半导体器件及其制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119451564A

    公开(公告)日:2025-02-14

    申请号:CN202410735275.3

    申请日:2024-06-07

    Abstract: 本公开涉及半导体器件及其制造方法。半导体器件包括第一介电膜、在第一介电膜上设置的电阻器元件以及在电阻器元件上设置的第二介电膜。电阻器元件包括硅、铬和碳。电阻器元件中的硅浓度从电阻器元件的中心部分朝向电阻器元件的上表面增加,并且从电阻器元件的中心部分朝向电阻器元件的下表面也增加。

    半导体器件及其制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117116886A

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202310577277.X

    申请日:2023-05-22

    Abstract: 本公开涉及一种半导体器件及其制造方法,其中半导体器件包括第一金属膜,第一金属膜形成具有键合垫的最上层布线。在第一金属膜的晶粒边界处的杂质的浓度高于在第一金属膜中的晶粒中的杂质的浓度。第一金属膜中包括的晶粒的最大颗粒尺寸小于5μm。

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