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公开(公告)号：CN109790302A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780060253.X
申请日：2017-09-29
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供可得到具有高强度的橡胶弹性体，而且能够制造廉价的橡胶组合物的方法和使用该橡胶组合物制造的轮胎。本发明的橡胶组合物的制造方法的特征在于，具有以下工序：将至少含有高饱和共轭二烯系聚合物和交联剂体系的成分混炼的工序(A)，将至少含有上述高饱和共轭二烯系聚合物以外的共轭二烯系聚合物的成分混炼的工序(B)，以及将上述工序(A)中得到的中间体组合物(a)和上述工序(B)中得到的中间体组合物(b)混炼的工序(C)。
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公开(公告)号：CN101907828B
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：CN201010198420.7
申请日：2010-06-07
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/075 , G02F1/1362 , G03F7/00
Abstract: 本发明涉及放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法。所述放射线敏感性组合物可以形成透明性、耐热性等优异，同时对ITO基板密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜，而且具有足够分辨率。本发明的放射线敏感性组合物包括：[A]硅氧烷聚合物，[B]选自由式(1)和(3)分别表示的化合物构成的群组中的至少一种硅烷化合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]硅氧烷聚合物优选为式(4)的水解性硅烷化合物的水解缩合物。还可以进一步含有[D]脱水剂。作为[C]放射线敏感性酸产生剂优选使用选自由三苯基锍盐和四氢噻吩鎓盐构成的群组中的至少一种。(R1O)3Si-R2-Si(OR3)3 (1)(R7)q-Si-(OR8)4-q (4)。
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公开(公告)号：CN101646718B
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN200880010115.1
申请日：2008-03-21
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C09D183/10
Abstract: 本发明涉及固化性树脂组合物，该组合物含有：含有具选自环氧乙基、氧杂环丁基和烯丙基的至少一种官能基团的聚合性不饱和化合物的聚合物，以及含有可通过热与该聚合物发生交联反应的官能基团的滤色器保护膜用硅氧烷低聚物。该组合物即使是表面平整性低的基体，也可以在该基体上形成平整性高的固化膜，并且用于形成透明性和表面硬度高，耐热耐压性、耐酸性、耐碱性、耐溅射性等各种耐性优异的光学装置用保护膜。
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公开(公告)号：CN101165091A
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：CN200710105340.0
申请日：2007-01-11
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种热固性树脂组合物，其含有(A)(a1)具有环氧乙基或氧杂环丁基的聚合性不饱和化合物和(a2)除上述(a1)以外的聚合性不饱和化合物的共聚物，以及(B)具有一个或以上羧基和一个或以上(甲基)丙烯酸基的化合物。其即使在表面平坦性低的基体上也能够形成高平坦性的固化膜，而且适合用于形成透明性和表面硬度高，耐热耐压性、耐碱性、再加工性等各种耐性优异的光设备用保护膜。
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公开(公告)号：CN103348289B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201280007859.4
申请日：2012-02-21
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/075 , C08F290/14 , C08G77/14 , C08G77/20
CPC classification number: C08F283/122 , C08G77/12 , C08G77/14 , C08L83/06 , G03F7/027 , G03F7/033 , G03F7/0757 , G03F7/40 , C08L83/00
Abstract: 本发明提供一种感放射线性组成物，其可形成以高水准且以良好的平衡而兼具对保护膜或层间绝缘膜的要求特性的硬化膜，且可利用无机碱显影液进行显影。本发明的感放射线性组成物含有以下的成分[A1]、成分[B]及成分[C]：[A1]使四乙氧基硅烷或其部分水解物、及特定结构的水解性硅烷化合物或其部分水解物进行水解缩合而获得的聚硅氧烷；[B]具有2个以上的乙烯性不饱和基的化合物(其中成分[A1]除外)；[C]光自由基聚合起始剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102566278B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201110288607.0
申请日：2011-09-19
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种硅氧烷聚合物组合物、固化膜以及固化膜的形成方法。本发明的课题在于提供一种硅氧烷聚合物组合物，该硅氧烷聚合物组合物适合喷出喷嘴式涂布法，没有涂布不均，外观优异，而且可以实现高度平整性(膜厚均匀性)和高速涂布，且可以形成透明性、耐擦伤性优异的作为保护膜和层间绝缘膜的固化膜。一种硅氧烷聚合物组合物，其包含：[A]具有自由基反应性官能团的硅氧烷聚合物，[B]自由基聚合引发剂，以及[C]有机溶剂；其中，固体成分浓度为5质量％以上、30质量％以下，25℃时的粘度为2.0mPa·s以上、10mPa·s以下，而且作为[C]有机溶剂至少包含(C1)20℃时的蒸气压是0.1mmHg以上、不足1mmHg的有机溶剂。
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公开(公告)号：CN102053493B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201010531429.5
申请日：2010-10-26
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法。该放射线敏感性组合物适合用于形成在满足透明性、耐热透明性、表面硬度等一般要求的性质的同时，即使在高温、高湿的苛刻条件下，对ITO透明导电膜或钼等金属布线的密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜。该放射线敏感性组合物包含[A]硅氧烷聚合物、[B]具有下述式(1)(式中，R1是氢原子或者碳原子数为1～4的烷基，R2～R6各自独立地是氢原子、羟基或者碳原子数为1～4的烷基，B是单键、-COO-*或者-CONH-*，m是0～3的整数。其中，R2～R6中的至少一个是羟基，-COO-*或者-CONH-*中的各个*的连接键和(CH2)m的碳连接)所示的重复单元的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂或者放射线敏感性碱产生剂。
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公开(公告)号：CN102147570A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN201010614014.4
申请日：2010-12-17
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物、固化膜及其形成方法。本发明的目的是提供一种具有高的涂布性和图案形成性，所得固化物除了高的透明性和粘附性以外，还具有高的折射率，且具有正型的放射线敏感特性的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物，由该组合物形成的图案化的固化膜及其形成方法。本发明为一种放射线敏感性组合物，其含有[A]硅氧烷聚合物、[B]金属氧化物颗粒、和[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂，上述[B]金属氧化物颗粒为选自铝、锆、钛、锌、铟、锡、锑和铈构成的群组中的至少一种金属的氧化物颗粒。该放射线敏感性组合物优选还含有分散剂。
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公开(公告)号：CN101186740A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200710186367.7
申请日：2007-11-14
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及固化性树脂组合物，该固化性树脂组合物含有包含下述聚合单元的共聚物：来自具有选自羧酸的缩醛酯结构、羧酸的缩酮结构、羧酸的1－烷基环烷基酯结构和羧酸的叔丁酯结构的至少一种结构的聚合性不饱和化合物的聚合单元；来自具有氧杂环丁烷基的聚合性不饱和化合物的聚合单元；以及上述两种聚合单元以外的来自聚合性不饱和化合物的聚合单元。本发明提供即使是表面的平坦性低的基体，也可以在该基体上形成平坦性高的固化膜，并且适合在形成透明性和表面硬度高，耐热耐压性、耐酸性、耐碱性和耐溅射性等各种耐性优异的光学器件用保护膜中使用，并且组合物的保存稳定性优异的组合物。
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公开(公告)号：CN110168013A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201780082634.8
申请日：2017-09-13
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够制造通过抑制在料粒干燥步骤或漏斗等中的阻塞而生产性提升，并且成形体特性(硬度低、视认性良好、具有耐热性、成形外观良好等)优异的成形体的成形加工性优异的组合物。本发明的组合物含有碘价为2～150的热塑性树脂(A)、和水，所述组合物的特征在于：相对于所述组合物100质量份，含有100ppm～2000ppm的所述水，所述热塑性树脂(A)具有源于共轭二烯化合物的重复单元，且所述热塑性树脂(A)的结晶熔解峰值温度为50℃～95℃，并且结晶熔解热量为10J/g～40J/g。
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