公开(公告)号：CN118146493A

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN202311658481.0

申请日：2023-12-06

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 露木亮太 ,  江幡敏 ,  西川(鬼丸)奈美 ,  秋池利之 ,  高松信博 ,  中村文弥

IPC: C08G65/18 ,  C09D171/02 ,  C09D11/101 ,  H10K50/842 ,  C07D305/06

Abstract: 本发明提供一种硬化性组合物、硬化膜、有机EL元件及其制法、化合物，所述硬化性组合物，其可形成介电常数低、且逸气的产生少的硬化膜。所述硬化性组合物，含有聚合性化合物、以及聚合引发剂，聚合性化合物包含化合物(A1)，所述化合物(A1)具有氧杂环丁烷环，且在除氧杂环丁烷环以外的部分不具有氧原子，并且分子量为100以上。

公开(公告)号：CN102053493A

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN201010531429.5

申请日：2010-10-26

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 上田二朗 ,  藤冈昌泰 ,  露木亮太

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/075 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法。该放射线敏感性组合物适合用于形成在满足透明性、耐热透明性、表面硬度等一般要求的性质的同时，即使在高温、高湿的苛刻条件下，对ITO透明导电膜或钼等金属布线的密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜。该放射线敏感性组合物包含[A]硅氧烷聚合物、[B]具有下述式(1)(式中，R1是氢原子或者碳原子数为1～4的烷基，R2～R6各自独立地是氢原子、羟基或者碳原子数为1～4的烷基，B是单键、-COO-*或者-CONH-*，m是0～3的整数。其中，R2～R6中的至少一个是羟基，-COO-*或者-CONH-*中的各个*的连接键和(CH2)m的碳连接)所示的重复单元的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂或者放射线敏感性碱产生剂。

公开(公告)号：CN101907828A

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN201010198420.7

申请日：2010-06-07

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 上田二朗 ,  高濑英明 ,  藤冈昌泰 ,  露木亮太

IPC: G03F7/075 ,  G02F1/1362 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法。所述放射线敏感性组合物可以形成透明性、耐热性等优异，同时对ITO基板密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜，而且具有足够分辨率。本发明的放射线敏感性组合物包括：[A]硅氧烷聚合物，[B]选自由式(1)和(3)分别表示的化合物构成的群组中的至少一种硅烷化合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]硅氧烷聚合物优选为式(4)的水解性硅烷化合物的水解缩合物。还可以进一步含有[D]脱水剂。作为[C]放射线敏感性酸产生剂优选使用选自由三苯基锍盐和四氢噻吩鎓盐构成的群组中的至少一种。(R1O)3Si-R2-Si(OR3)3 (1)(R7)q-Si-(OR8)4-q (4)

公开(公告)号：CN108603097A

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：CN201780008816.0

申请日：2017-01-17

Applicant: JSR株式会社 ,  根上工业株式会社

Inventor： 松田信弘 ,  露木亮太 ,  畴地基央 ,  鼎健太郎 ,  片切崇 ,  西田惠子 ,  长谷川庆

IPC: C09K5/06

Abstract: 本发明提供蓄热粒子(10)和含有该蓄热粒子的蓄热材料，所述蓄热粒子(10)具有核部(12)和壳部(14)，所述核部(12)含有蓄热用物质，所述壳部(14)含有聚氨酯聚脲，所述蓄热粒子(10)的体积平均粒径为100～500μm。

公开(公告)号：CN101907828B

公开(公告)日：2013-10-16

申请号：CN201010198420.7

申请日：2010-06-07

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 上田二朗 ,  高濑英明 ,  藤冈昌泰 ,  露木亮太

IPC: G03F7/075 ,  G02F1/1362 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法。所述放射线敏感性组合物可以形成透明性、耐热性等优异，同时对ITO基板密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜，而且具有足够分辨率。本发明的放射线敏感性组合物包括：[A]硅氧烷聚合物，[B]选自由式(1)和(3)分别表示的化合物构成的群组中的至少一种硅烷化合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]硅氧烷聚合物优选为式(4)的水解性硅烷化合物的水解缩合物。还可以进一步含有[D]脱水剂。作为[C]放射线敏感性酸产生剂优选使用选自由三苯基锍盐和四氢噻吩鎓盐构成的群组中的至少一种。(R1O)3Si-R2-Si(OR3)3 (1)(R7)q-Si-(OR8)4-q (4)。

公开(公告)号：CN120005519A

公开(公告)日：2025-05-16

申请号：CN202411586654.7

申请日：2024-11-08

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 井川茂 ,  秋池利之 ,  露木亮太 ,  伊藤大树

IPC: C09J4/00 ,  H10K50/844 ,  H10K71/00 ,  C09J4/02 ,  C09J4/06

Abstract: 本发明的课题在于提供一种可形成介电常数低、逸气的产生少、基板密合性高的硬化膜的有机EL元件密封剂用的硬化性组合物、硬化膜、有机EL元件及其制造方法。本发明涉及一种有机EL元件密封剂用的硬化性组合物，其含有马来酰亚胺化合物(A)、以及聚合性化合物(B)，且不含光聚合引发剂(C)、或者相对于所述马来酰亚胺化合物(A)及聚合性化合物(B)的合计量(100质量％)而含有2质量％以下的光聚合引发剂(C)。

公开(公告)号：CN102053493B

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201010531429.5

申请日：2010-10-26

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 上田二朗 ,  藤冈昌泰 ,  露木亮太

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/075 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法。该放射线敏感性组合物适合用于形成在满足透明性、耐热透明性、表面硬度等一般要求的性质的同时，即使在高温、高湿的苛刻条件下，对ITO透明导电膜或钼等金属布线的密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜。该放射线敏感性组合物包含[A]硅氧烷聚合物、[B]具有下述式(1)(式中，R1是氢原子或者碳原子数为1～4的烷基，R2～R6各自独立地是氢原子、羟基或者碳原子数为1～4的烷基，B是单键、-COO-*或者-CONH-*，m是0～3的整数。其中，R2～R6中的至少一个是羟基，-COO-*或者-CONH-*中的各个*的连接键和(CH2)m的碳连接)所示的重复单元的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂或者放射线敏感性碱产生剂。