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公开(公告)号:CN107208264B
公开(公告)日:2020-01-24
申请号:CN201680008163.1
申请日:2016-01-29
Applicant: 株式会社捷太格特 , 国立大学法人东京大学
Abstract: 在1.0GPa以上的赫兹接触应力下,在含有包含微量的醇和水的氢气的气氛环境中,使使用金属(SUJ2、钯等)或氧化物陶瓷(ZrO2)形成的滑动面6与包含PLC膜9的被滑动面7接触而滑动,所述PLC膜9为通过在施加低偏压的同时进行电离沉积法形成的覆膜。因此,可以在滑动面6上形成稳定地显现10‑4数量级(低于0.001)的显著低的摩擦系数的低摩擦覆膜5。
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公开(公告)号:CN101796313A
公开(公告)日:2010-08-04
申请号:CN200880104952.0
申请日:2008-08-29
Applicant: 株式会社捷太格特
IPC: F16C19/06 , F16C33/60 , F16C33/66 , F16C35/067 , F16C43/04
CPC classification number: F16C33/60 , F16C9/04 , F16C33/51 , F16C35/067 , F16C2360/22 , Y10T29/4968
Abstract: 本发明提供一种轴承结构,其加工简单且可以使制造成本降低。轴承结构(1)具备:外壳,由具有剖面大致半圆形状的凹部的第一外壳部(13)、及具有与该第一外壳部(13)的凹部(13a)形成剖面大致圆形的支承孔(16)的剖面大致半圆形的凹部的第二外壳部(14)构成;对开式滚动轴承(2),由在该外壳的接合面的支承孔(16)内密接配置的两个一组的对开式外圈(3a、3b)、配置为在两个对开式外圈(3a、3b)的各内侧面能够滚动的多个滚动体(4)、将各滚动体(4)保持为在圆周方向大致等间隔配置的两个一组的对开式保持器(5a、5b)构成,且内嵌有轴(12)。使所述支承孔(16)的外壳接合面方向的内径大于自该接合面方向错开90°方向的内径。
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公开(公告)号:CN102803554A
公开(公告)日:2012-11-28
申请号:CN201080027342.2
申请日:2010-06-09
Applicant: 株式会社捷太格特
IPC: C23C16/27
CPC classification number: C23C16/0245 , C23C16/26 , C23C16/515 , F16D69/00 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明提供一种在低温环境下仍具有良好密着性的DLC膜及能形成该DLC膜的DLC膜形成方法。此外,提供一种初期相容性良好的DLC膜及能形成该DLC膜的DLC膜形成方法。在本发明中,与外离合器板(15)的基材(30)中的内离合器板相对的第1相对面(31)由DLC膜(26)覆盖。此外,基材(30)的表层部形成有处理层(33)。处理层(33)通过将直流脉冲电压施加在基材(30)上、在含有氩气及氢气的环境中生成等离子体来形成。
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公开(公告)号:CN102260859A
公开(公告)日:2011-11-30
申请号:CN201110151656.X
申请日:2011-05-30
Applicant: 株式会社捷太格特
IPC: C23C16/27 , C23C16/515
CPC classification number: C23C16/515 , C23C16/26 , C23C16/503 , C23C16/56
Abstract: 利用以下方式进行制造涂覆构件(20)的方法。首先为类金刚石碳膜沉积工艺,其中通过在储存有基材(4)的处理室(3)中对所述基材(4)施加电压产生等离子体、同时抽空所述处理室(3)并且将包含至少碳化合物的原料气引入所述处理室(3)中,在基材(4)的表面上形成类金刚石碳膜(21)。之后为氢化工艺,其中在持续抽空的同时通过停止施加电压并且引入氢气替代所述原料气,利用氢气氢化所沉积的类金刚石碳膜(21)。
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公开(公告)号:CN107208263B
公开(公告)日:2019-09-20
申请号:CN201680008136.4
申请日:2016-01-29
Applicant: 株式会社捷太格特 , 国立大学法人东京大学
Abstract: 一种低摩擦覆膜5,其包含:在红外吸收光谱中的2900cm‑1至3000cm‑1的区域中显示峰的脂族烃基;在红外吸收光谱中的1650cm‑1至1800cm‑1的区域中显示峰的羰基;在通过TOF‑SIMS获得的正离子谱图中的91.1的质量处显示峰的芳族成分(C7H7+);以及在通过TOF‑SIMS获得的正离子谱图中的115.2的质量处显示峰的稠环类成分(C9H7+)。
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公开(公告)号:CN102443764B
公开(公告)日:2016-04-13
申请号:CN201110309453.9
申请日:2011-10-10
Applicant: 株式会社捷太格特
CPC classification number: C23C16/26 , C23C16/0272 , C23C28/04
Abstract: DLC包覆部件(100)包括:基材(200)、覆盖基材(200)的表面的中间层(300)、以及覆盖中间层(300)的表面的DLC膜(400)。中间层(300)具有五层构造,具备:第一中间层(301)、第二中间层(302)、第三中间层(303)、第四中间层(304)、第五中间层(305)。五层的层(301~305)均由添加有Si的DLC构成。在层(301~305)中,第一中间层(301)的Si浓度最高,其次高的是第五中间层(305)的Si浓度。并且,第二、第三以及第四中间层(302、303、304)的Si浓度比第一以及第五中间层(301、305)的Si浓度低。
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公开(公告)号:CN102373437B
公开(公告)日:2015-09-09
申请号:CN201110227869.6
申请日:2011-08-05
CPC classification number: C23C16/042 , C23C16/26 , C23C16/50 , C23C16/515 , F16C3/03 , F16C2206/04 , H01J37/34 , H01J37/3447
Abstract: 一种形成在第一轴(10)的表面上的DLC薄膜(121),其通过如下方式形成:在真空沉积室(30)中产生圆柱形的等离子体(3a)、将原料气体供应到真空沉积室(30)内、以及向作为被覆本体的第一轴(10)施加脉冲电压。将遮蔽轭(11)的夹具(41)附接至作为不形成第一轴(10)的DLC薄膜(121)的非被覆部分的轭(11)、且与要形成DLC薄膜(121)的作为被覆部分的花键配合部(12)保持分隔间距,以防止花键配合部(12)中的DLC薄膜(121)的硬度减小。
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公开(公告)号:CN104105815A
公开(公告)日:2014-10-15
申请号:CN201380008717.4
申请日:2013-02-07
Applicant: 株式会社捷太格特
IPC: C23C16/455 , C01B31/02 , C23C16/27
CPC classification number: C23C16/45578 , C23C16/26 , C23C16/272 , C23C16/4412 , C23C16/45502 , C23C16/45561 , C23C16/503 , C23C16/515
Abstract: 一种用于沉积碳膜的设备包括具有气体导入管的喷嘴,所述气体导入管用于在其内部上间隔地形成用于将原料气体送出到处理室的多个出口和用于与每个出口连通的气体流路。气体导入管的与形成多个出口的区域对应的管壁以阶梯状的方式来形成,使得管壁的流动路径直径减小至足以通过原料供应装置与原料气体供应侧相分离。
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公开(公告)号:CN101578389A
公开(公告)日:2009-11-11
申请号:CN200780048449.3
申请日:2007-11-09
CPC classification number: C23C8/26 , C23C8/80 , C23C14/024 , C23C14/0605 , C23C16/0272 , C23C16/26 , C23C28/044 , C23C28/046 , C23C28/322 , C23C28/343 , C23C28/347 , F16C33/12 , F16C33/122 , F16C33/14 , F16C33/16 , F16C2206/04 , F16C2223/14 , F16C2223/60 , Y10T428/12625 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明的高耐腐蚀性构件,具备:不锈钢制的基材、在基材的表面的至少一部分被覆的中间层、和在中间层的表面的至少一部分被覆的非晶碳膜,至少在基材的表面的温度为450℃以下的低温下形成中间层和非晶碳膜而成。此外,本发明的高耐腐蚀性构件,具备:表层部进行了氮化处理的不锈钢制的基材、和在基材的表层部的表面的至少一部分被覆的非晶碳膜,其通过至少在基材的表面的温度为450℃以下的低温下进行氮化处理和非晶碳膜的形成而成。上述的高耐腐蚀性构件在制造工序中,没有将不锈钢制的基材的表面暴露于高温(>450℃)。因此,保持基材的耐腐蚀性与原来的不锈钢的耐腐蚀性同等。
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公开(公告)号:CN103671556B
公开(公告)日:2018-09-14
申请号:CN201310421419.X
申请日:2013-09-16
Applicant: 株式会社捷太格特
Abstract: 本发明提供一种滚动轴承,其具备内圈、外圈、以及多个滚动体。在内圈轨道面和外圈轨道面中的至少一方的轨道面,分别形成有供液体润滑剂保留的多个内侧凹部、和供固体润滑剂保留的多个外侧凹部,多个内侧凹部配设于轨道面的相对于滚动体的接触区域、或者非接触区域中的靠近接触区域的一侧,多个外侧凹部配设于多个内侧凹部的外侧。
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