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公开(公告)号：CN113245564B
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110654056.9
申请日：2021-06-11
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请公开了一种局部惰性气体保护系统，包括：保护框架框设在打印基板的外周，并且保护框架的最小高度大于或等于构件的高度，以形成覆盖打印基板工作区域的保护气腔体；保护框架内部设有气流通道，保护框架的内侧环周设有气流入口，保护框架的外侧设有气流出口，气流入口、气流通道和气流出口依次连通，气流出口连接有气体循环系统；保护气输出机构相对熔覆头固定设置，其用于往保护气腔体输送惰性气体，气体循环系统用于不断地抽走保护气腔体内的气体，以使保护气腔体内形成惰性气体气流。本申请的局部惰性气体保护系统，能够对3D打印设备的打印工作区域进行局部的动态惰性气体保护，避免了打开密闭空间后需重新洗气的问题，提高了工作效率。
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公开(公告)号：CN116408242A
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202310678624.8
申请日：2023-06-09
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本公开涉及电气元件生产设备技术领域，尤其涉及一种涂布设备及包括其的电气元件制作系统，涂布设备包括载台、模头组件和真空排气组件，模头组件包括涂头和密封件，涂头相对于载台可移动；涂头内形成有液体容纳腔，真空排气组件与液体容纳腔连通，用于对液体容纳腔抽真空；涂头上开设有连通液体容纳腔的出液口，密封件设置在出液口处，且相对于涂头可移动，以使密封件密封出液口，或者对出液口解除密封，从而能够通过真空压强将涂布材料内部的气泡脱出并排出液体容纳腔，实现了在通过涂头进行涂布之前在涂头中就对涂布材料进行了脱泡，因此大大减少了涂布过程中膜层内出现气泡的概率，进一步提升了涂布的效果，保证了成品率。
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公开(公告)号：CN113770390B
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202111009855.7
申请日：2021-08-31
Applicant: 季华实验室
IPC: B22F10/25 , B22F10/50 , B22F12/90 , B22F12/47 , B22F12/48 , B22F10/31 , B22F10/85 , B33Y30/00 , B33Y10/00
Abstract: 本发明公开一种用于等轴晶构件成型的增材制造设备以及方法，该增材制造设备包括激光打印模块、轧制模块和实时检测模块；所述激光打印模块包括熔覆头、打印驱动机构和用于调节熔覆头的姿态的熔覆姿态调整机构，所述熔覆姿态调整机构设置在打印驱动机构上，该熔覆姿态调整机构包括熔覆竖向调整机构和熔覆旋转调整机构，所述熔覆头设置在熔覆竖向调整机构上；所述轧制模块包括轧辊，所述轧辊设置在打印驱动机构上；所述实时检测模块包括压力检测模块和温度检测模块，所述压力检测模块与控制模块电连接，所述控制模块与熔覆姿态调整机构电连接。本发明能够调节轧制的相对加工位置或姿态，可以获得性能可靠的等轴晶，有效提高增材制造产品的质量。
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公开(公告)号：CN113245564A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN202110654056.9
申请日：2021-06-11
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请公开了一种局部惰性气体保护系统，包括：保护框架框设在打印基板的外周，并且保护框架的最小高度大于或等于构件的高度，以形成覆盖打印基板工作区域的保护气腔体；保护框架内部设有气流通道，保护框架的内侧环周设有气流入口，保护框架的外侧设有气流出口，气流入口、气流通道和气流出口依次连通，气流出口连接有气体循环系统；保护气输出机构相对熔覆头固定设置，其用于往保护气腔体输送惰性气体，气体循环系统用于不断地抽走保护气腔体内的气体，以使保护气腔体内形成惰性气体气流。本申请的局部惰性气体保护系统，能够对3D打印设备的打印工作区域进行局部的动态惰性气体保护，避免了打开密闭空间后需重新洗气的问题，提高了工作效率。
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公开(公告)号：CN112496344B
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN202110141684.7
申请日：2021-02-02
Applicant: 季华实验室
IPC: B22F10/28 , B22F10/50 , B22F10/85 , B22F10/32 , B22F12/00 , B22F10/22 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/02
Abstract: 发明公开了一种直接金属沉积增材制造设备，包括可移动的支撑平台；直接金属沉积系统，包含熔覆头，该熔覆头由安装在支撑平台附近的多轴机械臂控制，多轴机械臂可以根据要求实时移动熔覆头；中央处理器集成计算机数控系统，以使直接金属沉积系统沉积连续的金属沉积层以构建或修复所述构件。本发明的直接金属沉积增材制造设备，中央处理器在闭环控制下，通过对支撑平台和多轴机械臂联合控制实现增材制造，以使每一连续沉积的金属层能够依据构件的3D模型，对所述构件进行增材制造和修复。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118268208A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202410683218.5
申请日：2024-05-30
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种面板涂胶装置，涉及液晶面板技术领域，进料平台用于放置玻璃基板，进料平台上设有第一气浮组件，第一气浮组件用于使基板悬浮于进料平台上；涂覆平台与进料平台连接，涂覆平台上设有第二气浮组件，第二气浮组件用于在基板与涂覆平台之间形成气膜，气膜用于调整基板的高度；涂胶模头用于对基板的表面进行涂层；吸附头设置在进料平台的边缘，吸附头用于吸附基板的边缘；传动组件设置在进料平台边缘，传动组件与吸附头连接，传动组件用于驱动吸附头移动，吸附头移动时，带动基板从进料平台转移至涂覆平台。本发明技术方案提高涂胶精度，避免产生静电与微粒，提高涂胶效果及涂胶质量。
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公开(公告)号：CN115233210A
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202210529636.X
申请日：2022-05-16
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请公开了一种激光熔覆方法、系统以及气体保护设备，所述激光熔覆方法应用于激光熔覆系统，激光熔覆系统包括超大型激光熔覆设备和气体保护设备，所述激光熔覆方法包括：将基板通过进出料舱送入密封舱，在密封舱的打印区放置基板；将密封舱密封，调节密封舱的气体环境，当密封舱内的氧气含量达到预设标准含量时，启动超大型激光熔覆设备，对基板进行激光熔覆，得到打印工件；调节进出料舱的气体环境，将打印工件从打印区取出至进出料舱，并在打印区放置新的基板，将密封舱密封，启动超大型激光熔覆设备，对新的基板进行激光熔覆。本申请解决了现有技术对激光熔覆过程进行气体保护的成本较高的技术问题。
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公开(公告)号：CN115138877A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202210738220.9
申请日：2022-06-27
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种3D打印零件的清粉装置及清粉方法，清粉装置包括箱体、清粉机器人及支撑机构，箱体内部形成有容纳3D打印零件、清粉机器人及支撑机构的密封腔，密封腔具有通道，通道处密封盖设有密封门，支撑机构包括摆动组件和旋转组件，摆动组件包括摆动驱动件和与密封腔的腔壁活动连接的摆动架，旋转组件包括旋转驱动件及固定3D打印零件的旋转架，旋转架与摆动架活动连接，摆动驱动件驱动摆动架相对密封腔的腔壁摆动，旋转驱动件驱动旋转架相对摆动架转动，清粉机器人具有对3D打印零件进行粉末清理的清粉头，清粉机器人包括均与清粉头、摆动驱动件及旋转驱动件电连接的控制器。本发明的清粉装置可改善3D打印零件的清粉效果，提高清粉效率。
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公开(公告)号：CN112496344A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN202110141684.7
申请日：2021-02-02
Applicant: 季华实验室
IPC: B22F10/28 , B22F10/50 , B22F10/85 , B22F10/32 , B22F12/00 , B22F10/22 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/02
Abstract: 发明公开了一种直接金属沉积增材制造设备，包括可移动的支撑平台；直接金属沉积系统，包含熔覆头，该熔覆头由安装在支撑平台附近的多轴机械臂控制，多轴机械臂可以根据要求实时移动熔覆头；中央处理器集成计算机数控系统，以使直接金属沉积系统沉积连续的金属沉积层以构建或修复所述构件。本发明的直接金属沉积增材制造设备，中央处理器在闭环控制下，通过对支撑平台和多轴机械臂联合控制实现增材制造，以使每一连续沉积的金属层能够依据构件的3D模型，对所述构件进行增材制造和修复。
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公开(公告)号：CN119165748A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202411453522.7
申请日：2024-10-17
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种加热固化装置、加热固化设备和加热固化方法，涉及液晶面板光刻胶加热固化技术领域，其中，加热固化装置包括加热仓、加热装置和支撑组件，加热仓内形成有加热腔，加热仓的外壁设置有与加热腔连通的开口；加热装置位于加热腔中，加热装置包括均热板组件和温控组件，均热板组件包括多个复合板，加热腔包括多个加热空间，各加热空间均有至少一复合板对应设置，各复合板均有至少一温控组件对应设置。温控组件用于根据加热空间的温度调节对应的复合板的温度，以使各加热空间的温度在预设温度范围；使得物料上各区域的光刻胶的挥发速度基本趋于一致，提升了光刻胶薄膜的均匀性，进而提升了OLED显示屏的亮度的均匀性。
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