公开(公告)号：CN114222947B

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202080057734.7

申请日：2020-11-04

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 安俊炫 ,  朴贤旻 ,  田圣浩 ,  林敏映 ,  梁百焕

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/032 ,  G03F7/037 ,  G03F7/038 ,  G03F7/105 ,  H10K59/80 ,  H10K50/86

Abstract: 本申请涉及包含由式1‑1表示的化合物和由式1‑2表示的化合物的粘结剂树脂、负型光敏树脂组合物、以及包括通过使用其形成的黑堤的显示装置。

公开(公告)号：CN110178084B

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN201880006630.6

申请日：2018-11-22

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 安庸植 ,  金容美 ,  林敏映

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/028 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明涉及光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂膜，所述光致抗蚀剂组合物能够形成其中在金属表面基底上形成精细图案期间高度感光的同时抑制基脚现象的图案，并且能够产生化学稳定性优异的光致抗蚀剂膜。

公开(公告)号：CN114222947A

公开(公告)日：2022-03-22

申请号：CN202080057734.7

申请日：2020-11-04

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 安俊炫 ,  朴贤旻 ,  田圣浩 ,  林敏映 ,  梁百焕

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/032 ,  G03F7/037 ,  G03F7/038 ,  G03F7/105 ,  H01L27/32 ,  H01L51/52

Abstract: 本申请涉及包含由式1‑1表示的化合物和由式1‑2表示的化合物的粘结剂树脂、负型光敏树脂组合物、以及包括通过使用其形成的黑堤的显示装置。

公开(公告)号：CN110892325A

公开(公告)日：2020-03-17

申请号：CN201880038114.1

申请日：2018-07-24

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴贤旻 ,  林敏映 ,  李泰燮

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明涉及化学增幅型光致抗蚀剂组合物，其包含碱溶性树脂，所述碱溶性树脂包含含有其中杂环化合物经由包含具有1至20个碳原子的硫化亚烷基的二价官能团取代的基于(甲基)丙烯酸酯的重复单元的基于(甲基)丙烯酸酯的树脂。

公开(公告)号：CN110785705A

公开(公告)日：2020-02-11

申请号：CN201880040313.6

申请日：2018-11-05

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴银石 ,  林敏映 ,  金智慧

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/028 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明涉及光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂膜，所述光致抗蚀剂组合物能够在形成精细图案期间实现优异的图案性能，并且能够制备具有优异的镀覆液化学稳定性的光致抗蚀剂膜。

公开(公告)号：CN101646977A

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：CN200880009943.3

申请日：2008-11-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 崔东昌 ,  崔庚铢 ,  池昊燦 ,  车槿英 ,  林敏映 ,  金星炫 ,  金韩修 ,  许闰姬 ,  刘志钦

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0007 ,  G03F7/033 ,  G03F7/105

Abstract: 本发明的有色分散体包含一种作为粘合剂树脂的含有式1至4的单体的树脂。因此，可提供一种用于具有高遮光性的黑色矩阵的光致抗蚀剂组合物，该组合物含有分散性稳定的本发明有色分散体；并且可制备一种具有均匀的加工特性同时保持高遮光性的高灵敏性黑色矩阵。

公开(公告)号：CN114222776B

公开(公告)日：2023-11-14

申请号：CN202080057763.3

申请日：2020-11-04

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 安俊炫 ,  朴银石 ,  金容美 ,  林敏映 ,  朴帅敏

IPC: C08G73/02 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H10K50/86

Abstract: 本申请涉及式1的化合物、粘结剂树脂、负型光敏树脂组合物、和包括通过使用其形成的黑堤的显示装置。

公开(公告)号：CN114450322B

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN202080067878.0

申请日：2020-12-17

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴帅敏 ,  李元中 ,  林敏映

IPC: C08G18/75 ,  C08G18/67 ,  C08G18/38 ,  C08G18/34 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/035 ,  G03F7/038

Abstract: 本申请涉及化学式1的化合物、粘合剂树脂、负型光敏树脂组合物、和包括使用所述负型光敏树脂组合物形成的黑堤的显示装置。

公开(公告)号：CN110785705B

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN201880040313.6

申请日：2018-11-05

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴银石 ,  林敏映 ,  金智慧

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/028 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明涉及光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂膜，所述光致抗蚀剂组合物能够在形成精细图案期间实现优异的图案性能，并且能够制备具有优异的镀覆液化学稳定性的光致抗蚀剂膜。

公开(公告)号：CN110462516B

公开(公告)日：2023-01-17

申请号：CN201880018047.7

申请日：2018-07-25

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 林敏映 ,  李泰燮 ,  金智慧

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/033 ,  G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供了具有优异的储存稳定性、灵敏度、显影特性、耐镀覆性和耐热性的正性光致抗蚀剂组合物。更具体地，将呈具有与所述光致抗蚀剂组合物中包含的树脂相同的重复单元结构的低聚物的形式的特定溶解抑制剂应用于所述组合物。