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公开(公告)号：CN104936923A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201480004902.0
申请日：2014-01-08
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明涉及一种带层积膜玻璃基板的制造方法，它是使用具备熔融玻璃原料的熔融炉、使熔融玻璃浮在熔融金属上而对玻璃带进行成形的浮法锡槽、和对所述玻璃带进行退火的退火炉的玻璃制造装置，通过CVD法用设置在所述退火炉内的多个喷射器在所述玻璃带上形成层积膜，将所述玻璃带切断的带层积膜玻璃基板的制造方法；其特征在于，上述层积膜由2层以上的层构成，上述玻璃基板的形变温度Ts(℃)在550℃以上，在将上述玻璃基板的玻璃化温度设为Tg(℃)时，所述层积膜在Tg以下形成，在形成上述层积膜的全部层的温度范围内的上述玻璃带的每单位长度的下降温度K1为0℃/m＜K1＜10℃/m。
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公开(公告)号：CN104591523A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201410830179.3
申请日：2012-06-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β-OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β-OH之比为1.27以下。
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公开(公告)号：CN104364206A
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201380029604.2
申请日：2013-05-22
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供能够有效地抑制化学强化后的翘曲、并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃的制造方法。一种化学强化用浮法玻璃的制造方法，使熔融玻璃(1)流入熔融金属浴(5)中，在使熔融玻璃(1)在熔融金属浴(5)的浴面上前进并冷却的同时成形为板状，所述化学强化用浮法玻璃的制造方法中，在将流入熔融金属浴(5)中的熔融玻璃(1)的粘度设为η0、将距熔融金属浴(5)的上游端9.1m的下游处的熔融玻璃(1)的粘度设为η1时，η1-η0≥2.0×104(Pa·s)。
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公开(公告)号：CN106966609A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201710064138.1
申请日：2012-06-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57 , C03C21/002
Abstract: 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β‑OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β‑OH之比为1.27以下。
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公开(公告)号：CN104364206B
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201380029604.2
申请日：2013-05-22
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供能够有效地抑制化学强化后的翘曲、并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃的制造方法。一种化学强化用浮法玻璃的制造方法，使熔融玻璃(1)流入熔融金属浴(5)中，在使熔融玻璃(1)在熔融金属浴(5)的浴面上前进并冷却的同时成形为板状，所述化学强化用浮法玻璃的制造方法中，在将流入熔融金属浴(5)中的熔融玻璃(1)的粘度设为η0、将距熔融金属浴(5)的上游端9.1m的下游处的熔融玻璃(1)的粘度设为η1时，η1‑η0≥2.0×104(Pa·s)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103649003B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201280034422.X
申请日：2012-07-12
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C17/34
CPC classification number: C03C17/2456 , C03B25/08 , C03C17/002 , C23C16/45572 , C23C16/45595 , C23C16/46
Abstract: 将与玻璃带相对的各喷射器的相对面的面积S(m2)设定为满足S≤(0.0116×P×Cg×T)/{ε×F×σ(Tgla4?Tinj4)}。上式中，P为玻璃带的流量(吨/天)，Cg为玻璃的比热(J/(kg·℃))，T为从1个喷射器的入口到出口被冷却的玻璃带的允许下降温度(℃)，ε为辐射率，F为面对面的形状系数，σ为玻尔兹曼常数(5.67×10?8(W/m2·K4))，Tgla为使用以与K型热电偶接触的方式测定喷射器入口的玻璃带温度而得到的测定值Tin和以与K型热电偶接触的方式测定喷射器出口的玻璃带温度而得到的测定值Tout并用K＝(Tin+Tout)/2表示的玻璃带的温度(K)，Tinj为喷射器的相对面温度(K)。
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公开(公告)号：CN105579408A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201480053236.X
申请日：2014-09-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C21/002 , C03B18/02 , C03B25/093 , C03C3/087 , C03C15/00 , C03C21/007 , Y02P40/57
Abstract: 浮法玻璃的制造方法包括：将玻璃原料熔融的工序、使通过上述工序熔融的玻璃漂浮在熔融金属上的同时成形为玻璃带的工序、和对玻璃带进行缓冷的工序。在上述成形的工序中，向粘度为1.0×104～2.5×1010Pa·s的所述玻璃带喷吹含有存在有氟原子的分子的气体或液体。
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公开(公告)号：CN105579406A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201480053031.1
申请日：2014-09-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C21/00 , C03B18/02 , C03C21/002 , C03C23/00 , C03C23/007 , Y02P40/57
Abstract: 本发明涉及一种玻璃板，其为在厚度方向上相对的一个面的氟浓度大于另一个面的氟浓度的玻璃板，其满足下式(1)，并且，在将横轴设为深度且将纵轴设为氟浓度(摩尔％)的由二次离子质谱分析(SIMS)得到的深度方向分布曲线上，玻璃中所含的氟量大于0.23摩尔％·μm且小于等于21摩尔％·μm。在此，氟浓度为由SIMS得到的深度1～24μm范围内的平均氟浓度(摩尔％)。0.1≤△F/△H2O…(1)；(△F及△H2O记载在说明书中)。
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公开(公告)号：CN104591523B9
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201410830179.3
申请日：2012-06-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β-OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β-OH之比为1.27以下。
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公开(公告)号：CN103619764B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201280031658.8
申请日：2012-06-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β-OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β-OH之比为1.27以下。
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