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公开(公告)号：CN108884552B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201780019249.9
申请日：2017-03-02
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明提供一种技术，其为PVD法，却可将耐久性优异的厚膜的硬质碳膜成膜，并且可使经成膜的硬质碳膜的耐碎片性与耐磨损性并存，并且可改善低摩擦性与耐剥离性。一种被覆膜，其为被覆于基材的表面上的被覆膜，且在利用明视场TEM图像观察截面时，在厚度方向上交替层叠有相对地以白显示的白色的硬质碳层、与以黑显示的黑色的硬质碳层且具有超过1μm且50μm以下的总膜厚，并且白色的硬质碳层具有在厚度方向上呈柱状成长的区域。一种所述被覆膜的制造方法，其为使用PVD法在基材的表面上将被覆膜成膜的被覆膜的制造方法。
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公开(公告)号：CN106795619A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201480082002.8
申请日：2014-09-17
Abstract: 本发明提供一种不仅充分地改善低摩擦性与耐磨损性的并存而且也改善耐碎片性(耐缺损性)或耐剥离性的被覆膜及其制造方法以及PVD装置。一种被覆膜，被覆在基材的表面上，并且形成有在通过明视场TEM图像对截面进行观察时在相对于基材垂直的方向上相连呈柱状的硬质碳层，硬质碳层是使用PVD法而形成，在利用拉曼分光法对硬质碳层进行测定时，拉曼分光光谱的D频带与G频带的波峰的面积强度比ID/IG比为1～6。本发明的被覆膜的制造方法及装置使用电弧式PVD法，以将基材温度维持于250℃～400℃的方式控制偏向电压、电弧电流、加热器温度和/或炉内压力，并且一面使基材自转和/或公转一面在基材的表面上被覆硬质碳膜。
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公开(公告)号：CN108884552A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780019249.9
申请日：2017-03-02
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明提供一种技术，其为PVD法，却可将耐久性优异的厚膜的硬质碳膜成膜，并且可使经成膜的硬质碳膜的耐碎片性与耐磨损性并存，并且可改善低摩擦性与耐剥离性。一种被覆膜，其为被覆于基材的表面上的被覆膜，且在利用明视场TEM图像观察截面时，在厚度方向上交替层叠有相对地以白显示的白色的硬质碳层、与以黑显示的黑色的硬质碳层且具有超过1μm且50μm以下的总膜厚，并且白色的硬质单素层具有在厚度方向上呈柱状成长的区域。一种被覆膜的制造方法，其为使用PVD法在基材的表面上将被覆膜成膜的被覆膜的制造方法，且以基材在超过50℃且小于250℃的低温区域与250℃以上且400℃以下的高温区域之间交替重复进行升温与降温的方式控制对基材的成膜条件，并且使基材自转和/或公转。
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公开(公告)号：CN111788328A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201980016129.2
申请日：2019-03-06
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明提供一种耐破坏性、耐剥离性优异，即使用于滑动时反复产生大的接触应力的用途的情况下，也可发挥优异的密合性，并具有充分的耐久性的被膜及其形成方法。一种复合被膜，包覆在基材上，在下层形成有氢含量不足5at％、膜厚为200nm～1000nm的硬质碳膜A，在上层形成有氢含量为5at％～30at％、膜厚为210nm～5000nm、杨氏模量大于200GPa的硬质碳膜B，硬质碳膜A与硬质碳膜B直接层叠。
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公开(公告)号：CN108368602B
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN201680073541.4
申请日：2016-12-16
Abstract: 提供一种技术，其为PVD法，却可将耐久性优异的厚膜的硬质碳膜成膜，并且可使经成膜的硬质碳膜的耐碎片性与耐磨损性并存，并且可改善低摩擦性与耐剥离性。一种被覆膜，其为被覆于基材的表面上的被覆膜，且在利用明视场TEM图像观察截面时，在厚度方向上交替层叠有相对地以白显示的白色的硬质碳层、与以黑显示的黑色的硬质碳层且具有超过1μm且50μm以下的总膜厚，并且白色的硬质碳层具有在厚度方向上呈扇状成长的区域。一种被覆膜的制造方法，其为使用PVD法在基材的表面上将所述被覆膜成膜的制造方法。一种PVD装置，其为所述的被覆膜的制造方法中使用的电弧式物理气相沉积装置。一种活塞环，其至少在外周滑动面上具有所述的被覆膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119156265A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202380034949.0
申请日：2023-04-25
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明实现一种在广泛的加工条件下稳定地发挥高性能的硬质被膜等。一种硬质被膜(12)，包括包含AlxCr1‑xN的A层(A1～An)与包含Ti1‑ySiyN的B层(B1～Bn)交替层叠而成的结构，在将交替层叠而成的所述A层与所述B层的一组的组合设为C层(C1～Cn)时，所述C层的厚度为7nm以上且18nm以下，所述C层的厚度的合计为1μm以上且6μm以下，所述A层以及所述B层的厚度分别小于10nm。(此处，所述x为0.6以上且0.7以下，所述y超过0.05且小于0.08)。
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公开(公告)号：CN107075659B
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201480082001.3
申请日：2014-09-17
Abstract: 本发明提供一种不仅充分地改善低摩擦性与耐磨损性的并存且改善耐碎片性或耐剥离性的被覆膜及其制造方法以及PVD装置。一种被覆膜，被覆在基材的表面上，且具有在通过明视场TEM图像对截面进行观察时相对地以黑白显示的硬质碳，白色的硬质碳在厚度方向上相连成网格状、黑色的硬质碳分散在网格的间隙中的网格状硬质碳层是使用PVD法而形成，在利用拉曼分光法对网格状硬质碳层进行测定时，拉曼分光光谱的D频带与G频带的波峰的面积强度比ID/IG比为1～6。本发明使用电弧式PVD法，以将基材温度维持于超过200℃且为300℃以下的方式控制偏向电压、电弧电流、加热器温度等，并且一面使基材自转和/或公转一面在基材的表面上被覆硬质碳膜。
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公开(公告)号：CN110770362A
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201880040572.9
申请日：2018-06-15
Abstract: 本发明的课题是提供具有示出一定且稳定的抗削性和耐磨损性、并且耐剥离性(密合性)优异的包覆膜的滑动构件、及该包覆膜。其解决方法是滑动构件(10)，其在基材(11)的滑动面(16)具有由硬质碳层形成的包覆膜(1)，上述包覆膜(1)如下所述地构成：通过明视野TEM图像观察包覆膜(1)的剖面时，包含相对地由黑色表示的黑色硬质碳层(B)和相对地由白色表示的白色硬质碳层(W)的重复单元在厚度方向上层叠，且具有1μm～50μm的范围内的厚度，包覆膜(1)具有设置于基材侧的倾斜区域(2)和设置于滑动构件(10)的表面侧的均质区域(3)，在上述倾斜区域(2)，重复单元中的白色硬质碳层(W)的厚度在厚度方向上逐渐变大，在上述均质区域(3)，重复单元中的白色硬质碳层(W)的厚度在厚度方向上相同或大致相同，从而解决了上述问题。
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公开(公告)号：CN107075659A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201480082001.3
申请日：2014-09-17
Abstract: 本发明提供一种不仅充分地改善低摩擦性与耐磨损性的并存且改善耐碎片性或耐剥离性的被覆膜及其制造方法以及PVD装置。一种被覆膜，被覆在基材的表面上，且具有在通过明视场TEM图像对截面进行观察时相对地以黑白显示的硬质碳，白色的硬质碳在厚度方向上相连成网格状、黑色的硬质碳分散在网格的间隙中的网格状硬质碳层是使用PVD法而形成，在利用拉曼分光法对网格状硬质碳层进行测定时，拉曼分光光谱的D频带与G频带的波峰的面积强度比ID/IG比为1～6。本发明的被覆膜的制造方法及装置使用电弧式PVD法，以将基材温度维持于超过200℃且为300℃以下的方式控制偏向电压、电弧电流、加热器温度等，并且一面使基材自转和/或公转一面在基材的表面上被覆硬质碳膜。
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公开(公告)号：CN106661715A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580040273.1
申请日：2015-07-16
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明提供一种可抑制阴极物质破裂的等离子体装置。等离子体装置10包括真空容器1、电弧式蒸发源3、阴极构件4、永久磁铁5、电源7、触发电极8及挡板12。电弧式蒸发源3在真空容器1的侧壁上与基板20相对向而固定。阴极构件4包含具有突起部的玻璃状碳，安装于电弧式蒸发源3上。突起部具有大于0.785mm2的剖面积。永久磁铁5对阴极构件4施加磁场。电源7对电弧式蒸发源3施加负的电压。触发电极8与阴极构件4的突起部接触或背离。对电弧式蒸发源3施加负的电压，使触发电极8与阴极构件4的突起部接触而产生电弧放电，打开挡板12而在基板20上形成碳薄膜。
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