公开(公告)号：CN103250232B

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201180059328.5

申请日：2011-12-14

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 深泽和彦 ,  藤森义彦 ,  武田信介

IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01N21/94 ,  G03F7/20

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/94 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/95615 ,  G02B26/0808 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70783 ,  H01L22/12

Abstract: 提供一种能以短时间、高精度测量曝光时的聚焦状态的装置。表面检查装置1具有以照明系20照明具有既定图案的晶圆（wafer）10的表面并拍摄来自晶圆10的光所形成的影像的摄影装置35、储存关于显示影像的信号强度与聚焦偏移量的关系的聚焦曲线的信息(基准数据)的记忆部45、利用记忆部45中储存的基准数据从以摄影装置35拍摄的影像信号强度判定对晶圆10上的图案曝光时的聚焦状态的影像处理部40。

公开(公告)号：CN103250232A

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：CN201180059328.5

申请日：2011-12-14

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 深泽和彦 ,  藤森义彦 ,  武田信介

IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01N21/94 ,  G03F7/20

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/94 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/95615 ,  G02B26/0808 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70783 ,  H01L22/12

Abstract: 提供一种能以短时间、高精度测量曝光时的聚焦状态的装置。表面检查装置1具有以照明系20照明具有既定图案的晶圆（wafer）10的表面并拍摄来自晶圆10的光所形成的影像的摄影装置35、储存关于显示影像的信号强度与聚焦偏移量的关系的聚焦曲线的信息(基准数据)的记忆部45、利用记忆部45中储存的基准数据从以摄影装置35拍摄的影像信号强度判定对晶圆10上的图案曝光时的聚焦状态的影像处理部40。