一种Z轴负向放大一维精密定位平台

    公开(公告)号:CN104464838A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201410784590.1

    申请日:2014-12-16

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种Z轴负向放大一维精密定位平台,包括Z轴负向放大机构、用于保护Z轴负向放大机构的基座、位于Z轴负向放大机构上方的运动平台,所述Z轴负向放大机构包括若干柔性臂、固定在柔性臂两侧的平行板、连接柔性臂与运动平台的输出件、压电陶瓷安装件以及与基座连接固定的底盘,所述平行板通过柔性铰链与柔性臂柔性连接,位于所述平行板之间、所述Z轴负向放大机构下方、所述底盘上方的空间内设置有压电陶瓷,所述压电陶瓷通过设置在两侧的平行板上的压电陶瓷安装件固定。本发明相较于传统的放大定位平台具有行程范围大、精度高、结构简单、体积小、刚度大、灵敏度高、分辨率高、纳米级、适宜作微动平台等优点。

    掩膜版及其制备方法和图形化方法

    公开(公告)号:CN103969941A

    公开(公告)日:2014-08-06

    申请号:CN201410224727.8

    申请日:2014-05-26

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种掩膜版及其制备方法和图形化方法,其中掩膜版包括:掩膜衬底;形成于所述掩膜衬底上的若干纳米凸起,所述若干纳米凸起之间具有间距;覆盖于所述若干纳米凸起表面的遮挡层。本发明的掩膜版的优点有:(1)遮挡层超薄,用原来厚度三分之一的遮挡层厚度就达到3级以上光学密度,减少了遮挡层中物料的使用量。(2)吸收率高,大部分反射光能陷于纳米凸起,有利于光刻线条形貌品质的提升。(3)工艺过程与传统掩膜兼容,制作成本低。(4)图形化去除遮挡层后露出的透光部分,纳米凸起具有减反增透作用,而且由于其超小结构,将不影响入射波面的传输,对接近式和投影式光刻均能适用。(5)具有大带宽和角度不敏感的吸波特性。

    一种并行激光直写系统及光刻方法

    公开(公告)号:CN103777474A

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN201410076822.8

    申请日:2014-03-04

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 一种并行激光直写系统及光刻方法,通过设置两个或多个图形发生器,将不同的图形发生器按不同的角度放置,使得每个角度的斜线都能通过对应图形发生器中的水平或垂直直线像素进行显示,从而消除了原有的斜线上的锯齿现象,并保证了直线和斜线之间的线宽相等,提高了图形的线宽均匀性,使得光刻工艺的精度和品质得到改善。

    一种反射式彩色滤光片
    95.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103562755A

    公开(公告)日:2014-02-05

    申请号:CN201180071287.1

    申请日:2011-05-31

    Inventor: 叶燕 陈林森

    CPC classification number: G02B5/26

    Abstract: 一种反射式彩色滤光片,包括介质光栅层(220)、金属层(230)和第一介质层(240)。金属层设置于介质光栅层的脊部、至少一个侧部和部分沟槽部之上。反射外部光线的第一介质层设置于介质光栅层和金属层上。由于部分介质光栅层通过金属层在沟槽部上的缺口露出,降低了共振输出的角度敏感性,减少了光线入射角度对共振条件的影响。从而在较宽的角度范围内都能实现反射滤光。

    光学加工系统和方法
    96.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102591159B

    公开(公告)日:2013-10-09

    申请号:CN201210076397.3

    申请日:2012-03-21

    Abstract: 本发明公开了一种光学加工系统,包括加工平台、光学投影镜头、光学模板、中央控制系统、位置补偿系统和光源。其中,位置补偿系统包括位置检测系统、空间光调制器、位置信号处理模块和偏差筛选模块。本发明的光学加工系统中,加工平台实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动,光学模板实现第三运动轴的扫描运动,通过空间光调制器对第二运动轴方向上的曝光位置进行动态补偿,实现了第二运动轴和第三运动轴这两个扫描轴的精确高速同步,从而能够以“两轴扫描、一轴步进”的方式实现三维加工,其加工效率和加工精度大幅提升。

    一种基于还原氧化石墨烯的气体传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN103257156A

    公开(公告)日:2013-08-21

    申请号:CN201310178984.8

    申请日:2013-05-15

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明属于传感器技术领域,公开了一种基于还原氧化石墨烯的气体传感器及其制备方法,首先将氧化石墨烯在混合溶剂中超声分散,形成单片分散的悬浮液,加入吡咯继续反应,得到还原氧化石墨烯的固体粉末,分散至有机溶剂中形成分散液,取分散液滴加到电极表面,真空干燥,从而得到基于还原氧化石墨烯的气体传感器;通过本发明的方法制备的还原氧化石墨烯气体传感器对氨气分子具有优异的传感性能,此制备方法工艺简单,适合于气体传感器的大量制备。

    一种反射式彩色滤光片
    99.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102789021A

    公开(公告)日:2012-11-21

    申请号:CN201210319494.0

    申请日:2012-08-31

    Abstract: 一种反射式彩色滤光片,包括三种颜色的像素阵列,每种颜色的像素结构包括基底、位于基底之上的金属层、位于金属层上的介质层以及位于介质层上的二维金属光栅层,所述金属层的厚度大于可见光在该金顺层内的趋肤深度,所述像素结构的表面等离子体共振频率为该像素颜色的补色光频率。该反射式滤光片基于减色原理进行滤光,不仅具有高光能利用率、低的角度敏感性,同时具有对偏振不敏感的特点。

    一种彩色滤光片
    100.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101546004B

    公开(公告)日:2012-10-24

    申请号:CN200910031267.6

    申请日:2009-04-30

    Abstract: 本发明公开了一种彩色滤光片,主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成,其特征在于:所述彩色滤光层为级联亚微米光栅,由二维亚微米级介质光栅和金属光栅级联构成,所述介质光栅位于近基板侧,介质材料的折射率大于1.65,所述金属光栅位于远离基板侧,同一位置的上、下两种光栅除光栅深度外的结构参数相同;通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明的彩色滤光片TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同,光能利用率高,提高输出光的纯度,能进行超大幅面的制造,便于批量化生产,且便于设计为柔性可控的彩色滤光片。

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