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公开(公告)号:CN119238225A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202411770004.8
申请日:2024-12-04
Applicant: 季华实验室
IPC: B24B1/00 , B24B13/00 , B24B13/005 , B24B55/00
Abstract: 本发明涉及离子束抛光设备技术领域,特别是一种离子束抛光装置,其包括真空箱、第一抛光机构、第二抛光机构和夹持机构,真空箱内设有安装空间,第二抛光机构与第一抛光机构对称设置在安装空间中,所述夹持机构包括夹紧组件和固定组件,固定组件设置在真空箱的内底面,夹紧组件包括两个升降套筒、两个伸缩杆和两个夹具,升降套筒与固定组件滑动连接使得升降套筒上下调节,伸缩杆连接升降套筒和夹具,夹具用于固定透镜。本发明可以在一个真空环境中完成透镜的双面抛光作业,减少了翻转透镜和重新抽真空的次数,从而显著提高了抛光效率,夹紧组件和固定组件互相配合,确保了整个夹紧过程的稳定性和可重复性。
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公开(公告)号:CN119260484A
公开(公告)日:2025-01-07
申请号:CN202411787884.X
申请日:2024-12-06
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及抛光设备领域,公开了一种磁流变抛光机,包括:储液箱;加工机构,其包括第一抛光组件与第一喷液组件,第一抛光组件具有可沿三维方向活动的第一抛光轮与第一磁场发生器,第一喷液组件包括第一输送泵、第一分散器、第一喷嘴与第一收集器,第一分散器的输入端通过管路连接于储液箱,第一分散器的输出端通过管路连接于第一喷嘴的输入端,第一喷嘴的输出端朝向第一抛光轮的底部一侧,第一输送泵设置于储液箱与第一分散器的管路上,第一收集器位于第一抛光轮的底部另一侧,第一分散器内设置有第一挡流板,本发明有效减轻第一输送泵产生的脉动现象,有效提高磁流变抛光的加工精度。
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