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公开(公告)号:CN103038874A
公开(公告)日:2013-04-10
申请号:CN201180037269.1
申请日:2011-08-11
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , B23Q3/15
CPC classification number: H01L21/6833 , B23Q3/15 , B32B3/30 , B32B5/14 , B32B5/142 , B32B5/147 , H01L21/6875 , H02N13/00 , Y10T279/23 , Y10T428/24182 , Y10T428/24355 , Y10T428/24479 , Y10T428/24942 , Y10T428/26
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,是具备电介体基板的静电吸盘,该电介体基板具有:突起部,形成在载放被吸附物侧的主面上;及平面部,形成在所述突起部的周围,其特征在于,所述电介体基板由多晶陶瓷烧结体形成,所述突起部的顶面为曲面,在所述顶面上形成有第1凹部,所述平面部具有平坦部,在所述平坦部上形成有第2凹部,所述第1凹部的深度尺寸比所述第2凹部的深度尺寸大。可抑制产生颗粒,同时容易使静电吸盘表面的清洁状态恢复。
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公开(公告)号:CN116884926A
公开(公告)日:2023-10-13
申请号:CN202310681163.X
申请日:2019-03-07
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L23/29 , C23C24/04 , G01N23/2202 , G01N23/2251 , C04B41/87
Abstract: 本发明提供一种抗粒子性出色的陶瓷涂层以及评价陶瓷涂层的抗粒子性的方法。具体而言,是一种包含基体材料及设置在所述基体材料上且具有表面的结构物的复合结构物,结构物包含多结晶陶瓷,将通过TEM图像解析算出的亮度Sa满足规定值的复合结构物,可作为要求具有抗粒子性的半导体制造装置的内部构件而适当加以使用。
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公开(公告)号:CN110246811B
公开(公告)日:2023-09-26
申请号:CN201910171153.5
申请日:2019-03-07
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L23/29 , C04B41/87 , C23C24/04 , G01N23/203 , G01N27/62
Abstract: 本发明提供一种抗粒子性出色的陶瓷涂层以及评价陶瓷涂层的抗粒子性的方法。具体而言,是一种包含基体材料及设置在所述基体材料上且具有表面的结构物的复合结构物,结构物包含多结晶陶瓷,将通过TEM图像解析算出的亮度Sa满足规定值的复合结构物,可作为要求具有抗粒子性的半导体制造装置的内部构件而适当加以使用。
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公开(公告)号:CN100450975C
公开(公告)日:2009-01-14
申请号:CN200610114871.1
申请日:1999-05-27
Applicant: TOTO株式会社
CPC classification number: C04B41/009 , C04B41/5022 , C04B41/86 , C04B2111/00336 , Y10T428/24926 , Y10T428/265 , Y10T428/2982 , Y10T428/31 , C04B33/00
Abstract: 本发明公开了一种卫生陶瓷,其是在陶瓷坯体上形成表面釉料层的卫生陶瓷,其是便器过滤器、大便器、小便器、便器的水箱、洗面台的洗面器或者洗手器,其中上述表面釉料层的表面实质上是由玻璃成分构成,而且其表面上观察不到粒径10μm以上的二氧化硅粒子的存在。此卫生陶瓷具有污物难以附着的优点。
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公开(公告)号:CN110246811A
公开(公告)日:2019-09-17
申请号:CN201910171153.5
申请日:2019-03-07
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L23/29 , C04B41/87 , C23C24/04 , G01N23/203 , G01N27/62
Abstract: 本发明提供一种抗粒子性出色的陶瓷涂层以及评价陶瓷涂层的抗粒子性的方法。具体而言,是一种包含基体材料及设置在所述基体材料上且具有表面的结构物的复合结构物,结构物包含多结晶陶瓷,将通过TEM图像解析算出的亮度Sa满足规定值的复合结构物,可作为要求具有抗粒子性的半导体制造装置的内部构件而适当加以使用。
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公开(公告)号:CN104884409B
公开(公告)日:2018-01-02
申请号:CN201380067799.X
申请日:2013-12-27
Applicant: TOTO株式会社
CPC classification number: C04B41/87 , C04B35/505 , C04B35/62222 , C04B41/009 , C04B41/5045 , C04B2235/3217 , C04B2235/3225 , C04B2235/781 , C04B2235/785 , C04B2235/963 , C04B2237/066 , C04B2237/343 , C04B2237/592 , C23C4/12 , C23C16/4404 , C23C24/04 , H01L21/6833 , H01L21/68757 , C04B35/10 , C04B41/4543
Abstract: 本发明提供一种耐等离子性构件,其特征在于,具备:基材;及层状结构物,形成于所述基材的表面,包含氧化钇多结晶体且具有耐等离子性,所述层状结构物具有:第1凹凸结构;及第2凹凸结构,在所述第1凹凸结构上重叠而形成,具有与所述第1凹凸结构相比更细微的凹凸。能够提高覆盖腔室内壁的被膜的密合强度或密合力,或能够减少微粒。
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公开(公告)号:CN106977177A
公开(公告)日:2017-07-25
申请号:CN201610835660.0
申请日:2016-09-20
Applicant: TOTO株式会社
Abstract: 本发明在于提供显示出良好的性质、尤其是优异的耐冲击性的陶瓷板以及适于制造该陶瓷板的坯土粒。根据本发明的坯土粒由含有粘土与无机纤维的颗粒构成,其特征在于,与所述颗粒的外侧相比空隙偏在于内侧,据此具备致密的外壳以及被该外壳包围的内部。将该坯土粒通过干式冲压成形并烧成所得到的陶瓷板的耐冲击性优异。
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公开(公告)号:CN104884409A
公开(公告)日:2015-09-02
申请号:CN201380067799.X
申请日:2013-12-27
Applicant: TOTO株式会社
CPC classification number: C04B41/87 , C04B35/505 , C04B35/62222 , C04B41/009 , C04B41/5045 , C04B2235/3217 , C04B2235/3225 , C04B2235/781 , C04B2235/785 , C04B2235/963 , C04B2237/066 , C04B2237/343 , C04B2237/592 , C23C4/12 , C23C16/4404 , C23C24/04 , H01L21/6833 , H01L21/68757 , C04B35/10 , C04B41/4543
Abstract: 本发明提供一种耐等离子性构件,其特征在于,具备:基材;及层状结构物,形成于所述基材的表面,包含氧化钇多结晶体且具有耐等离子性,所述层状结构物具有:第1凹凸结构;及第2凹凸结构,在所述第1凹凸结构上重叠而形成,具有与所述第1凹凸结构相比更细微的凹凸。能够提高覆盖腔室内壁的被膜的密合强度或密合力,或能够减少微粒。
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公开(公告)号:CN103053018A
公开(公告)日:2013-04-17
申请号:CN201180037611.8
申请日:2011-08-11
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , B23Q3/15 , H02N13/00
CPC classification number: H02N13/00 , B23Q3/152 , H01L21/6833
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,是具备电介体基板的静电吸盘,该电介体基板具有:突起部,形成在载放被吸附物侧的主面上;及平面部,形成在所述突起部的周围,其特征在于,所述电介体基板由多晶陶瓷烧结体形成,用激光显微镜求出的所述主面中的干涉条纹占有面积率小于1%。可以提供一种静电吸盘及静电吸盘的制造方法,可抑制产生颗粒。
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公开(公告)号:CN116895608A
公开(公告)日:2023-10-17
申请号:CN202310681240.1
申请日:2019-03-07
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L23/29 , C23C24/04 , G01N27/62 , G01N23/203 , C04B41/87
Abstract: 本发明提供一种抗粒子性出色的陶瓷涂层以及评价陶瓷涂层的抗粒子性的方法。具体而言,是一种包含基体材料及设置在所述基体材料上且具有表面的结构物的复合结构物,结构物包含多结晶陶瓷,将通过TEM图像解析算出的亮度Sa满足规定值的复合结构物,可作为要求具有抗粒子性的半导体制造装置的内部构件而适当加以使用。
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