公开(公告)号：CN103019030B

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201210352806.8

申请日：2012-09-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 秋丸尚徳 ,  松木智裕 ,  杉浦诚

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/075 ,  G02B3/00 ,  G02B1/04

Abstract: 本发明提供一种微透镜的形成方法、微透镜及负型感光性组成物，所述微透镜的形成方法的特征在于包含：步骤1：于基板上形成负型感光性组成物的覆膜的步骤，所述负型感光性组成物含有聚硅氧烷（A）、光产酸剂（B）及具有保护基的胺（C）；步骤2：对所述覆膜进行选择性曝光，对所曝光的覆膜进行显影的步骤；及步骤3：对显影后的覆膜进行加热的步骤。利用本发明的微透镜的形成方法，可形成耐热性优异的微透镜。本发明的负型感光性组成物可使用所述微透镜的形成方法，从而形成耐热性优异的微透镜。

公开(公告)号：CN103019030A

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CN201210352806.8

申请日：2012-09-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 秋丸尚徳 ,  松木智裕 ,  杉浦诚

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/075 ,  G02B3/00 ,  G02B1/04

Abstract: 本发明提供一种微透镜的形成方法、微透镜及负型感光性组成物，所述微透镜的形成方法的特征在于包含：步骤1：于基板上形成负型感光性组成物的覆膜的步骤，所述负型感光性组成物含有聚硅氧烷（A）、光产酸剂（B）及具有保护基的胺（C）；步骤2：对所述覆膜进行选择性曝光，对所曝光的覆膜进行显影的步骤；及步骤3：对显影后的覆膜进行加热的步骤。利用本发明的微透镜的形成方法，可形成耐热性优异的微透镜。本发明的负型感光性组成物可使用所述微透镜的形成方法，从而形成耐热性优异的微透镜。

公开(公告)号：CN112534352A

公开(公告)日：2021-03-19

申请号：CN201980051416.7

申请日：2019-07-01

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 谷口拓弘 ,  西口直希 ,  松本朋之 ,  榊原宏和 ,  广昭人 ,  秋丸尚徳

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的目的在于提供一种形成作为镀覆处理的掩模而有用的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用了所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用了通过所述形成方法所形成的抗蚀剂图案的镀覆成形物的制造方法、以及具有所述镀覆成形物的半导体装置，感光性树脂组合物含有：聚合体(A)，具有下述式(a1)所示的结构单元(a1)、下述式(a2)所示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所示的结构单元(a3)；以及光酸产生剂(B)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。