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公开(公告)号:CN115609450B
公开(公告)日:2025-02-11
申请号:CN202211206757.7
申请日:2022-09-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开一种用于抛光大口径的单晶碳化硅的抛光装置,该抛光装置包括:夹具、机器人,磨盘和抛光部;夹具用于固定大口径的单晶碳化硅;机器人具有移动部;磨盘与移动部连接,移动部带动磨盘移动,用于对大口径的单晶碳化硅的曲面进行打磨;抛光部对应于大口径的单晶碳化硅的平面设置,抛光部能够转动用于对大口径的单晶碳化硅的平面进行打磨,且抛光部的面积大于大口径的单晶碳化硅的平面的面积。本发明技术方案中,机器人带动磨盘对大口径的单晶碳化硅的曲面打磨,抛光部转动对大口径的单晶碳化硅的平面打磨,能够满足双面抛光;同时抛光部的面积大于大口径的单晶碳化硅的平面的面积能够满足对大口径的单晶碳化硅的打磨条件。
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公开(公告)号:CN119246023A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202411767249.5
申请日:2024-12-04
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种非球面反射镜的光轴检测装置及方法,涉及光学测量技术领域,所述非球面反射镜光轴的检测装置包括固定座、干涉仪、激光跟踪仪以及信息处理设备;固定座用以固定待检测的非球面反射镜,固定座固定非球面反射镜时,非球面反射镜的轴线沿左右向延伸;干涉仪设置于固定座的侧方,且沿上下向、左右向以及前后向活动设置,干涉仪的光源件朝向固定座设置,以朝非球面反射镜发出测量波;激光跟踪仪包括靶球,靶球能够在干涉仪与固定座之间沿上下向、左右向以及前后向活动,并能与非球面反射镜的周侧面相抵;本发明的技术方案能在不损伤镜面的前提下快速方便地确定大口径非球面反射镜的光轴位置。
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公开(公告)号:CN119260528A
公开(公告)日:2025-01-07
申请号:CN202411787887.3
申请日:2024-12-06
Applicant: 季华实验室
IPC: B24B13/005 , B24B1/00 , B24B13/00 , B24B41/00
Abstract: 本发明涉及光学镜片加工技术领域,特别是一种夹持装置、离子束修形设备及加工方法,其包括底座和夹持组件,所述底座上设有安装工位,所述安装工位用于放置待将加工的镜片,所述底座上设有导轨,所述导轨设置多个,所述导轨沿所述安装工位的中心径向设置,所述夹持组件设置多个,每个所述夹持组件一一对应地设置在所述导轨上,所述夹持组件包括滑块、伸缩单元、旋转单元和支撑板,所述滑块与所述导轨滑动连接,所述伸缩单元的固定部与所述滑块固定连接,所述旋转单元设置在所述伸缩单元的伸缩部上,所述支撑板设置在所述旋转单元的旋转部上。避免了夹持装置对工件表面产生遮挡影响最终加工精度的问题,能够保证离子束修形的加工精度。
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公开(公告)号:CN116579183B
公开(公告)日:2024-04-05
申请号:CN202310767010.7
申请日:2023-06-27
Applicant: 季华实验室
IPC: G06F30/20 , G06F119/14
Abstract: 本申请属于反射镜加工的技术领域,公开了一种反射镜加工分析方法、装置、电子设备及存储介质,该方法包括:获取反射镜的第一结构数据、辅助支撑环的第二结构数据,构建对应的反射镜模型和支撑环模型,根据预设的极限抗压阈值,调整反射镜模型的刀具加工力矩,确定反射镜的加工应力,通过辅助支撑方法,基于反射镜模型和支撑环模型,结合预设的共振频率范围,计算得到反射镜的镜面频率及对应的辅助支撑环的厚度,汇总反射镜的加工应力、反射镜的镜面频率和辅助支撑环的厚度,生成反射镜的加工分析结果数据,通过反射镜的加工应力和镜面频率以及辅助支撑环的厚度,对反射镜的加工进行分析,提高了反射镜的加工效率。
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公开(公告)号:CN117140203A
公开(公告)日:2023-12-01
申请号:CN202311409197.X
申请日:2023-10-27
Applicant: 季华实验室
IPC: B24B1/00 , B24B13/00 , B24B31/112 , B24B31/12 , B24B13/005
Abstract: 本发明公开了一种轻量化光学镜片的磁流变抛光固定装置以及固定方法,属于镜片抛光技术领域。固定装置包括配重块,配重块设有第一收纳槽,第一收纳槽用于依次对光学镜片的支撑座、连接轴和镜体进行收纳;第一收纳槽的槽底设有第二固定孔,第二固定孔能够供第一固定件进入第一收纳槽并与支撑座上的第一固定孔连接固定;第一收纳槽的槽壁能够与镜体上背向光学面延伸设置的侧壁相抵接;配重块的顶面围绕第一收纳槽形成有曲率半径与光学面一致的过渡面,过渡面能够与光学面相互拼接。本发明的优点在于,能够对光学镜片的重量进行补偿和对光学镜片的不规则结构进行填补,使光学镜片更容易定心和固定,从而满足超精密抛光的工装要求。
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公开(公告)号:CN115648036A
公开(公告)日:2023-01-31
申请号:CN202211206520.9
申请日:2022-09-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开一种用于抛光双面曲面单晶碳化硅的抛光装置及抛光方法,该用于抛光双面曲面单晶碳化硅的抛光装置包括:夹具,两个机器人和两个磨盘,所述夹具用于固定所述双面曲面单晶碳化硅;两个所述机器人均具有移动部;两个所述磨盘分别与两个所述移动部一一连接,所述移动部带动所述磨盘移动,用于对所述双面曲面单晶碳化硅的曲面进行打磨。本发明技术方案中,两个移动部带动两个所述磨盘分别移动,用于对所述双面曲面单晶碳化硅的曲面同时进行打磨,不仅能够满足对双面曲面单晶碳化硅的打磨条件,还能够双面抛光,提高对双面曲面单晶碳化硅的打磨效率。
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公开(公告)号:CN119260484A
公开(公告)日:2025-01-07
申请号:CN202411787884.X
申请日:2024-12-06
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及抛光设备领域,公开了一种磁流变抛光机,包括:储液箱;加工机构,其包括第一抛光组件与第一喷液组件,第一抛光组件具有可沿三维方向活动的第一抛光轮与第一磁场发生器,第一喷液组件包括第一输送泵、第一分散器、第一喷嘴与第一收集器,第一分散器的输入端通过管路连接于储液箱,第一分散器的输出端通过管路连接于第一喷嘴的输入端,第一喷嘴的输出端朝向第一抛光轮的底部一侧,第一输送泵设置于储液箱与第一分散器的管路上,第一收集器位于第一抛光轮的底部另一侧,第一分散器内设置有第一挡流板,本发明有效减轻第一输送泵产生的脉动现象,有效提高磁流变抛光的加工精度。
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公开(公告)号:CN116579183A
公开(公告)日:2023-08-11
申请号:CN202310767010.7
申请日:2023-06-27
Applicant: 季华实验室
IPC: G06F30/20 , G06F119/14
Abstract: 本申请属于反射镜加工的技术领域,公开了一种反射镜加工分析方法、装置、电子设备及存储介质,该方法包括:获取反射镜的第一结构数据、辅助支撑环的第二结构数据,构建对应的反射镜模型和支撑环模型,根据预设的极限抗压阈值,调整反射镜模型的刀具加工力矩,确定反射镜的加工应力,通过辅助支撑方法,基于反射镜模型和支撑环模型,结合预设的共振频率范围,计算得到反射镜的镜面频率及对应的辅助支撑环的厚度,汇总反射镜的加工应力、反射镜的镜面频率和辅助支撑环的厚度,生成反射镜的加工分析结果数据,通过反射镜的加工应力和镜面频率以及辅助支撑环的厚度,对反射镜的加工进行分析,提高了反射镜的加工效率。
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公开(公告)号:CN115609450A
公开(公告)日:2023-01-17
申请号:CN202211206757.7
申请日:2022-09-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开一种用于抛光大口径的单晶碳化硅的抛光装置,该抛光装置包括:夹具、机器人,磨盘和抛光部;夹具用于固定大口径的单晶碳化硅;机器人具有移动部;磨盘与移动部连接,移动部带动磨盘移动,用于对大口径的单晶碳化硅的曲面进行打磨;抛光部对应于大口径的单晶碳化硅的平面设置,抛光部能够转动用于对大口径的单晶碳化硅的平面进行打磨,且抛光部的面积大于大口径的单晶碳化硅的平面的面积。本发明技术方案中,机器人带动磨盘对大口径的单晶碳化硅的曲面打磨,抛光部转动对大口径的单晶碳化硅的平面打磨,能够满足双面抛光;同时抛光部的面积大于大口径的单晶碳化硅的平面的面积能够满足对大口径的单晶碳化硅的打磨条件。
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公开(公告)号:CN117140203B
公开(公告)日:2024-02-13
申请号:CN202311409197.X
申请日:2023-10-27
Applicant: 季华实验室
IPC: B24B1/00 , B24B13/00 , B24B31/112 , B24B31/12 , B24B13/005
Abstract: 本发明公开了一种轻量化光学镜片的磁流变抛光固定装置以及固定方法,属于镜片抛光技术领域。固定装置包括配重块,配重块设有第一收纳槽,第一收纳槽用于依次对光学镜片的支撑座、连接轴和镜体进行收纳;第一收纳槽的槽底设有第二固定孔,第二固定孔能够供第一固定件进入第一收纳槽并与支撑座上的第一固定孔连接固定;第一收纳槽的槽壁能够与镜体上背向光学面延伸设置的侧壁相抵接;配重块的顶面围绕第一收纳槽形成有曲率半径与光学面一致的过渡面,过渡面能够与光学面相互拼接。本发明的优点在于,能够对光学镜片的重量进行补偿和对光学镜片的不规则结构进行填补,使光学镜片更容易定心和固定,从而满足超精密抛光的工装要求。
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