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公开(公告)号：CN102333797B
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201080008657.2
申请日：2010-02-23
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C07C69/96 , C07C68/06 , C07C2601/14 , C08F220/30 , G03F7/0046 , G03F7/0392
Abstract: 本发明涉及通式(1)(其中，R0为碳原子数1～10的(n+1)价的直链状或支链状脂肪族烃基等，R1为氢原子、甲基或三氟甲基，R2为单键等，R3为碳原子数1～4的直链状或支链状烷基等，X为碳原子数1～10的直链状或支链状氟代亚烷基，n为1～5的整数)表示的化合物。
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公开(公告)号：CN104391429B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201410593866.8
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , C08F220/22 , G03F7/20
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1‑1)和(1‑2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(Ⅰ)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN102597878B
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201080045526.1
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/22
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104391429A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201410593866.8
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , C08F220/22 , G03F7/20
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(Ⅰ)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN102597878A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080045526.1
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/22
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN103250100A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201180057446.2
申请日：2011-11-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C07C69/54 , C07C69/734 , C08F20/10 , C08L33/04 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/004 , C07C69/54 , C07C69/63 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2603/74 , C07D307/77 , C07D309/10 , C08F220/22 , C08F2220/1891 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/38 , C08F2220/281
Abstract: 本发明旨在提供能使PEB温度下降且以LWR、DOF等为指标的光刻性能优异，还能充分满足作为抗蚀剂基本特性的灵敏度等及耐蚀刻性的化学增幅型抗蚀剂用的放射线敏感树脂组合物、使用该树脂组合物的图案形成方法、上述放射线敏感树脂组合物中使用的聚合物及化合物。本发明还旨在提供即使在PEB温度为低温的情况下仍能抑制桥接缺陷及浮渣产生且LWR性能优异、可形成良好的微细图案的抗蚀膜用的放射线敏感树脂组合物及使用该树脂组合物的图案形成方法。本发明是含有〔A〕由一或多种聚合物构成的聚合物成分及〔B〕放射线敏感酸产生物，上述〔A〕聚合物成分中的至少一种聚合物为具有下式（1）表示的结构单元（I）的放射线敏感树脂组合物。
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公开(公告)号：CN102333797A
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN201080008657.2
申请日：2010-02-23
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C07C69/96 , C07C68/06 , C07C2601/14 , C08F220/30 , G03F7/0046 , G03F7/0392
Abstract: 本发明涉及通式(1)(其中，R0为碳原子数1～10的(n+1)价的直链状或支链状脂肪族烃基等，R1为氢原子、甲基或三氟甲基，R2为单键等，R3为碳原子数1～4的直链状或支链状烷基等，X为碳原子数1～10的直链状或支链状氟代亚烷基，n为1～5的整数)表示的化合物。
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公开(公告)号：CN102037030A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200980117928.5
申请日：2009-05-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F20/28 , C07C69/96 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C07C69/96 , C08F220/18 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , C08F220/28 , C08F220/22
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法，其中，所述液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物对放射线的透明性高、灵敏度等作为抗蚀剂的基本物性优异、同时最小倒塌尺寸(倒塌)优异、且液浸曝光工艺中的图案形状的参差不齐得到改善。本发明的液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物含有(A)树脂成分、(B)放射线敏感性产酸剂和(C)溶剂，其中，(A)树脂成分在将该(A)树脂成分设定为100质量％时含有超过50质量％的含酸离解性基团树脂(A1)，所述含酸离解性基团树脂(A1)包含在侧链具有氟原子和酸离解性基团的重复单元(a1)。
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