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公开(公告)号：CN101128916A
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200680005696.0
申请日：2006-01-20
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/038
Abstract: 一种液浸式曝光系统(1)，通过在投影光学装置(121)的光学元件和衬底(111)之间配备的液体(301)来执行曝光过程。液浸式曝光系统(1)包括供给液体(301)的液体供给部分(80)、将来自液体供给部分(80)的液体(301(301b))连续地沿特定方向导入并且在投影光学装置(121)的光学元件和衬底(111)之间的空间充满了液体(301)的状态下执行曝光过程的曝光部分、其对在关于衬底(111)对称的位置上流过曝光部分(110)的液体(301(301a))进行恢复的液体恢复部分(90)、以及回收被液体恢复部分90恢复的液体(301(301c))的液体回收部分(20)。当采用液浸法时液浸式曝光液的特性可以保持稳定，由此能够有利地并连续地实行曝光，并能降低运行成本。
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公开(公告)号：CN108350353B
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN201680062820.0
申请日：2016-11-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种适合于感光性图案形成用材料等的纳米粒子集合体、所述纳米粒子集合体的制造方法、纳米粒子集合体组合物、波长变换层以及配体。本发明的纳米粒子的集合体具有核壳纳米结晶与第1配体，所述核壳纳米结晶具有：包含含有第13族元素及第15族元素的半导体物质的核、以及被覆所述核的至少一部分且包含含有第12族元素及第16族元素的化合物的一种或多种壳，所述第1配体被覆所述核壳纳米结晶的至少一部分，且所述纳米粒子集合体的特征在于，在1，2‑丙二醇‑1‑甲醚‑2‑乙酸酯等溶媒中，当利用半值宽为45nm的456.2nm的波长的光激发时，产生荧光量子产率为70％以上且荧光半值宽为45nm以下的510nm以上且650nm以下的波长的荧光。
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公开(公告)号：CN108350353A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680062820.0
申请日：2016-11-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种适合于感光性图案形成用材料等的纳米粒子集合体、所述纳米粒子集合体的制造方法、纳米粒子集合体组合物、波长变换层以及配体。本发明为一种具有核壳纳米结晶与第1配体的纳米粒子的集合体，所述核壳纳米结晶具有：包含含有第13族元素及第15族元素的半导体物质的核、以及被覆所述核的至少一部分且包含含有第12族元素及第16族元素的化合物的一种或多种壳，所述第1配体被覆所述核壳纳米结晶的至少一部分，且所述纳米粒子集合体的特征在于，在1，2-丙二醇-1-甲醚-2-乙酸酯等溶媒中，当利用半值宽为45nm的456.2nm的波长的光激发时，产生荧光量子产率为70％以上且荧光半值宽为45nm以下的510nm以上且650nm以下的波长的荧光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100492588C
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200580005118.2
申请日：2005-05-19
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/38
Abstract: 本发明的目的在于提供一种在浸液曝光方法中，折射率大于纯水，防止光致抗蚀膜或其上层膜成分的洗脱或溶解，能够抑制抗蚀图案生成时的缺陷的浸液曝光用液体、以及利用该液体的浸液曝光方法。一种浸液用曝光液体，其在通过投影光学系统的透镜和基板之间充满的液体进行曝光的浸液曝光装置或浸液曝光方法中使用，在浸液曝光装置工作的温度区域内是液体，是包含脂环烃化合物或在环结构中含有硅原子的环烃化合物。
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公开(公告)号：CN109426030A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810942894.4
申请日：2018-08-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02F1/13357
Abstract: 本发明提供一种可应用于色变换方式且可赋予色纯度优异的颜色的层叠体及包含所述层叠体的显示装置。本发明揭示了一种层叠体，其包括：基板；波长变换层，位于基板的第1面侧；以及彩色滤光片，位于基板的第1面侧且在400nm～500nm的范围内具有吸收波峰。波长变换层与彩色滤光片中的至少一者是以使400nm～500nm的波长范围的光扩散的方式构成。
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公开(公告)号：CN100457749C
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200480002268.3
申请日：2004-01-09
Applicant: JSR株式会社
IPC: C07D333/46 , C07D333/78 , C08L33/06
Abstract: 提供一种在波长220nm以下的透明性优良，且作辐射敏感性酸产生剂时其感光度、分辨率、图案形状、LER、保存稳定性等性能优良的锍盐化合物以及以该化合物作为辐射敏感性酸产生剂的正型辐射敏感性树脂组合物。锍盐化合物用通式(1)表示。[R1表示卤素原子、烷基、1价的脂环烃基、烷氧基、-OR3基(R3为1价的脂环烃基。)等，R2表示(取代)烷基，或者2个以上的R2相互结合形成环状结构，p为0～7，q为0～6，n为0～3，X-表示磺酸阴离子。]正型辐射敏感性树脂组合物含有(A)由该锍盐化合物构成的辐射敏感性酸产生剂和(B)含有酸解离性基的树脂。
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公开(公告)号：CN1943013A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200580005118.2
申请日：2005-05-19
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/38
Abstract: 本发明的目的在于提供一种在浸液曝光方法中，折射率大于纯水，防止光致抗蚀膜或其上层膜成分的洗脱或溶解，能够抑制抗蚀图案生成时的缺陷的浸液曝光用液体、以及利用该液体的浸液曝光方法。一种浸液用曝光液体，其在通过投影光学系统的透镜和基板之间充满的液体进行曝光的浸液曝光装置或浸液曝光方法中使用，在浸液曝光装置工作的温度区域内是液体，是包含脂环烃化合物或在环结构中含有硅原子的环烃化合物。
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公开(公告)号：CN1738813A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200480002268.3
申请日：2004-01-09
Applicant: JSR株式会社
IPC: C07D333/46 , C07D333/78 , C08L33/06
Abstract: 提供一种在波长220nm以下的透明性优良，且作辐射敏感性酸产生剂时其感光度、分辨率、图案形状、LER、保存稳定性等性能优良的锍盐化合物以及以该化合物作为辐射敏感性酸产生剂的正型辐射敏感性树脂组合物。锍盐化合物用通式(1)表示。[R1表示卤素原子、烷基、1价的脂环烃基、烷氧基、－OR3基(R3为1价的脂环烃基。)等，R2表示(取代)烷基，或者2个以上的R2相互结合形成环状结构，p为0～7，q为0～6，n为0～3，X－表示磺酸阴离子。]正型辐射敏感性树脂组合物含有(A)由该锍盐化合物构成的辐射敏感性酸产生剂和(B)含有酸解离性基的树脂。
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