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公开(公告)号：CN112859205B
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202110072583.9
申请日：2021-01-20
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种反射式超表面能流分布调控组件及其构建方法，方法利用多层膜的反射相位和高反射率调控间隔层中的传输波和超表面中的布洛赫波来精确控制超表面表面的能流分布，从而实现不同反射通道的任意比例控制；该方法包括设计宽度渐变的介质超表面结构、设计介质间隔层、扫描反射相位对实际能流分布的影响及设计符合要求的多层膜。与现有技术相比，通过仿真证明，采用本发明可以实现结构不同反射通道的任意比例控制，该方法具有设计思路简单，物理图像明确等优点，对于异常反射类超表面的实用化具有重要意义。
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公开(公告)号：CN112859205A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202110072583.9
申请日：2021-01-20
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种反射式超表面能流分布调控组件及其构建方法，方法利用多层膜的反射相位和高反射率调控间隔层中的传输波和超表面中的布洛赫波来精确控制超表面表面的能流分布，从而实现不同反射通道的任意比例控制；该方法包括设计宽度渐变的介质超表面结构、设计介质间隔层、扫描反射相位对实际能流分布的影响及设计符合要求的多层膜。与现有技术相比，通过仿真证明，采用本发明可以实现结构不同反射通道的任意比例控制，该方法具有设计思路简单，物理图像明确等优点，对于异常反射类超表面的实用化具有重要意义。
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公开(公告)号：CN109655475B
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201910064259.5
申请日：2019-01-23
Applicant: 同济大学
IPC: G01N23/20091 , G01N23/20008
Abstract: 本发明涉及一种能谱仪探测深度的标定方法，包括以下步骤：1)在熔石英基板上镀制厚度为d0的金属膜层，标记为I类样品；2)在金属膜层上分别镀制不同厚度的SiO2膜层，标记为II类样品；3)利用能谱仪分别测量I类样品和II类样品的金属元素M占比，利用I类样品的测量结果对II类样品的金属元素M占比进行修正；4)绘制SiO2膜层厚度和修正后的金属元素占比曲线，通过拟合方式获得金属元素M占比为0时的SiO2膜层厚度，并以此厚度作为能谱仪的探测深度，完成标定。与现有技术相比，本发明具有判定简单准确等优点。
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公开(公告)号：CN109471211A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201811639285.8
申请日：2018-12-29
Applicant: 润坤(上海)光学科技有限公司 , 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种消偏振合束镜薄膜，包括基底以及设置在基底上的第一薄膜，所述的第一薄膜的膜系结构为Sub|x1H x2L x3H x4L......xk-3H xk-2L xk-1H xkL|Air，其中，Sub为薄膜元件基板，Air为出射介质空气，H和L分别为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料薄膜层和低折射率材料薄膜层，x1～xk为每层薄膜层的光学厚度系数，k为薄膜层总数。与现有技术相比，本发明具有优化过程简单，膜系规整，便于精确制备，降低了制备复杂性，消偏效果好、光谱特性优良，便于推广使用等优点，在大型激光装置光路传输中具有广阔的实用前景，可用于不同波长激光的非相干合束。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106862114A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201710070731.7
申请日：2017-02-09
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种LBO晶体表面镀膜前的清洗方法，将LBO晶体依次执行下述步骤：采用无水乙醇和乙醚混合液擦拭LBO晶体表面；采用弱碱性溶液对LBO晶体进行超声波清洗，所述弱碱性溶液包括NH4OH和H2O2，体积比为NH4OH:H2O2:H2O＝1:8:50；采用无水乙醇对LBO晶体进行漂洗；将LBO晶体放置于装有无水乙醇的密闭容器内，对LBO晶体进行超声加热清洗；取出LBO晶体，再次漂洗；在正压容器环境中干燥氮气风刀对LBO晶体进行干燥。与现有技术相比，本发明具有清洗效果好，既可以提升LBO晶体镀膜后的抗激光损伤特性，可以提升其镀膜后的薄膜附着力及抗裂纹特性等优点。
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公开(公告)号：CN105127142B
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201510585073.6
申请日：2015-09-16
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜元件用超光滑表面熔石英光学基板超声波清洗方法，属于光学技术领域。所述清洗方法包括以下步骤：在正式超声清洗前，运用旋涂1μm~3μm人工氧化硅小球的基板实验获得低频段80KHz超声频率对微米尺度颗粒有效去除的最低超声功率、最佳超声时间；利用旋涂0.3μm～1μm人工氧化硅小球的基板实验获得中频段400KHz超声频率时氨水、双氧水和纯水的最佳比例，结合原子力显微镜获得最佳超声时间；综合上述两个方面获得最优超声清洗参数后，实施对超光滑熔石英光学基板进行超声波精细清洗。本发明的优点在于通过所述方法实现对熔石英光学基板高效、定量的超声清洗，在实现基板高洁净度清洗的同时避免了超声波过度清洗对基板元件造成的超光滑表面损伤和材料疲劳。
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公开(公告)号：CN106066498A
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201610595894.2
申请日：2016-07-27
Applicant: 同济大学 , 光驰科技(上海)有限公司
CPC classification number: G02B1/10 , G02B27/0012
Abstract: 本发明涉及一种修正薄膜元器件高低折射率材料相对厚度配比的膜系，该膜系的基本结构为Sub|HL1.5HLHL1.5HL|Air，Sub是薄膜元件基板，Air是出射介质空气，H和L分别是1/4中心波长光学厚度的高低折射率材料。采用膜系结构的薄膜元件透射光谱特征峰较多，中心波长反射带右侧两个等高特征峰用来修正高低材料的相对膜厚配比。本发明结构简单、可参考光谱特征峰多、峰高对膜层材料配比敏感，光谱可用常规的光学监控或晶振监控实现，具有较高的可制备性，便于推广。本发明在薄膜光学领域有广阔的实用前景，可用于镀膜机内膜层厚度均匀性及大尺寸光学元件整体厚度均匀性的修正，并且可用来校正高低折射率膜层材料相对厚度的配比，提高高精度光谱需求薄膜元件的制备精度和量产程度。
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公开(公告)号：CN104101932B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201410336342.0
申请日：2014-07-16
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/28
Abstract: 本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种消除半波孔的短波通滤光片，主要针对短波通滤光片中影响半波孔的一个关键因素——材料非均质性。膜系设计包含两部分：薄膜周期结构和与基板和空气的导纳匹配层。薄膜由H和L组成，H,L分别表示光学厚度为1/4参考波长的高、低折射率膜层。膜系基本周期结构为（0.5LH0.5LHL），周期为N，参考波长为高反射带中心波长。采用常规薄膜设计软件，在基板与薄膜周期结构之间，空气与薄膜周期结构之间分别添加匹配层，得到消除半波孔的膜系设计。该发明将薄膜基本周期结构的导纳误差降到近似为零，该发明直接针对半波孔进行设计和优化，不再回避半波孔，具有理想的透射带宽。该发明具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN105203503A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201510585072.1
申请日：2015-09-16
Applicant: 同济大学
IPC: G01N21/49
Abstract: 本发明涉及一种高功率激光薄膜元件用超光滑光学基板表面检测方法，采用532nm波长激光倾斜入射光学基板表面，运用微分干涉显微镜的暗场模式观测激光在基板表面的散射光信息，实现对光学基板表面缺陷及微小残留颗粒的高灵敏度检测；通过分别采用暗场显微模式下激光散射以及微分干涉显微模式对所旋涂有300~3μm人工氧化硅小球的样品进行观测，对比建立微粒激光散射面积与微粒实体尺度对应关系，实现对于微粒的激光散射检测的量化定标；通过对比暗场显微模式下激光散射以及微分干涉显微模式对刻有600nm~5μm宽度人工划痕基板的观测结果，建立划痕激光散射面积与实体宽度对应关系，完成对划痕缺陷的激光散射量化定标。本发明极大地提高了基板表面缺陷检测的精度和效率。
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