公开(公告)号：CN111670177A

公开(公告)日：2020-09-15

申请号：CN201980010872.7

申请日：2019-10-11

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴贤旻 ,  林敏映

IPC: C07C309/23 ,  C07C321/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/032 ,  G03F7/26

Abstract: 本说明书提供了化合物、包含其的光致抗蚀剂组合物、包含其的光致抗蚀剂图案和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。

公开(公告)号：CN111670177B

公开(公告)日：2022-08-23

申请号：CN201980010872.7

申请日：2019-10-11

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴贤旻 ,  林敏映

IPC: C07C309/23 ,  C07C321/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/032 ,  G03F7/26

Abstract: 本说明书提供了化合物、包含其的光致抗蚀剂组合物、包含其的光致抗蚀剂图案和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。

公开(公告)号：CN110325910A

公开(公告)日：2019-10-11

申请号：CN201880013367.3

申请日：2018-08-24

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 林敏映 ,  李泰燮 ,  朴贤旻

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C07D221/14

Abstract: 本发明涉及光致产酸剂和包含其的用于厚膜的化学增幅型光致抗蚀剂组合物，其中光致产酸剂具有优异的溶解度和感光度，并且除了作为光致产酸剂的效果之外，还具有抗腐蚀效果。因此，包含所述光致产酸剂的用于厚膜的化学增幅型光致抗蚀剂组合物减少了在显影之后在曝光部分处的浮渣和/或基脚。

公开(公告)号：CN119866476A

公开(公告)日：2025-04-22

申请号：CN202480003974.7

申请日：2024-05-03

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金智慧 ,  成知兗 ,  朴贤旻 ,  田圣浩 ,  林敏映

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  C08G73/10

Abstract: 本公开内容涉及光敏树脂组合物，并且提供了可溶于环境友好的水性溶剂、可用水性显影溶液显影并且能够提供具有优异的耐化学性、低介电常数特性、低介电损耗特性和机械特性的绝缘膜的光敏树脂组合物。

公开(公告)号：CN110892325B

公开(公告)日：2023-10-20

申请号：CN201880038114.1

申请日：2018-07-24

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴贤旻 ,  林敏映 ,  李泰燮

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明涉及化学增幅型光致抗蚀剂组合物，其包含碱溶性树脂，所述碱溶性树脂包含含有其中杂环化合物经由包含具有1至20个碳原子的硫化亚烷基的二价官能团取代的基于(甲基)丙烯酸酯的重复单元的基于(甲基)丙烯酸酯的树脂。

公开(公告)号：CN110325910B

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN201880013367.3

申请日：2018-08-24

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 林敏映 ,  李泰燮 ,  朴贤旻

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C07D221/14

Abstract: 本发明涉及光致产酸剂和包含其的用于厚膜的化学增幅型光致抗蚀剂组合物，其中光致产酸剂具有优异的溶解度和感光度，并且除了作为光致产酸剂的效果之外，还具有抗腐蚀效果。因此，包含所述光致产酸剂的用于厚膜的化学增幅型光致抗蚀剂组合物减少了在显影之后在曝光部分处的浮渣和/或基脚。光致产酸剂由以下化学式1表示。在化学式1中，各取代基的限定与说明书的详细描述相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN114222947B

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202080057734.7

申请日：2020-11-04

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 安俊炫 ,  朴贤旻 ,  田圣浩 ,  林敏映 ,  梁百焕

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/032 ,  G03F7/037 ,  G03F7/038 ,  G03F7/105 ,  H10K59/80 ,  H10K50/86

Abstract: 本申请涉及包含由式1‑1表示的化合物和由式1‑2表示的化合物的粘结剂树脂、负型光敏树脂组合物、以及包括通过使用其形成的黑堤的显示装置。

公开(公告)号：CN116368434A

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN202180073266.7

申请日：2021-11-09

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 田圣浩 ,  南圭铉 ,  朴贤旻

IPC: G03F7/004

Abstract: 本公开内容涉及光敏树脂组合物、包含其的光敏材料、包含其的黑矩阵和包含其的电子装置。

公开(公告)号：CN114222947A

公开(公告)日：2022-03-22

申请号：CN202080057734.7

申请日：2020-11-04

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 安俊炫 ,  朴贤旻 ,  田圣浩 ,  林敏映 ,  梁百焕

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/032 ,  G03F7/037 ,  G03F7/038 ,  G03F7/105 ,  H01L27/32 ,  H01L51/52

Abstract: 本申请涉及包含由式1‑1表示的化合物和由式1‑2表示的化合物的粘结剂树脂、负型光敏树脂组合物、以及包括通过使用其形成的黑堤的显示装置。

公开(公告)号：CN110892325A

公开(公告)日：2020-03-17

申请号：CN201880038114.1

申请日：2018-07-24

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴贤旻 ,  林敏映 ,  李泰燮

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明涉及化学增幅型光致抗蚀剂组合物，其包含碱溶性树脂，所述碱溶性树脂包含含有其中杂环化合物经由包含具有1至20个碳原子的硫化亚烷基的二价官能团取代的基于(甲基)丙烯酸酯的重复单元的基于(甲基)丙烯酸酯的树脂。