公开(公告)号：CN101638522A

公开(公告)日：2010-02-03

申请号：CN200910150874.4

申请日：2009-06-25

Applicant: 财团法人工业技术研究院

Inventor： 王心心 ,  阿鲁姆甘·巴乐书 ,  黄建喨 ,  郑宗达

IPC: C09B69/02 ,  C09B56/00 ,  G11B7/24 ,  G11B7/246 ,  G11B7/253 ,  G11B7/258

CPC classification number: C09B69/045 ,  G11B7/2467 ,  G11B7/2472 ,  G11B7/2495 ,  G11B7/2533 ,  G11B7/2538

Abstract: 本发明提供一种包含新颖有机染料化合物的用于高密度光学记录媒体的纪录层。有机染料化合物具有以下通用化学结构式：其中R1、R2以及R3各自独立地表示氢原子、1～8个碳原子的直链或支链烷基、1～3个碳原子的烷氧基、卤素、硝基、苯甲基或经取代的苯甲基，且取代基为1～2个碳原子的烷基、1～2个碳原子的烷氧基、卤素或硝基；且其中有机染料化合物在400至550纳米波长范围下展现最大吸光度。[A]+包括碱金属离子或其他阴离子。

公开(公告)号：CN101381361A

公开(公告)日：2009-03-11

申请号：CN200810125668.3

申请日：2008-06-17

Applicant: 财团法人工业技术研究院

Inventor： 李明家 ,  李安泽 ,  黄建喨 ,  郑宗达 ,  邱国基 ,  郑尊仁

IPC: C07D319/08 ,  C07D265/14 ,  C07D405/14 ,  C07D498/22 ,  C07D417/14 ,  C07F15/04 ,  C07F15/06 ,  G11B7/242 ,  G11B7/252

CPC classification number: C07D265/14 ,  C07D319/08 ,  C07D405/14 ,  C07D413/14 ,  C07D417/14 ,  Y10S428/913 ,  Y10S430/146

Abstract: 本发明提供一种用于高密度光学记录媒体记录层的新颖有机化合物，信息可以2倍速或更高速且相对较低的写入功率记录于该高密度光学记录媒体的记录层上，以减少因高功率写入时产生的热扩散问题。此记录层中所含的新颖有机化合物具有以上通式(I)。

公开(公告)号：CN103324026A

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：CN201210382854.1

申请日：2012-10-10

Applicant: 财团法人工业技术研究院

Inventor： 杨锦添 ,  李明家 ,  郑宗达

IPC: G03F1/56 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/027 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0042

Abstract: 本发明提供了图案化层状材料的方法，该方法包括：提供层状材料；形成光致抗蚀剂层于该层状材料上；以激光光束图案化光致抗蚀剂层，露出部分的层状材料；以及蚀刻露出的部分的层状材料，以图案化层状材料。

公开(公告)号：CN102043330A

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：CN200910205373.1

申请日：2009-10-21

Applicant: 财团法人工业技术研究院

Inventor： 杨锦添 ,  郑宗达 ,  陈荣波 ,  许明芳 ,  黄俊杰 ,  朱朝居 ,  黄得瑞

IPC: G03F7/00

Abstract: 本发明公开一种用于纳米压印的滚筒模仁的制造方法，其包括：提供一滚轴基板，其中该滚轴基板为一圆柱体且具有一曲面；形成一无机光致抗蚀剂层于该滚轴基板的该曲面上；使用一激光曝光装置，以聚焦的激光照射该无机光致抗蚀剂层，使得曝光区域的该无机光致抗蚀剂层产生相转变，以及移除相转变区域的该无机光致抗蚀剂层，以于该滚轴基板上形成一纳米图案。