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公开(公告)号：CN109844171A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201780061663.6
申请日：2017-10-02
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述用于将在群集工具的相邻的处理腔室之间的电磁干扰最小化的方法和设备。基于主处理腔室的电磁工艺窗口、第一相邻的处理腔室和可选择的第二相邻的处理腔室的电磁窗口来控制主配方的开始时间。控制主处理腔室的开始时间以避免主腔室的电磁窗口与相邻的腔室的电磁窗口的时间重叠。
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公开(公告)号：CN118127471A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410177120.2
申请日：2016-10-27
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 在本文描述的一些实施方式中，提供一种可偏压准直器。使所述准直器偏压的能力允许控制溅射物质所穿过的电场。在本公开内容的一些实施方式中，提供了一种具有高有效深宽比，同时维持沿所述准直器的六边形阵列的所述准直器周边的低深宽比的准直器。在一些实施方式中，提供了在六边形阵列中带有陡峭入口边缘的准直器。已经发现，在所述准直器中使用陡峭入口边缘减少了所述六边形阵列的单元的沉积突悬和沉积堵塞。这些各种特征使得膜均匀性得到改善并且延长了所述准直器和工艺配件的寿命。
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公开(公告)号：CN110438464A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201910698016.7
申请日：2016-10-27
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 在本文描述的一些实施方式中，提供一种可偏压准直器。使所述准直器偏压的能力允许控制溅射物质所穿过的电场。在本公开内容的一些实施方式中，提供了一种具有高有效深宽比，同时维持沿所述准直器的六边形阵列的所述准直器周边的低深宽比的准直器。在一些实施方式中，提供了在六边形阵列中带有陡峭入口边缘的准直器。已经发现，在所述准直器中使用陡峭入口边缘减少了所述六边形阵列的单元的沉积突悬和沉积堵塞。这些各种特征使得膜均匀性得到改善并且延长了所述准直器和工艺配件的寿命。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106987815A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201610958470.8
申请日：2016-10-27
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/3447 , C23C14/046 , H01J37/34 , C23C14/3407 , C23C14/35 , C23C14/542
Abstract: 在本文描述的一些实施方式中，提供一种可偏压准直器。使所述准直器偏压的能力允许控制溅射物质所穿过的电场。在本公开内容的一些实施方式中，提供了一种具有高有效深宽比，同时维持沿所述准直器的六边形阵列的所述准直器周边的低深宽比的准直器。在一些实施方式中，提供了在六边形阵列中带有陡峭入口边缘的准直器。已经发现，在所述准直器中使用陡峭入口边缘减少了所述六边形阵列的单元的沉积突悬和沉积堵塞。这些各种特征使得膜均匀性得到改善并且延长了所述准直器和工艺配件的寿命。
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公开(公告)号：CN118127470A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410177114.7
申请日：2016-10-27
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 在本文描述的一些实施方式中，提供一种可偏压准直器。使所述准直器偏压的能力允许控制溅射物质所穿过的电场。在本公开内容的一些实施方式中，提供了一种具有高有效深宽比，同时维持沿所述准直器的六边形阵列的所述准直器周边的低深宽比的准直器。在一些实施方式中，提供了在六边形阵列中带有陡峭入口边缘的准直器。已经发现，在所述准直器中使用陡峭入口边缘减少了所述六边形阵列的单元的沉积突悬和沉积堵塞。这些各种特征使得膜均匀性得到改善并且延长了所述准直器和工艺配件的寿命。
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公开(公告)号：CN112030123A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN202010731212.2
申请日：2016-10-27
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 在本文描述的一些实施方式中，提供一种可偏压准直器。使所述准直器偏压的能力允许控制溅射物质所穿过的电场。在本公开内容的一些实施方式中，提供了一种具有高有效深宽比，同时维持沿所述准直器的六边形阵列的所述准直器周边的低深宽比的准直器。在一些实施方式中，提供了在六边形阵列中带有陡峭入口边缘的准直器。已经发现，在所述准直器中使用陡峭入口边缘减少了所述六边形阵列的单元的沉积突悬和沉积堵塞。这些各种特征使得膜均匀性得到改善并且延长了所述准直器和工艺配件的寿命。
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公开(公告)号：CN206418192U
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201621180242.4
申请日：2016-10-27
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/3447 , C23C14/046 , H01J37/34
Abstract: 本公开内容提供了一种准直器、一种准直器组件以及一种基板处理腔室。在本文描述的一些实施方式中，提供一种可偏压准直器。使所述准直器偏压的能力允许控制溅射物质所穿过的电场。在本公开内容的一些实施方式中，提供了一种具有高有效深宽比，同时维持沿所述准直器的六边形阵列的所述准直器周边的低深宽比的准直器。在一些实施方式中，提供了在六边形阵列中带有陡峭入口边缘的准直器。已经发现，在所述准直器中使用陡峭入口边缘减少了所述六边形阵列的单元的沉积突悬和沉积堵塞。这些各种特征使得膜均匀性得到改善并且延长了所述准直器和工艺配件的寿命。
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