的物料接驳转运装置,结构新颖,设计巧妙,稳定可靠,能够与AGV小车实现耦合,自动化程度高,大幅减少了作业人员的流动,保证了大口径光学元件装校的洁净环境和光学元件表面的洁净度,同时具有运载大型光学元件的能力。

    用于光学元件离线精密装校的自洁净型自动化夹具库

    公开(公告)号:CN109212703A

    公开(公告)日:2019-01-15

    申请号:CN201811314252.6

    申请日:2018-11-06

    Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件离线精密装校的自洁净型自动化夹具库,包括夹具库外罩、洁净系统、夹具存放架和自动取放机构,夹具库外罩侧壁上设置有夹具取放口和可开合的库门,洁净系统设置在夹具库外罩上,夹具存放架设置在夹具库外罩的内部,该夹具存放架上放置有多个夹具定位机构,自动取放机构设置在夹具库外罩的内部。采用本发明提供的用于光学元件离线精密装校的自洁净型自动化夹具库,不仅通过洁净系统能够保持夹具库内部的洁净,而且能够全自动实现光学元件夹具的输送和回收,完全没有人员干涉,提高了装校效率,大大减少了粉尘的产生,提高了环境和光学元件表面的洁净度,并且,光学元件夹具转运过程稳定可靠,效率高。

    离轴非球面元件精密定轴方法

    公开(公告)号:CN104483757B

    公开(公告)日:2018-01-12

    申请号:CN201410671102.6

    申请日:2014-11-20

    Abstract: 本发明公开了一种离轴非球面元件精密定轴方法,根据生产厂家给定的楔形透镜楔角值,借助旋转分度台、标准镜、自准直仪和内调焦望远镜建立楔形透镜定轴基准,再加入楔形透镜,调整楔形透镜姿态或调整内调焦望远镜姿态,采用基准过渡和多个基准复合定位的方法,达到楔形透镜精密定轴的目的。本发明的显著效果是:本发明基于平面和曲面反射远场成像的原理,通过基准复制传递,楔角补偿,建立多个基准同时对楔形透镜平面和曲面法线进行监测,保证了定出的楔形透镜光轴的精确性;实现了不同楔角、不同口径、不同曲率半径的楔形透镜精密定轴,具有很高的通用性和实用性。

    一种大口径光学元件的多力与力矩耦合面型精调系统

    公开(公告)号:CN106990496A

    公开(公告)日:2017-07-28

    申请号:CN201710367035.2

    申请日:2017-05-23

    CPC classification number: G02B7/00

    Abstract: 本发明公开了一种大口径光学元件的多力与力矩耦合面型精调系统,该系统包括支撑座、光学元件、基准板、八个力与力矩调整模块以及八个基准板安装螺钉;每一个力与力矩调整模块安装凹槽上有两个力与力矩调整模块安装台阶和两个力与力矩调整模块安装孔;力与力矩调整模块上有两个压紧单元,其中一个压紧单元与支撑光学元件的精密支撑平面的位置相对应,用于对光学元件施加正应力,另外一个压紧单元相对支撑光学元件的精密支撑平面向光学元件的外侧移动一段距离,用于对光学元件施加力矩。本发明采用简单易行的结构以多力和力矩相耦合的方式作为光学元件的支撑点,实现对大口径光学元件面型的精密调节。

    晶体匹配角离线测量误差实时修正方法

    公开(公告)号:CN104483098A

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201410672266.0

    申请日:2014-11-20

    Abstract: 本发明公开了一种晶体匹配角离线测量误差实时修正方法,应用激光自准直仪监测晶体匹配角测量过程中入射激光漂移角度,若激光漂移角度大于预设阈值0.4″则舍去该角漂过大的测量数据,应用自准直仪监测晶体测量过程中待测晶体发生的旋转角度偏差,将其中保留的旋转角度偏差代入进匹配角计算中。其显著效果是:通过自准直仪对测量过程中光路基准偏移和光学角漂进行实时修正,并在晶体匹配角测量过程中的对动态误差进行了修正,改变了过去只针对基准的静态误差修正情况,保证了晶体匹配角测量的精确性,可以最大程度消除大口径晶体离线测量系统中的动态测量误差。

    透镜调试工装
    109.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207704143U

    公开(公告)日:2018-08-07

    申请号:CN201820072686.9

    申请日:2018-01-17

    Abstract: 本实用新型公开了一种透镜调试工装,包括底板,该底板上从左至右依次设有均向上延伸的第一立柱、第二立柱和第三立柱,所述第一立柱的顶端设有用于安装内调焦望远镜的弧形槽,第二立柱的顶端设有第一小孔,第三立柱的顶端设有第二小孔,所述弧形槽、第一小孔和第二小孔的轴心线共线,并与所述底板的长度方向平行;所述第二立柱与第三立柱之间设有透镜安装座,该透镜安装座与所述底板固定连接。其优点是:能满足透镜实现精准调节,且使用方便。

    一种大径厚比光学元件的支撑系统

    公开(公告)号:CN207181781U

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201720575932.8

    申请日:2017-05-23

    Abstract: 本实用新型公开了一种大径厚比光学元件的支撑系统,该系统包括光学元件、四个支撑模块、弹性环和底框,底框上表面上加工底框凹槽面,底框凹槽面上的四边中点分别布置一个螺纹孔,其中三个为支撑模块安装螺纹孔,另一个为支撑模块调节螺纹孔;支撑模块是用于支撑光学元件的装配体,支撑模块通过其自身的一级螺纹轴与底框的支撑模块安装螺纹孔进行螺纹连接,二级螺钉压紧面与底框下表面进行接触安装,弹性环套于一级螺纹轴的外表面,并通过其自身的上环面与底框下表面进行接触安装,光学元件通过其下表面与四个支撑模块的上表面进行接触安装;本实用新型能够有效的减少支撑过程中对光学元件产生的局部应力集中,提高光学元件的面型精度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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